专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]负性光敏性树脂组合物-CN201410748626.0有效
  • 朴京在;金承根;金应坤 - 罗门哈斯电子材料韩国有限公司
  • 2014-12-09 - 2022-08-23 - G03F7/027
  • 本文批露了一种负性光敏性树脂组合物,其包括(A)共聚物,该共聚物包括(a1)衍生自烯键式不饱和羧酸,烯键式不饱和羧酸酸酐,或其混合物的结构单元,(a2)衍生自具有脂环族环氧基团的不饱和单体的结构单元,和(a3)衍生自烯键式不饱和化合物的结构单元,其不同于结构单元(a1)和(a2);(B)可聚合的不饱和化合物;(C)光聚合引发剂;和(D)具有通式(I)的硅烷偶联剂。所述光敏性树脂组合物可提供固化的膜,其在热固化步骤之后具有优异的保留率和改善的半色调边缘和分辨率,因为当在半色调图案中形成时,它具有优异的与基片的粘附,这可用作用于OLED和LCD的绝缘膜。
  • 光敏树脂组合
  • [发明专利]一体型研磨垫及其制造方法-CN03158605.8有效
  • 许铉;李尚目;宋基千;金承根;孙镀权 - 韩国珀利尔有限公司
  • 2003-09-17 - 2004-05-12 - B24D11/00
  • 一种一体型研磨垫,包括弹性支持层和形成在所述弹性支持层的上方且硬度比所述弹性支持层的硬度更高的研磨层,且所述弹性支持层和所述研磨层是由相互之间具有化学相溶性的材料构成,在所述弹性支持层和所述研磨层之间不存在结构性边界部。另外,本发明的研磨垫具备对被研磨对象的表面状态检测用光源透明且与其他的研磨垫的结构部件成为一体型的透明区域。由于本发明的研磨垫的平坦化效率高、研磨垫的物性均匀,所以在研磨工序中可稳定地使用。另外,不会发生研磨料浆的沉积,移动和输送容易,并成为一体型,所以不需要用于连接各结构部件的粘接剂或连接工序,从而制造工序变简单。
  • 体型研磨及其制造方法

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