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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]化学增强玻璃-CN202010811510.2有效
发明人： 赤塚公章;大神聪司 -专利权人： AGC株式会社
申请日： 2016-05-09 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： C03C21/00 文献下载
摘要：本发明涉及化学增强玻璃，其特征在于，CT1与CT5满足CT5/CT1≤0.85，CT5满足CT5‑38.7×ln(t/1000)+48.2〔MPa〕，内部能量密度rE满足rE≤23.3×t/1000+15〔kJ/m2〕。CS：表面压缩应力值〔MPa〕；σ(x)：深度方向的位置x处的压缩应力值〔MPa〕；DOL：压缩应力深度〔μm〕；t：板厚〔μm〕。#imgabs0##imgabs1##imgabs2#
化学增强玻璃

[发明专利]硫化物系固体电解质及其制造方法-CN202180069612.4在审
发明人：藤井直树;赤塚公章;西沢学;林英明 -专利权人： AGC株式会社
申请日： 2021-10-13 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C01B25/14 文献下载
摘要：本发明涉及一种硫化物系固体电解质，其为锂离子二次电池中使用的硫化物系固体电解质，在X射线衍射图谱中，在2θ＝30.3±0.5°的范围内具有半峰宽分别为0.07°以上的峰A和峰B，它们的衍射角(2θ)的差为0.05°以上，具有LiaPSbHac(5≤a≤7、4≤b≤6且0＜c≤2，Ha为卤素元素)表示的硫银锗矿型的晶体结构。
硫化物固体电解质及其制造方法

[发明专利]用于锂离子二次电池的硫化物系固体电解质及其制造方法、固体电解质层以及锂离子二次电池-CN202180047399.7在审
发明人： 赤塚公章;藤井直树;菖蒲谷哲志;西沢学;田中宏明;寺园真二;林英明 -专利权人： AGC株式会社
申请日： 2021-07-07 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： C01B25/14 文献下载
摘要：本发明涉及一种硫化物系固体电解质，是用于锂离子二次电池的硫化物系固体电解质，包含由组成式：Lia－M－Zb－Hac表示的硫银锗矿型的晶体，上述M、上述Z和上述Ha分别为选自规定的元素中的至少1种元素，上述Z包含S，上述组成式的a、b和c分别表示各元素的含量(单位：at％)之比，满足5＜a＜7、4＜b＜6且0＜c＜2，上述晶体中的Li－Li离子间的最大距离为以下。
用于锂离子二次电池硫化物固体电解质及其制造方法以及

[发明专利]用于锂离子二次电池的硫化物系固体电解质和其制造方法以及锂离子二次电池-CN202180047406.3在审
发明人：藤井直树;菖蒲谷哲志;西沢学;田中宏明;赤塚公章 -专利权人： AGC株式会社
申请日： 2021-07-07 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： C01B25/14 文献下载
摘要：本发明涉及一种硫化物系固体电解质，是用于锂离子二次电池的硫化物系固体电解质，包含晶相和存在于上述晶相的晶体结构中的阴离子，上述晶相包含含有Li、P、S和Ha的硫银锗矿型的晶体，上述Ha为选自F、C、Br和I中的至少1种元素，上述阴离子包含具有M与O键合而成的M－O键的Q0结构的氧化物阴离子，上述M为选自元素周期表的IIA～IVA族的金属元素和准金属元素中的至少1种元素。
用于锂离子二次电池硫化物固体电解质制造方法以及

[发明专利]化学强化用玻璃和化学强化玻璃-CN202210740072.4在审
发明人：山本雄一;赤塚公章;鸟井秀晴 -专利权人： AGC株式会社
申请日： 2017-11-16 - 公布日： 2022-11-01 - 主分类号： C03C3/085 文献下载
摘要：本发明涉及化学强化用玻璃和化学强化玻璃。本发明的目的在于提供一种通过一次化学强化处理而得到具有高CS值的化学强化玻璃且在该化学强化玻璃的倒角时能够抑制边缘部的缺损的化学强化用玻璃。本发明涉及一种化学强化用玻璃，其特征在于，所述化学强化用玻璃为特定的组成范围，具有主面和与上述主面相反的背面，上述背面的锡的含量多于上述主面的锡的含量，自上述主面的表面起算的板厚方向深度1μm～2μm范围内的氢浓度逐渐减小。
化学化用玻璃强化

[发明专利]化学强化用玻璃和化学强化玻璃-CN201711137856.3有效
发明人：山本雄一;赤塚公章;鸟井秀晴 -专利权人： AGC株式会社
申请日： 2017-11-16 - 公布日： 2022-07-26 - 主分类号： C03C3/085 文献下载
摘要：本发明涉及化学强化用玻璃和化学强化玻璃。本发明的目的在于提供一种通过一次化学强化处理而得到具有高CS值的化学强化玻璃且在该化学强化玻璃的倒角时能够抑制边缘部的缺损的化学强化用玻璃。本发明涉及一种化学强化用玻璃，其特征在于，所述化学强化用玻璃为特定的组成范围，具有主面和与上述主面相反的背面，上述背面的锡的含量多于上述主面的锡的含量，自上述主面的表面起算的板厚方向深度1μm～2μm范围内的氢浓度逐渐减小。
化学化用玻璃强化

[发明专利]化学增强玻璃-CN201680028279.1有效
发明人： 赤塚公章;大神聪司 -专利权人： AGC株式会社
申请日： 2016-05-09 - 公布日： 2020-09-01 - 主分类号： C03C21/00 文献下载
摘要：本发明涉及化学增强玻璃，其特征在于，CT1与CT5满足CT5/CT1≤0.85，CT5满足CT5‑38.7×ln(t/1000)+48.2〔MPa〕，内部能量密度rE满足rE≤23.3×t/1000+15〔kJ/m2〕。CS：表面压缩应力值〔MPa〕；σ(x)：深度方向的位置x处的压缩应力值〔MPa〕；DOL：压缩应力深度〔μm〕；t：板厚〔μm〕。
化学增强玻璃

[发明专利]化学增强玻璃-CN201910752751.1有效
发明人： 赤塚公章;大神聪司 -专利权人： AGC株式会社
申请日： 2016-05-09 - 公布日： 2020-05-19 - 主分类号： C03C21/00 文献下载
摘要：本发明涉及化学增强玻璃，其特征在于，CT1与CT5满足CT5/CT1≤0.85，所述内部拉伸应力CT5为30MPa以上，自所述化学增强玻璃的表面起，压缩应力深度DOL的半值的深度处的压缩应力值为表面压缩应力CS的10％以下，所述化学增强玻璃的板厚为1000μm以下，将化学增强玻璃的板厚设为t(μm)时，CT1满足CT1‑38.7×ln(t/1000)+48.2〔MPa〕，内部能量密度rE满足rE≤23.3×t/1000+15〔kJ/m2〕。CS：表面压缩应力值〔MPa〕；σ(x)：自化学增强玻璃的表面起深度方向的位置x处的压缩应力值〔MPa〕；DOL：压缩应力深度〔μm〕；t：板厚〔μm〕。
化学增强玻璃

[发明专利]化学强化用玻璃和化学强化玻璃-CN201780033344.4在审
发明人： 赤塚公章;大原盛辉;林英明;小野圆佳;山本雄一;冲聪;菅野直树 -专利权人： AGC株式会社
申请日： 2017-05-30 - 公布日： 2019-01-15 - 主分类号： C03C3/085 文献下载
摘要：本发明的目的在于，提供在规定的化学强化条件下进行了化学强化的情况下能够实现更高的CS的化学强化用玻璃。本发明涉及一种化学强化用玻璃，其中，以氧化物基准的摩尔百分率表示，所述化学强化用玻璃含有SiO₂：60％～67％、Al₂O₃：9％～13.5％、Na₂O：13.5％～18.5％、K₂O：0.1％～3％、MgO：6％～10.5％、以及TiO₂：大于0％且小于等于5％，并且[(Na₂O+K₂O×5)/(Al₂O₃+ZrO₂+TiO₂×10)]为2.55以下，Al₂O₃/K₂O大于10。
化学强化玻璃化学强化玻璃摩尔百分率氧化物基准

[发明专利]化学强化玻璃的制造方法-CN201380022228.4有效
发明人：宫坂顺子;坂上贵寻;大原盛辉;赤塚公章;代斯·马纽·莱斯;小野和孝;土屋博之 -专利权人：旭硝子株式会社
申请日： 2013-04-23 - 公布日： 2014-12-31 - 主分类号： C03C21/00 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供具备适合于电子设备的壳体的遮蔽性并且通过在低温的离子交换温度下进行离子交换处理而使强度提高的化学强化玻璃的制造方法。本发明涉及一种化学强化玻璃的制造方法，其包括对分相的玻璃进行离子交换处理的工序。
化学强化玻璃制造方法

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