专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种薄膜沉积设备-CN202310919712.2在审
  • 刘镇颉;宋宇;柳雪;叶五毛;孙晓波;连德宝;殷皓 - 拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司
  • 2023-07-25 - 2023-10-10 - C23C16/44
  • 本发明公开了一种薄膜沉积设备,包括:气体传输装置,其一端连接供气设备,以获取气态反应源,另一端连接反应腔;过滤装置,设置于所述气体传输装置中,用以过滤所述气态反应源中的杂质颗粒,向所述反应腔输送所述气态反应源中的反应气体;以及所述反应腔,获取所述反应气体以进行半导体沉积工艺。上述薄膜沉积设备能够及时收集气态反应源中的杂质颗粒,尤其是针对微小的杂质颗粒对其设有二次过滤,避免微小的杂质颗粒随着气流一并前行,长时间后堵塞管路中的气动阀门,不仅延长了过滤装置的使用时间,而且也延长了气动阀门的使用寿命,保证了反应腔内真空吸附功能的稳定性,进而优化薄膜沉积的颗粒度表现。
  • 一种薄膜沉积设备

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