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[发明专利]一种全氟聚醚类高分子稀释剂化合物-CN202010340080.0在审
发明人：张小影;胡书立;胡朋力 -专利权人： 苏州佩托斯光学材料有限公司
申请日： 2020-04-26 - 公布日： 2020-06-19 - 主分类号： C11D1/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种全氟聚醚类高分子稀释剂化合物，由氢氟醚、非卤素溶剂、互溶助剂以及表面活性助剂组成，所述氢氟醚、非卤素溶剂、互溶助剂以及表面活性助剂按照质量份数配比为：氢氟醚30份～80份，非卤素溶剂20份～100份，互溶助剂40份～100份，表面活性助剂0.2份～1份。本发明采用添加互溶剂进行加速溶解，并且采用更合适的表面活性助剂，表面活性剂用量少，操作方便、无毒无腐蚀，能更好的溶解全氟聚醚类高分子，成本低且绿色环保，适合在LCD行业以及半导体行业中大力推广。
一种全氟聚醚类高分子稀释剂化合物

[发明专利]一种光学面板纳米防污剂及其喷涂的方法-CN202010340073.0在审
发明人：张小影;胡书立;胡朋力 -专利权人： 苏州佩托斯光学材料有限公司
申请日： 2020-04-26 - 公布日： 2020-06-19 - 主分类号： C09D183/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种光学面板纳米防污剂及其喷涂的方法，其成分包括：有机硅树脂、纳米粉体、固化剂、疏水剂和成膜剂；其成分按照质量份数为：有机硅树脂35份～200份，纳米粉体25份～50份，固化剂10份～30份，疏水剂5份～15份，成膜剂20份～30份。本发明的原料配比成本低防污效果好，并且添加了纳米粉末，增强防污效果，本发明的制备、喷涂步骤简单、操作方便，但却不影响防污效果；本发明在降低防污剂生产成本的同时提高了其性能，提高了企业的利润，具有生产成本低、生产效率高、经济性好的优点，并且采用了横纵两次喷涂的工艺，使防污剂的防污效果更好。
一种光学面板纳米防污及其喷涂方法