专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种超低损耗光纤-CN202010782083.X有效
  • 翟云霄;肖华;劳雪刚;沈震强;张飞;郇朝阳;李宝东 - 江苏亨通光导新材料有限公司;江苏亨通光电股份有限公司
  • 2020-08-06 - 2023-03-28 - C03B37/027
  • 本发明提供了一种超低损耗光纤,其在1550nm的有效面积为110‑150μm2,截止波长小于1530nm,光纤从中心到外依次包括芯层,第一包层,第二包层,第三包层,芯层从中心向外延伸的半径是R1,R1的范围8~11μm,芯层折射率差△n0的范围是‑1x10‑4~1x10‑4,第一包层的厚度是R2,R2的范围是6~8μm,第一包层的相对折射率差△n1的范围是‑6.0x10‑3~‑6.5x10‑3;第二包层区的厚度是R3,R3的范围是7~9μm,第二包层区的相对折射率差△n2的范围是‑4.0x10‑3~‑5.5x10‑3,第三包层的厚度是R4,光纤的外径是R1+2R2+2R3+2R4它的值取决于光纤的设计,第三包层区的相对折射率差△n3的范围是‑2.5x10‑3~‑3.0x10‑3
  • 一种损耗光纤
  • [实用新型]一种摇摆臂环抛装置-CN202222513822.2有效
  • 郇朝阳;肖华;王智晨;蒋柯杰;黄加;张勇 - 江苏亨芯石英科技有限公司
  • 2022-09-22 - 2022-12-27 - B24B13/00
  • 本实用新型涉及一种摇摆臂环抛装置,包括调节组件,其包括转动设置的主支撑臂,主支撑臂铰接有前臂,且主支撑臂的侧面设置有导轨,导轨上设置有滑块,滑块上连接有调节杆,调节杆与前臂铰接;夹持组件,其包括支撑架,支撑架与前臂连接,支撑架上对称设置有多个滚轮,且支撑架上连接有第一驱动源,第一驱动源驱动任一滚轮转动;摆动组件,其包括第二驱动源和传动杆,第二驱动源竖直设置于环抛机台面上,第二驱动源的输出端连接有偏心轮,传动杆的一端与偏心轮转动连接,另一端与前臂连接。能够使工件在抛光盘上进行摇摆式的移动,工件与抛光盘的摩擦涉及整个盘面,能够提高抛光模的损耗均匀性,延长抛光模的修正周期和使用寿命,降低生产的成本。
  • 一种摇摆臂环抛装置
  • [发明专利]一种高均匀石英砣的热处理方法及生产装置-CN202211034692.2在审
  • 张玉;肖华;郇朝阳;南晶 - 江苏亨芯石英科技有限公司
  • 2022-08-26 - 2022-12-13 - C03B25/02
  • 本发明涉及一种高均匀石英砣的热处理方法及生产装置,包括酸洗高纯度合成石英砣,在石英砣两端均焊接石英靶棒,并将石英砣放置在石英筒的筒口;控制石英砣匀速的从石英筒的筒口经设定的第一低温区运动至设定的高温区,再进入设定的第二低温区内进行热处理;石英砣的顶端通过第二低温区后,停止高温区、第一低温区和第二低温区的加热,并将石英砣匀速上升至石英筒的筒口;待石英砣冷却后,取下包含石英靶棒的石英砣,再将含石英靶棒的石英砣整体倒置,再重复进行热处理过程。本发明可以提高石英砣的光学均匀性,保证材料较低的应力双折射,且热处理过程材料不受污染,有效降低高纯度石英原料的浪费,也避免因杂质污染而影响材料的光学均匀性。
  • 一种均匀石英热处理方法生产装置
  • [实用新型]一种合成石英的沉积窑炉-CN202222261879.8有效
  • 李建均;肖华;吴龙波;杨金鑫;钟媛;郇朝阳;南晶 - 江苏亨芯石英科技有限公司
  • 2022-08-26 - 2022-12-02 - C03B19/14
  • 本实用新型公开了一种合成石英的沉积窑炉,包括:炉体,炉体内设有腔体,腔体从上至下分为沉积反应区、沉积定型区和沉积稳定区,腔体顶部设有喷灯孔;喷灯,装配在喷灯孔内;喷灯用于向腔体内喷吹四氯化硅、氢气和氧气;充氦通道,用于向沉积反应区通入氦气,通过氦气排除熔融过程中产生的初期未完全封闭的微气泡;充氯通道,用于向沉积定型区通入氯气,通过氯气实现顶层初长料面层的表面脱羟和提纯;抽废烟道,用于在沉积稳定区将沉积反应区和沉积定型区产生的反应废气导出,并给石英砣表面降温至软化点温度以下。本实用新型合成石英的沉积窑炉可在CVD工艺上实现制备高均匀性、低羟基含量、低金属杂质含量和低气泡缺陷的合成石英产品。
  • 一种合成石英沉积
  • [发明专利]一种高光学均匀性石英玻璃的制备工艺-CN202210675643.0在审
  • 刘宝;肖华;南晶;张玉;钟媛;杨金鑫;吴龙波;郇朝阳 - 江苏亨芯石英科技有限公司
  • 2022-06-15 - 2022-09-27 - C03B20/00
  • 本发明公开了一种高光学均匀性石英玻璃的制备工艺,包括两次槽沉工艺,具体包括以下步骤:(1)将表面经酸洗处理后的石英玻璃原料放入第一模具中,放入槽沉炉内,将槽沉炉抽真空,以10~15℃/min升温至1750‑1900℃,充氮气保持炉内微正压,保温1~5h,再以5~10℃/min降至室温取出,完成第一次槽沉处理;(2)对第一次槽沉处理后的料进行酸洗处理,然后置于第二模具中,放入槽沉炉内,抽真空以5~10℃/min升温至1600~1750℃,充氮气保持炉内微正压,保温2~8h,然后进行梯度降温至室温。本发明通过上述工艺可将长径比为2~10、光学均匀性较差的石英玻璃处理获得高光学均匀性、低应力、缺陷少的石英玻璃,满足光学及半导体领域对石英玻璃的性能要求。
  • 一种光学均匀石英玻璃制备工艺
  • [发明专利]一种石英沉积装置及方法-CN202210515625.6在审
  • 吴龙波;肖华;杨金鑫;李建均;钟媛;任其广;刘宝;南晶;王智晨;郇朝阳 - 江苏亨芯石英科技有限公司
  • 2022-05-12 - 2022-07-05 - C03B19/14
  • 本发明涉及一种石英沉积装置及方法,包括用于调整喷灯位置的调节装置,同时配合控制器及测点装置,可以使喷灯喷射的料线在支撑基础上表面基底弧面上的料点与测点装置设定的目标料点精确重合,实现料点定点化、重复性控制要求,保证石英砣的均一性;且还设置有砣径监测单元实时监测石英砣砣径的变化情况,通过温控装置控制中空层的温度以对炉膛内胆内壁温度及石英砣表面温度进行调控,保证料砣直径的一致性;同时还设置有排废单元和补风单元,排废单元可以监测并调整各排废烟道的压力趋于一致,补风单元补入恒温洁净新风,进一步保证产品最终的质量;发明能够简化生产过程,制备得到质量更高、均匀性更好的石英砣,并降低了生产的成本,适于实用。
  • 一种石英沉积装置方法

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