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[实用新型]负性光刻胶自动取样装置-CN202022579054.1有效
发明人：纪昌炜 -专利权人： 苏州瑞红电子化学品有限公司
申请日： 2020-11-10 - 公布日： 2021-06-15 - 主分类号： G01N1/14 文献下载
摘要：本实用新型涉及光刻胶取样技术领域，且公开了负性光刻胶自动取样装置，包括主筒，所述主筒的底端固定连通有副筒，所述副筒的底端固定安装有吸盘，所述副筒的外侧面固定套接有固定套，所述固定套的底端等角度固定安装有固定杆。该负性光刻胶自动取样装置，通过在副筒的外侧面固定套接有固定套且在固定套的底端固定有固定杆，当需要对光刻胶进行吸取时可通过将底座的底端与盛有光刻胶的容器内腔底端进行接触，亦可通过将吸盘与容器内腔底端进行固定，而位于活动杆顶端的缓冲弹簧则可以适应吸盘的形变带动活动杆相对固定杆发生位移以适应不同的工况，此时即可通过连接杆实现光刻胶的吸取，从而实现了无需手持的优点。
光刻自动取样装置

[发明专利]负性光刻胶、悬浊液及该悬浊液的配制方法-CN201711248827.4有效
发明人：马骥;黄巍 -专利权人： 苏州瑞红电子化学品有限公司
申请日： 2017-12-01 - 公布日： 2020-12-29 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供了一种负性光刻胶、悬浊液及该悬浊液的配制方法，所述负性光刻胶包括环化聚异戊二烯、溶剂及光敏剂；所述悬浊液包括负性光刻胶及玻璃粉。所述负性光刻胶或悬浊液中还包括硅烷偶联剂，所述硅烷偶联剂直接添加于所述负性光刻胶中或在悬浊液的配制过程中加入使用。所述硅烷偶联剂为γ‑氨丙基三乙氧基硅烷、γ‑(2,3‑环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷、γ‑（甲基丙烯酰氧）丙基三甲氧基硅烷的一种或几种。本发明负性光刻胶及悬浊液适用于GPP二极管制造工艺中的硅片腐蚀，其通过硅烷偶联剂同时与负性光刻胶中的环化聚异戊二烯和玻璃粉发生反应，提高玻璃粉的研磨分散效率，延长玻璃粉的沉降时间，提高悬浊液的稳定性，满足生产管理要求，降低成本。
光刻悬浊液配制方法

[发明专利]适用于GPP二极管制造的负性光刻胶-CN201710855085.5有效
发明人：马骥;卞玉桂 -专利权人： 苏州瑞红电子化学品有限公司
申请日： 2017-09-20 - 公布日： 2020-08-07 - 主分类号： G03F7/038 文献下载
摘要：本发明提供了一种适用于GPP二极管制造的负性光刻胶，包括：环化聚异戊二烯、溶剂、光敏剂、流平剂及耦合剂。所述光敏剂为2，6‑二[（4‑叠氮基苯基）亚甲基]‑4‑甲基‑环己酮；所述流平剂为聚醚改性聚二甲基硅氧烷共聚体；所述耦合剂为乙烷氧基铝二异丙基，且所述耦合剂的质量浓度范围为50～1000ppm。本发明负性光刻胶主要用于GPP二极管制造工艺中的硅片腐蚀，提高涂布膜厚的同时不影响涂布后胶面的均一性，能够满足GPP二极管制造进程中70μm～150μm不同蚀刻深度的要求；缩减负性光刻胶的组分优化与开发周期，降低成本。
适用于 gpp 二极管制造光刻

[发明专利]一种单组份分子玻璃及其制备方法和应用-CN202010141743.6在审
发明人：郑祥飞;徐亮;孙小侠;纪昌炜 -专利权人： 苏州瑞红电子化学品有限公司
申请日： 2020-03-04 - 公布日： 2020-06-19 - 主分类号： C07C303/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种单组份分子玻璃及其制备方法和应用。该单组份分子玻璃的制备方法包括将多羟基酚、催化剂、羟基保护基单体于容器中混合并充分反应，得到产物A；将产物A、催化剂、溴乙基苯磺酸钠于容器中混合并充分反应，得到产物B；将产物B、鎓盐溶于溶剂中，于室温下反应后得到产物，用水洗涤产物3‑5次，得到目标产物C。该分子玻璃具有优异的性能：成膜性好、单分散、无分子链缠结；光产酸单元与分子玻璃通过化学键键接，改善了光产酸剂相分离、光刻中光产酸剂分布不均匀的问题。应用在光刻胶中，同步改善光刻胶的分辨率、感度和对比度，提高光刻胶的综合性能。
一种单组份分子玻璃及其制备方法应用

[发明专利]一种含高耐热性羧基酚醛树脂的厚膜光刻胶组合物-CN202010009716.3在审
发明人：纪昌炜;郑祥飞;徐亮 -专利权人： 苏州瑞红电子化学品有限公司
申请日： 2020-01-06 - 公布日： 2020-05-19 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明公开了一种含高耐热性羧基酚醛树脂的厚膜光刻胶组合物。本发明所述的高耐热性羧基酚醛树脂结构通式为式中x为0‑4，m与n的比为0.05‑0.75:1，R为H、苯基或C1‑C9的烷基，树脂的重均分子量为8000‑35000g/mol。将此成膜树脂与商品化酚醛树脂、光敏化合物、添加剂、溶剂等组分混配，得到厚膜光刻胶组合物。经测试，该厚膜光刻胶组合物分辨率高，灵敏度高，耐热性好，抗蚀刻性能佳，适用于高耐热性要求的MEMS加工与封装工艺。
一种耐热性羧基酚醛树脂光刻组合

[发明专利]一种高耐热性羧基酚醛树脂及其合成方法-CN202010009712.5在审
发明人：纪昌炜;郑祥飞;徐亮 -专利权人： 苏州瑞红电子化学品有限公司
申请日： 2020-01-06 - 公布日： 2020-05-15 - 主分类号： C08G8/04 文献下载
摘要：本发明公开了属于功能高分子材料制备技术领域的一种高耐热性羧基酚醛树脂及其合成方法。本发明合成的高耐热性羧基酚醛树脂结构通式为式中x为0‑4，m与n的比为0.05‑0.75:1，R为H、苯基或C1‑C9的烷基。其合成方法是由苯酚类化合物、对醛基苯酸、甲醛水溶液和催化剂经缩聚反应得到。本发明生产的酚醛树脂重均分子量范围为8000‑35000g/mol，玻璃化温度为123‑153℃，在2.38％的四甲基氢氧化铵水溶液中的溶解速率为500‑4500埃/秒，具有分子量大，耐热性好，且碱溶速率快的特点，在印刷、电子、涂料、油墨、光刻胶等领域具有应用价值。
一种耐热性羧基酚醛树脂及其合成方法

[发明专利]一种含高耐热性羧基酚醛树脂的负性光刻胶组合物-CN202010009705.5在审
发明人：纪昌炜;郑祥飞;徐亮 -专利权人： 苏州瑞红电子化学品有限公司
申请日： 2020-01-06 - 公布日： 2020-05-08 - 主分类号： G03F7/038 文献下载
摘要：本发明公开了一种含高耐热性羧基酚醛树脂的负性光刻胶组合物。本发明所述的高耐热性羧基酚醛树脂结构通式为式中x为0‑4，m与n的比为0.05‑0.75:1，R为H、苯基或C1‑C9的烷基，树脂的重均分子量为8000‑35000g/mol。将此成膜树脂与光产酸剂、固化剂、添加剂、溶剂等组分混配，得到负性光刻胶组合物。经测试，该负性光刻胶组合物分辨率高，耐热性好，适用于高温作业条件下的lift‑off金属剥离工艺。
一种耐热性羧基酚醛树脂光刻组合

[发明专利]一种单宁酸基多官环氧树脂及其制备方法和制备的可碱水显影负性光刻胶-CN201910327153.X在审
发明人：纪昌炜;郑祥飞;穆启道;徐亮 -专利权人： 苏州瑞红电子化学品有限公司
申请日： 2019-04-23 - 公布日： 2019-09-20 - 主分类号： C08G59/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种单宁酸基多官环氧树脂，结构式为式中：R₂为羟基、2‑烯丙基氧基或2,3‑环氧丙氧基，至少包含一个R₂为羟基，至少包含一个R₂为2‑烯丙基氧基或2,3‑环氧丙氧基。本发明以源自天然产物的单宁酸为起始原料制备生物基环氧树脂，拓宽了环氧树脂原材料的来源，避开了环氧树脂制备过程中对石油化工资源的过度依赖性。以单宁酸基多官环氧树脂为基体配制可碱水显影负性光刻胶，具有环保绿色，有效减少VOC排放的优点。
环氧树脂单宁酸负性光刻胶环氧丙氧基烯丙基碱水显影氧基制备羟基环氧树脂原材料起始原料石油化工天然产物有效减少制备过程制备生物式中配制避开排放环保

[发明专利]一种用于玻璃钝化整流芯片工艺中不含光敏剂的光刻胶组合物及其应用-CN201510014204.5有效
发明人：卞玉桂 -专利权人： 苏州瑞红电子化学品有限公司
申请日： 2015-01-08 - 公布日： 2018-10-12 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于GPRC工艺中不含光敏剂的光刻胶组合物的用途，其中所述光刻胶组合物用于GPRC工艺段中，取消光敏剂，降低生产成本；减少曝光、显影、后烘的工艺段，缩短了生产时间，提高效率，减少化学品对人体的伤害和对环境的污染；同时保持其在氢氟酸和硝酸腐蚀液中的抗蚀性，提高光刻胶层的坚韧性，使得隔空裸露的光刻胶在腐蚀液中不发生弯曲和坍塌，满足生产工艺的要求，市场前景十分良好。
一种用于 gprc 工艺中不含光敏剂光刻组合

[发明专利]琥珀酰亚胺改性的环氧丙烯酸树脂及其制备方法、负性光刻胶组合物-CN201710855118.6在审
发明人：黄巍;季昌彬 -专利权人： 苏州瑞红电子化学品有限公司
申请日： 2017-09-20 - 公布日： 2018-03-06 - 主分类号： C08F8/08 文献下载
摘要：本发明提供了一种琥珀酰亚胺改性的环氧丙烯酸树脂及其制备方法、以及使用该琥珀酰亚胺改性的树脂的负性光刻胶组合物；其包括琥珀酰亚胺改性的环氧丙烯酸树脂、在射线照射下可产生强酸的产酸剂、在酸以及辅助加热作用下迅速与成膜树脂交联的交联剂、用于减弱产酸剂产酸作用的光吸收剂和/或用于减弱产酸剂产酸作用的产碱剂或有机强碱。所述负性光刻胶组合物的感光范围在350nm～420nm，可用混合线、i‑line光源曝光；得益于琥珀酰亚胺改性后的树脂的优良耐热性，所述负性光刻胶组合物在耐热和分辨率上均具有较好的表现，可用于高分辨率i线负性光刻胶组合物。
琥珀亚胺改性丙烯酸树脂及其制备方法光刻组合

[发明专利]正性光刻胶-CN201711003755.7在审
发明人：徐亮;季昌彬 -专利权人： 苏州瑞红电子化学品有限公司
申请日： 2017-10-24 - 公布日： 2018-02-23 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明提供了一种正性光刻胶,其特征在于包括如下成分1份～20份酚醛树脂、1份～3份醚化三聚氰胺树脂、3份～8份重氮类光敏剂、0.01份～1份酸类、40份～60份极性溶剂。所述正性光刻胶通过加入醚化三聚氰胺树脂，在有机强酸等酸类的作用下，通过加热实现预固化，使得该正性光刻胶在未经HMDS处理的亲水性衬底表面有超高粘附性，尤其是二氧化硅表面有良好的粘附能力，可以简化IC芯片等制造的流程、降低制造成本和人员伤害。
光刻

[发明专利]一种氟代苯乙烯单体、含氟共聚物及在248nm深紫外光刻胶中的应用-CN201710483169.0在审
发明人：穆启道;郑祥飞;纪昌炜 -专利权人： 苏州瑞红电子化学品有限公司
申请日： 2017-06-22 - 公布日： 2017-11-07 - 主分类号： C08F212/14 文献下载
摘要：本发明涉及一种氟代苯乙烯单体、含氟共聚物及在248nm深紫外光刻胶中的应用。用氟代苯乙烯单体跟其他单体自由基共聚得到含氟共聚物，并制备248nm深紫外光刻胶。本发明所涉及的含氟共聚物所用单体结构如下所示，其中R1为羟基或乙酰氧基，R2‑R6为H或F，且R2‑R6不同时为H，R7和R9为H或‑CH3，R8为酸敏结构单元，R10为多脂肪环类取代基结构。
一种苯乙烯单体共聚物 248 nm 深紫光刻中的应用

[发明专利]一种马来酸酐开环改性支化低聚物制备的碱溶性光敏树脂及其光致抗蚀剂组合物-CN201410245012.0有效
发明人：刘晓亚;郑祥飞;刘敬成;刘仁;穆启道;孙小侠;卢杨斌 -专利权人： 苏州瑞红电子化学品有限公司;江南大学
申请日： 2014-06-05 - 公布日： 2017-08-25 - 主分类号： C08F220/18 文献下载
摘要：一种马来酸酐开环改性支化低聚物制备的碱溶性光敏树脂及其光致抗蚀剂组合物，属于紫外光固化技术领域。对乙烯基苄硫醇既含有可聚合的双键，又含有支化点巯基，因此可以通过与其他乙烯基类单体共聚形成支化型低聚物。本发明以对乙烯基苄硫醇(VBT)、甲基丙烯酸(MAA)、甲基丙烯酸苄基酯(BZMA)、马来酸酐(MA)四种单体通过自由基聚合合成支化型碱溶性树脂，再通过丙烯酸羟乙酯(HEA)上的羟基跟聚合物链上的酸酐发生开环反应，接上双键，引入光敏基团，提高树脂光敏性，同时酸酐开环生成羧基，增加了树脂中的羧基含量，提高了树脂的碱溶性。本发明反应条件易于控制，所用单体结构简单，来源方便，聚合物性能优异，在负性光致抗蚀剂应用中性能良好。所得聚合物结构如下所示。
一种马来酸酐开环改性支化低聚物制备碱溶性光敏树脂及其光致抗蚀剂组合

[发明专利]一种高功率锂离子电池负极粘结剂组合物及其制造方法-CN201510014203.0有效
发明人：赵佳 -专利权人： 苏州瑞红电子化学品有限公司
申请日： 2015-01-08 - 公布日： 2017-07-07 - 主分类号： H01M4/62 文献下载
摘要：本发明涉及一种高功率锂离子电池负极粘结剂及其制造方法。其组成为SBR(丁苯橡胶)10.0％～25.0％，SIS(苯乙烯‑异戊二烯‑苯乙烯热塑性共聚物)10.0％～25.0％，分散剂1.0％～5.0％，去离子水50.0％～70.0％。组合物PH值为4.0～8.0。组合物粘度为5.0‑50.0mPa·s。本发明运用独特的配方科学配制粘结剂，成功实现了粘结剂在负极活性物质中有较好的分散性、提高负极活性物质与粘结剂混合制成的浆料与铜箔的粘附性和均匀性，粘结剂在负极活性物质中的添加量大幅降低。从而，显著增加了电池的使用寿命。降低了生产成本。
一种功率锂离子电池负极粘结组合及其制造方法

[发明专利]一种聚氨酯丙烯酸酯共聚物及其光刻胶组合物-CN201510149530.7有效
发明人：刘敬成;刘秋华;刘仁;刘晓亚;穆启道;郑祥飞;李治全 -专利权人： 苏州瑞红电子化学品有限公司;江南大学
申请日： 2015-04-01 - 公布日： 2017-04-12 - 主分类号： C08F220/18 文献下载
摘要：本发明提供一种聚氨酯丙烯酸酯共聚物及其光刻胶组合物，属于光刻胶领域。本发明首先通过含羟基的丙烯酸酯单体与二异氰酸酯化合物反应，制得NCO封端的预聚物，然后用饱和一元醇进行封端得到末端含双键的聚氨酯丙烯酸酯单体；然后与丙烯酸酯类单体进行自由基共聚反应得到聚氨酯丙烯酸酯共聚物。环状二异腈酸酯的引入可以增加光刻胶的耐蚀刻性；丙烯酸或甲基丙烯酸的引入使共聚物具有酸值可调、碱液可溶的特点；引入其它刚性丙烯酸酯单体，从而提高共聚物的耐热性及硬度；引入聚氨酯丙烯酸酯与丙烯酸类单体，从而使共聚物具有优异的附着力；本发明树脂与活性稀释剂、溶剂、光引发剂、颜料混合制得光刻胶，可以得到综合性能良好、分辨率较高的图像，可以将其应用在光刻胶领域。
一种聚氨酯丙烯酸酯共聚物及其光刻组合