专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种防水砂浆制造设备及防水砂浆制造方法-CN202110544646.6在审
  • 薛俊治;谭天赐 - 王金文
  • 2021-05-19 - 2021-08-03 - B28C5/00
  • 本发明涉及砂浆制造设备技术领域,公开了一种防水砂浆制造设备及防水砂浆制造方法,向下按压上固定盘,使得上固定盘带动湿度测量针沿着两个垂直导杆的方向滑动,湿度测量针滑动至搅拌腔内,从而能够对搅拌腔内的原料进行湿度测量,测量的信号通过湿度测量计传达到中央控制器内,中央控制器进而使得电磁阀关闭,从而能够精准测量原料的湿度,防止水分过多或过少而影响砂浆质量,转动旋转手轮,使得螺旋橡胶塞在出料孔内转动,并在出料孔内取出,从而便于原料灌装,通过电磁阀的设置,能够控制水的流动,防止水流经过出水管全部进入搅拌腔内,从而便于水的加热和控制原料的干湿度。
  • 一种防水砂浆制造设备方法
  • [发明专利]电源芯片生产用硅晶片正性光致抗蚀剂蚀刻设备及工艺-CN202011641883.6在审
  • 苏日荣;黄鑫 - 薛俊治
  • 2020-12-31 - 2021-05-18 - G03F1/80
  • 本发明涉及硅晶片制备装置技术领域,公开了电源芯片生产用硅晶片正性光致抗蚀剂蚀刻设备及工艺,通过温度传感器的设置能够对抗蚀剂进行温度检测,当温度过低时加热丝开始对抗蚀剂进行加热,增强了抗蚀剂本身的活性,从而使得喷出的抗蚀剂能够夹块硅晶片蚀刻的速度,两个定位仪对硅晶片进行检测,当检测到硅晶片的时候,定位仪通过传导线将信号传入位置处理器内,中央控制器通过间歇导线启动液体泵,使得进液管将积液箱内的抗蚀剂排进液体泵内,经过液体泵的增压作用将抗蚀剂排挤出液管内,最后经过多孔喷头喷洒在硅晶片上,当定位仪检测不到硅晶片的时候,液体泵停止工作,从而实现间歇式喷洒,防止持续喷洒造成抗蚀剂浪费。
  • 电源芯片生产晶片正性光致抗蚀剂蚀刻设备工艺

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