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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[实用新型]<100>N^－/N⁺/P⁺网状埋层扩散抛光片-CN200720065240.5无效
发明人：邓建伟;许伍权;刘谋忠;曹宏伟 -专利权人：衡阳晶体管有限公司
申请日： 2007-11-24 - 公布日： 2008-12-24 - 主分类号： H01L23/00 文献下载
摘要：一种以NTD硅单晶制作的<100>N^－/N⁺/P⁺网状埋层扩散抛光片，包括单晶硅衬底，其特征是单晶硅衬底上面有呈网状分布的降耗埋层。其均匀性可控制在8％以内，高阻区厚度控制可在±7.5μm范围内，单晶层的缺陷密度远远低于外延层，可完全取代外延基片，用它制造电力电子器件，不仅能大大降低制造成本，还能提高器件的各项性能指标，击穿电压高，体表面缺陷少，合格率高，具有相当高的技术附加值，尤其在高压VDMOS、IGBT等新型元器件的材料应用中有着广阔的市场前景。
100 sup 网状扩散抛光

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