专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]可见光热反射测温方法及测温设备-CN202110913427.0有效
  • 翟玉卫;默江辉;王强栋;刘岩;李灏;丁立强;荆晓冬;丁晨 - 中国电子科技集团公司第十三研究所
  • 2021-08-10 - 2023-09-26 - G01K11/12
  • 本发明适用于微电子测温技术领域,提供了一种可见光热反射测温方法及测温设备,上述方法包括:控制待测件的温度稳定在第一预设温度,并采集待测件的反射率,作为第一反射率;控制待测件的温度升高并稳定在第二预设温度,并采集待测件的反射率,作为第二反射率;控制待测件的温度降低并稳定在第一预设温度,将待测件通电,待待测件的温度稳定后,采集通电待测件的反射率,作为第三反射率;根据第一反射率对第三反射率进行校正,得到校正后的第三反射率;根据第一反射率、第二反射率及校正后的第三反射率确定待测件的温度变化量。本发明采用不通电时的第一反射率对通电后的第三反射率进行校正,可以有效消除随机干扰,提高了测量精度。
  • 可见光热反射测温方法设备
  • [发明专利]晶圆级电容标准样片及制备方法-CN202011578776.3有效
  • 乔玉娥;刘霞美;李飞;丁立强;任宇龙;荆晓冬;吴爱华 - 中国电子科技集团公司第十三研究所
  • 2020-12-28 - 2022-12-13 - H01L23/522
  • 本发明公开了一种晶圆级电容标准样片及制备方法,属于半导体工艺过程监控设备校准技术领域。所述晶圆级电容标准样片,包括:晶圆片和制作在所述晶圆片上的多个芯片单元;所述芯片单元的结构中包括:多组量级不同的标称电容系列和分别与每组所述标称电容系列一一对应的开路器,所述标称电容系列包括以标称值为中心、以预设值为步进、阵列设置的多个标称电容;所述标称电容系列的容值范围为:0.5pF‑100pF。本发明所述晶圆级电容标准样片,用于PCM设备在片电容参数的整体校准,填补国内PCM设备该参数相应范围内校准领域的空白,确保PCM设备高频小电容测量数据的准确、统一,保障半导体器件工艺稳定性与产品质量。
  • 晶圆级电容标准样片制备方法
  • [发明专利]一种热阻测量仪器校准系统-CN202011134908.3有效
  • 李灏;刘岩;乔玉娥;荆晓冬;丁立强;任宇龙;杜蕾 - 中国电子科技集团公司第十三研究所
  • 2020-10-21 - 2022-08-02 - G01K15/00
  • 本发明适用于半导体技术领域,提供了一种热阻测量仪器校准系统,包括:校温装置、测温装置、上位机和热阻标准件;校温装置用于控制热阻标准件处于预设温度下,向热阻标准件输入预设测试电流,并测量热阻标准件的第一结电压;测温装置用于向热阻标准件输入预设工作电流,待热阻标准件的结温稳定后,测量热阻标准件的第二结电压;上位机用于根据预设温度、第一结电压、第二结电压确定热阻标准件的标准热阻值,标准热阻值用于对热阻测量仪器进行校准。本发明利用已标定准确热阻值的热阻标准件对热阻测量仪器进行校准,能够解决现有技术中的热阻测量仪器测量结果准确度低、一致性差的问题。
  • 一种测量仪器校准系统

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