专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]薄膜晶体管-CN201010226031.0有效
  • 许宰硕;徐知延 - 乐金显示有限公司
  • 2010-07-06 - 2011-07-06 - H01L29/786
  • 本发明涉及一种薄膜晶体管,所述薄膜晶体管用于增大沟道区域的电导率并抑制背沟道区域的漏电流,以及包括所述薄膜晶体管的显示装置。根据一个实施方式,所述薄膜晶体管包括布置在基板上的栅极;在基板上相互隔开的源极和漏极;使栅极与源极和漏极绝缘的栅极绝缘膜;和通过栅极绝缘膜与栅极绝缘的半导体层,所述半导体层包括沟道区域和背沟道区域,所述半导体层由(In2O3)x(Ga2O3)y(ZnO)z(0≤x≤5,0≤y≤5,0≤z≤5)制成,其中在所述半导体层的沟道区域中X或Z大于Y,而在所述半导体层的背沟道区域中Y大于X和Z。
  • 薄膜晶体管
  • [发明专利]薄膜晶体管阵列基板及其制造方法-CN200610166797.8有效
  • 李宝铉;许宰硕;田雄基 - LG.菲利浦LCD株式会社
  • 2006-11-30 - 2008-01-02 - H01L27/12
  • 本发明公开了一种薄膜晶体管阵列基板及其制造方法,其中在不使用任何光刻胶的情况下对钝化层直接进行曝光和构图工艺,从而简化了制造工艺并确保减少了制备成本。具体地说,该方法包括:在基板上形成选通线和栅极;形成半导体层,该半导体层与所述栅极绝缘并与所述栅极的一部分交叠;分别在所述半导体层的两侧上形成源极和漏极,同时形成与所述选通线交叉的数据线;使用具有感光基团X的金属醇盐和具有感光基团Y的硅醇盐的溶胶化合物,在包括所述源极和所述漏极的所述基板的整个上表面上形成钝化层;对所述钝化层进行曝光和显影,以形成暴露出所述漏极的接触孔;以及形成要通过所述接触孔与所述漏极接触的像素电极。
  • 薄膜晶体管阵列及其制造方法
  • [发明专利]薄膜晶体管阵列基板及其制造方法-CN200610079094.1无效
  • 蔡基成;许宰硕 - LG.菲利浦LCD株式会社
  • 2006-04-29 - 2007-06-20 - H01L27/12
  • 本发明公开了一种薄膜晶体管阵列基板。该薄膜晶体管阵列基板包括基板;位于基板上由栅极以及与栅极相连的栅线构成的栅图案;由有机材料形成且用于覆盖所述栅图案的主栅绝缘膜;与栅极重叠使得主栅绝缘膜位于半导体图案和栅线之间的半导体图案;半导体图案上的源/漏图案。该源/漏图案包括与栅线交叉其间具有主栅绝缘膜的数据线、源极和漏极。这里源极、漏极和半导体图案限定了设置在栅线和数据线交叉部分的薄膜晶体管。该薄膜晶体管阵列基板还包括限定在漏极部分的接触孔的保护膜;通过所述接触孔与漏极接触的像素电极;以及位于栅图案和主栅绝缘膜之间与所述栅图案重叠的子栅绝缘图案,所述子栅绝缘图案包括铁电材料。
  • 薄膜晶体管阵列及其制造方法

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