专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]基于SOI硅片的硅纳米线阵列式加速度计及其制备工艺-CN202211320069.3在审
  • 杨勋;郑驰霖;刘超然;郭礼康 - 西华师范大学
  • 2022-10-26 - 2023-03-10 - B81C1/00
  • 本发明涉及基于SOI硅片的硅纳米线阵列式加速度计及其制备工艺。本发明将采用底层硅为100型的(111)SOI硅片,利用(111)型硅片和(100)型硅片晶向分布不同的特点,通过各向异性腐蚀、自限制热氧化和离子注入等工艺制备出高质量高成品率的加速度计。工艺保留了硅片表面的氮化硅层,使其有效地保护硅纳米线不因各种原因断裂,大大提高了硅纳米线器件的长期稳定性。另外,本发明采用氮化硅薄膜和硅纳米线共同支撑质量块,采用单晶硅纳米线替代传统的压敏电阻作为敏感单元,由于硅纳米线压阻系数比压敏电阻压阻系数更高,本发明的硅纳米线加速度计具有更高的灵敏度。
  • 基于soi硅片纳米阵列加速度计及其制备工艺
  • [发明专利]一种硅纳米线陀螺仪及其加工工艺-CN202211320068.9在审
  • 杨勋;郑驰霖;刘超然;郭礼康 - 西华师范大学
  • 2022-10-26 - 2023-02-03 - G01C19/00
  • 本发明涉及一种硅纳米线陀螺仪及其加工工艺。硅纳米线陀螺仪包括SOI硅片,SOI硅片包括顶层硅、中间的埋氧层和底层的体硅,顶层硅表面设有氮化硅薄膜;其中,顶层硅形成有悬空的质量块及其连接的三条硅纳米线,硅纳米线沿质量块的周侧分布;质量块及硅纳米线的表面均附着有氮化硅薄膜;顶层硅之上设有与体硅导电连接的正、负电极;SOI硅片还具有从氮化硅薄膜刻蚀至埋氧层的隔离沟道,以实现正、负电极的物理隔绝。本发明的硅纳米线陀螺仪,由三条硅纳米线和氮化硅薄膜共同支撑一个锥体质量块作为陀螺仪的结构,采用单晶硅纳米线代替传统的压敏电阻作为敏感单元,由于硅纳米线压阻系数比压敏电阻压阻系数高的特点,具有更高的灵敏度。
  • 一种纳米陀螺仪及其加工工艺
  • [发明专利]一种基于SOI硅片的硅纳米线陀螺仪的制备方法-CN202211096126.4在审
  • 刘超然;郭礼康;杨勋;郑驰霖;李梦洁;董林玺;王高峰 - 杭州电子科技大学
  • 2022-09-06 - 2022-11-11 - B81C1/00
  • 本发明涉及一种基于SOI硅片的硅纳米线陀螺仪的制备方法,选取SOI硅片,在其顶层硅表面制备氮化硅薄膜,形成介质掩膜层;在介质掩膜层形成三个三角形图案,并刻蚀图案处的氮化硅形成三个三角形窗口;之后对三角形窗口处的硅进行干法刻蚀,制得三个深度一致的竖直三角形槽;刻蚀竖直三角形槽下的氧化层,接着再刻蚀底层硅;对竖直三角形槽进行各向异性湿法腐蚀,形成六边形腐蚀槽,且相邻的六边形腐蚀槽之间形成单晶硅薄壁结构,三个六边形腐蚀槽中间出现两个相对的锥体结构;100晶向的底层硅出现腐蚀槽将顶层硅上的相连的锥体结构释放构成质量块,得到氮化硅薄膜和三根硅纳米线共同支撑质量块。本发明的硅纳米线陀螺仪的灵敏度更高。
  • 一种基于soi硅片纳米陀螺仪制备方法

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