专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果7个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]星形聚合物及其制法-CN201180019109.4有效
  • 白井昭宏;新谷武士 - 日本曹达株式会社
  • 2011-04-18 - 2012-12-26 - C08F8/00
  • 本发明提供适于作为抗蚀剂材料等的窄分散的苯乙烯系星形聚合物。本发明的星形聚合物由下式A[C(Y)Xm]n(式中,A表示碳原子数4~15的多价脂肪族烃基,C表示碳原子,X表示苯乙烯系聚合物链,Y表示羟基或氧基,m表示1或2,n表示2~5中的任一整数。其中,Y为羟基时m为2,Y为氧基时m为1)表示。上述星形聚合物可以通过使具有阴离子末端的苯乙烯系聚合物与A(COOR)n(式中,R表示碳原子数1~8的烷基,A和n与上述式中的定义相同)所示的脂肪族羧酸酯反应来制造。
  • 星形聚合物及其制法
  • [发明专利]聚丁二烯的制造方法-CN201080045485.6有效
  • 白井昭宏;宫下康典;霜鸟武司 - 日本曹达株式会社
  • 2010-10-12 - 2012-07-04 - C08F4/46
  • 本发明的课题在于,通过低温下进行阴离子聚合来制造聚丁二烯的方法中,控制其微观结构而制造具有多种多样的物性的聚丁二烯。本发明是聚丁二烯的制造方法,其特征在于,是在丁二烯的沸点以下的反应温度条件下和聚合引发剂的存在下由1,3-丁二烯通过阴离子聚合来制造聚丁二烯的方法,在非质子性极性溶剂或非质子性极性溶剂与非极性溶剂的混合溶剂中、在钾盐的存在下进行。优选钾盐为叔丁氧基钾,优选溶剂为四氢呋喃和己烷的混合溶剂。这样得到的聚丁二烯能够用于柔性版印刷版中使用的制版材组合物、胶粘剂组合物。
  • 丁二烯制造方法
  • [发明专利]改性聚硅氧烷化合物的制备方法-CN201080036410.1有效
  • 白井昭宏;冈户俊明;霜鸟武司 - 日本曹达株式会社
  • 2010-08-19 - 2012-05-23 - C08G77/442
  • 本发明旨在提供一种在以对链烯基酚单元和有机硅氧烷单元为必要结构单元、通过嵌段共聚而得到的引入了酚骨架的改性聚硅氧烷化合物的制备方法中不会因分解、缩合而分子量变化、着色等的氯化氢使用条件。在本发明中,在非水溶剂的存在下对于式(I)即X(Y)n〔式中,X为具有式(II)表示的重复单元的聚合物链段,Y为具有式(III)表示的重复单元的聚合物链段,n为1或2)表示的、X和Y的重量比为1/99≤X/Y≤90/10、数均分子量为1,000~100,000的改性聚硅氧烷化合物,在加入含有氯化氢的非水溶液且相对于式(II)表示的重复单元1当量,氯化氢为0.9~1.3当量的条件下进行羟基保护基团脱去处理。
  • 改性聚硅氧烷化合物制备方法
  • [发明专利]星形聚合物的制造方法-CN200880104177.9有效
  • 白井昭宏;霜鸟武司;丸毛伸儿;新谷武士 - 日本曹达株式会社
  • 2008-08-29 - 2010-07-21 - C08F297/02
  • 本发明提供线型聚合物不残存、能够作为照相平版加工的感光性抗蚀剂用材料使用的星形聚合物。在有机溶剂中,在有机碱金属化合物、以及碱金属或碱土类金属的无机盐以下述量存在的条件下,使式(IV)所表示的多官能性(甲基)丙烯酸酯衍生物中的1种或2种以上进行阴离子聚合反应,由此制造聚合物而形成核部后,从核部的阴离子活性部位通过阴离子聚合使式(I)所表示的单官能性(甲基)丙烯酸酯衍生物中的1种或2种以上发生聚合而形成臂部,其中,相对于该式(IV)的化合物1摩尔,有机碱金属化合物为0.1~0.99摩尔,相对于该有机碱金属化合物1摩尔,碱金属或碱土类金属的无机盐为0.1~20摩尔。(式中,R表示氢原子等,n表示2或3,A表示用碳原子进行键合的有机基团。)(式中,R1表示氢原子等,R2表示有机基团。)。
  • 星形聚合物制造方法
  • [发明专利]多分支聚合物及其制造方法-CN200910146325.X有效
  • 新谷武士;河村洁;白井昭宏 - 日本曹达株式会社
  • 2005-08-11 - 2009-12-02 - H01M10/40
  • 本发明涉及多分支聚合物及其制造方法。提供下述式(I)表示的多分支聚合物及该多分支聚合物的制造方法。式中,A表示具有3个以上分支链的有机基团,Xa表示含有周期表第14~16族的任一原子的连接基团,Y表示结构中可具有活性卤素原子的官能团,Q表示具有由聚合性不饱和键衍生的重复单元的臂部,m1表示从1至上述A所具有的分支链的个数中的任一整数,m2表示上述A所具有的分支链的个数,n1表示0或1以上的整数,Ra表示不参与聚合反应的有机基团。
  • 分支聚合物及其制造方法

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top