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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]凹版转印组合物及凹版转印工艺-CN201310201161.2有效
发明人：王裕铭;谢志玮 -专利权人：财团法人工业技术研究院
申请日： 2013-05-27 - 公布日： 2017-02-15 - 主分类号： C09D127/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种凹版转印组合物，包括7～92重量份的功能性材料；1～76重量份的高分子材料；4～13重量份的溶剂；以及1～2.5重量份的助剂；其中组合物的表面张力介于20～40mN/m。本发明还提供一种凹版转印工艺，包括提供一模具，其具有一凹版图案；将上述组合物填入模具的凹版图案中；将模具之中的组合物转印至一转印介质(blanket)上；以及将转印介质(blanket)上的组合物转印至一基材；其中组合物经由转印介质(blanket)转印至基材的转印率达到80％以上。
凹版组合工艺

[发明专利]薄膜涂布装置-CN201410018970.4有效
发明人：苏志杰;谢志玮;杨文贤;林玉堃 -专利权人：财团法人工业技术研究院
申请日： 2014-01-16 - 公布日： 2017-01-11 - 主分类号： B05C11/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种薄膜涂布装置。该薄膜涂布装置包括：第一本体、第二本体及侧盖。第一本体具有第一外侧面及一从第一外侧面往第一本体内部延伸的凹槽。凹槽区隔第一本体为可调整部与基座部。第二本体与第一本体之间形成一涂布狭缝。侧盖固定于可调整部上且具有内侧面、第二外侧面、第一切割道及第二切割道。第一切割道从内侧面露出一开口，开口与涂布狭缝隔离。第二切割道从第二外侧面往侧盖内部延伸。
薄膜装置

[实用新型]涂布头清洁装置-CN201620048842.9有效
发明人：林玉堃;苏志杰;杨文贤;谢志玮 -专利权人：财团法人工业技术研究院
申请日： 2016-01-19 - 公布日： 2016-08-17 - 主分类号： B05C11/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种涂布头清洁装置，包括沿着涂布头的幅宽方向移动的刮刀模块与清洁布模块。刮刀模块包括刮刀片与第一溶剂喷洒口，清洁布模块包括清洁布材、卷绕机构与第二溶剂喷洒口，其中卷绕机构卷绕上述清洁布材。所述清洁装置还具有升降设备，分别与刮刀模块以及清洁布模块相连。升降设备用以独立升降刮刀模块以及清洁布模块。当刮刀模块上升时，刮刀片与涂布头的出料口邻近表面接触。当清洁布模块上升时，卷绕机构拉升清洁布材，使清洁布材与涂布头的出料口邻近表面接触。
布头清洁装置

[发明专利]光电元件及其元件基板-CN201010610299.4无效
发明人： 谢志玮;郑贵元;周大鑫 -专利权人：财团法人工业技术研究院
申请日： 2010-12-16 - 公布日： 2012-06-06 - 主分类号： H01L51/42 文献下载
摘要：本发明公开了一种光电元件及其元件基板。元件基板包括一第一基材、一突出部及一第一电极。突出部自第一基材突出。突出部具有实质上对称的类蛾眼结构。突出部的结构周期实质上是100nm至300nm。突出部的高度实质上是50nm至300nm。突出部的顶表面中心朝向第一基材侧的曲率半径实质上是20nm至100nm。第一电极等厚度地覆盖在突出部上，且第一电极具有如突出部的类蛾眼结构。本发明提供的元件基板对于可见光具有高的穿透率，而对于紫外光具有低的穿透率，使光电元件具有高效能及长寿命的特性。
光电元件及其

[发明专利]卷对板压印的均匀施压装置-CN201010610304.1无效
发明人： 谢志玮;赖文郎;周大鑫 -专利权人：财团法人工业技术研究院
申请日： 2010-12-16 - 公布日： 2012-05-23 - 主分类号： B21D37/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种卷对板微纳米压印的均匀施压装置，其包含圆筒、等压装置及软性模具。等压装置设置于圆筒上并利用等压装置内所含流体的本身具有的均压特性，而制作具均匀施压功效的均匀施压装置，并利用软性模具与等压装置可分离地并于压印时能紧密接触的特性，以达到大面积硬质基板均匀成形微纳米结构目的。当进行硬质基板滚印工艺时，此装置可提供均匀压力，可提高工艺良率，有利后续工艺。
压印均匀施压装置

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