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[发明专利]基于STM32和小型麦克风阵列的无人机检测定位方法-CN202211628718.6在审
发明人： 王同庆;谷坤;黄成 -专利权人：南京理工大学
申请日： 2022-12-18 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： G01S5/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于STM32和小型麦克风阵列的无人机检测定位方法，该方法为：首先利用声音传感器采集声音信号，并利用FFT算法对采集的信号进行处理；然后利用改进谐波检测算法对处理后的数据进行判断，如果判断为无人机信号，则利用GCC‑PHAT算法进行不同阵元的时延估计；接着根据得到的时延估计和麦克风阵元几何关系，计算三个麦克风阵列中不同的无人机坐标；最后利用三个麦克风阵列得到的麦克风坐标，利用垂心定位算法进一步精确估计无人机的坐标。本发明提高的了无人机检测定位的效率、精确度和正确率。
基于 stm32 小型麦克风阵列无人机检测定位方法

[实用新型]一种化学机械抛光系统-CN202223196435.7有效
发明人：许振杰;王国栋;路新春;张国铭;赵德文;王同庆 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2022-12-01 - 公布日： 2023-04-21 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种化学机械抛光系统，其包括：前置单元；抛光单元；以及清洗单元，设置于前置单元与抛光单元之间；所述抛光单元包括多个抛光模块和抛光传输机构，所述抛光模块围绕所述抛光传输机构设置；所述清洗单元包括多个后处理模块和清洗传输机构，所述后处理模块竖向层叠以形成层叠模组，所述层叠模组沿清洗单元的横向和纵向交错设置，所述清洗传输机构设置于所述层叠模组的侧部。
一种化学机械抛光系统

[实用新型]一种用于化学机械抛光的装置-CN202223286059.0有效
发明人：路新春;王同庆;赵德文;许振杰;王春龙;吴兴 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2022-12-08 - 公布日： 2023-04-21 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种用于化学机械抛光的装置，包括：抛光主体、护罩和注液组件；所述护罩围绕所述抛光主体设置，所述护罩的内部具有环形的流道，所述流道的底部开设有与外部连通的槽；所述注液组件与所述护罩可拆卸地连接，用于向所述流道内注液，液体由所述槽流出后形成环形液帘。采用本实用新型提供的保湿装置可以使得保湿液形成液帘，并沿护罩侧壁流下进行保湿，防止护罩下方的零部件外壁出现结晶；同时，相比于传统的正对侧壁的喷淋保湿方式，本实用新型形成的液帘可以贴壁下流，不会在喷射至外壁时造成液体飞溅，防止对其他区域造成二次污染。
一种用于化学机械抛光装置

[实用新型]一种用于化学机械抛光的承载组件-CN202223512514.4有效
发明人：赵德文;吴兴;王国栋;王同庆 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2022-12-28 - 公布日： 2023-04-21 - 主分类号： B24B37/30 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种用于化学机械抛光的承载组件，包括：减振模块、驱动模块和承载头；其中，所述减振模块包括内部具有空腔的主轴以及位于所述空腔内的第一减振单元，所述第一减振单元包括芯体和配置于所述芯体的外壁处的多个阻尼块，所述阻尼块挤压所述空腔的内壁，以吸收所述主轴的横向振动。本实用新型在主轴内放置芯体，芯体增强了减振和抗振作用，此外，在芯体外壁设置的多个阻尼块可以吸收来自抛光头研磨所产生的横向激振，充分利用阻尼块的抗压能力，将原有受剪切和拉伸的工作状态改为受压缩的工作状态，增加了横向减振能力的同时也发挥了复位和限位作用。
一种用于化学机械抛光承载组件

[实用新型]一种化学机械抛光系统-CN202223524151.6有效
发明人：王剑;路新春;王同庆 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2022-12-29 - 公布日： 2023-04-21 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种化学机械抛光系统，其包括：前置单元；抛光单元；清洗单元，设置于前置单元与抛光单元之间；其中，所述清洗单元包括第一清洗单元和第二清洗单元，所述第一清洗单元与第二清洗单元相对于清洗单元的横向中心线对称设置，两者之间配置有横向传输机械手、第一缓存装置和第二缓存装置，所述第一缓存装置和第二缓存装置设置于所述横向传输机械手的两侧；所述第一清洗单元和第二清洗单元包括后处理模块和竖向传输机械手，所述后处理模块围绕所述竖向传输机械手设置。
一种化学机械抛光系统

[实用新型]电涡流传感器、膜厚测量装置和化学机械抛光设备-CN202222430128.4有效
发明人：王成鑫;王同庆;田芳馨;路新春 -专利权人：清华大学;华海清科股份有限公司
申请日： 2022-09-14 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： G01B7/06 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种电涡流传感器、膜厚测量装置和化学机械抛光设备，其中，电涡流传感器包括依次叠放的检测线圈、激励线圈和补偿线圈，所述激励线圈位于检测线圈和补偿线圈之间，所述检测线圈的安装位置靠近抛光盘上表面，所述检测线圈、激励线圈和补偿线圈的水平截面均为矩形，并且，激励线圈的水平截面面积小于检测线圈的水平截面面积，检测线圈与补偿线圈的水平截面面积相同。
涡流传感器测量装置化学机械抛光设备

[发明专利]采用球磨法制备二氧化铈悬浮液的方法及其产品与应用-CN202111174255.6在审
发明人：谢李乐;王同庆;路新春 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2021-10-09 - 公布日： 2023-04-14 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本申请涉及无机材料技术领域，提供了一种采用球磨法制备二氧化铈悬浮液的方法及其产品与应用。本申请提供的采用球磨法制备二氧化铈悬浮液的方法包括步骤：将二氧化铈颗粒进行球磨，然后分散到水中，得到二氧化铈悬浮液；球磨步骤中：磨球直径为1‑10mm，磨球和磨料的质量比为2‑10：1，水和磨料的质量比为2‑32：1，球磨时间为6‑12小时。本申请对微米级团聚状二氧化铈颗粒进行球磨，二氧化铈颗粒平均直径能降低到90‑180nm；并且将球磨后二氧化铈颗粒分散在水里后，可以维持良好的稳定性；可应用到氧化硅和氮化硅的化学机械抛光中，从而实现很好的抛光效果。
采用法制氧化悬浮液方法及其产品应用

[发明专利]一种具有温度调节功能的抛光转台和化学机械抛光设备-CN202210873890.1在审
发明人：许振杰;王同庆;张国铭;路新春 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2022-07-25 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种具有温度调节功能的抛光转台和化学机械抛光设备，其中，抛光转台包括：旋转组件；抛光盘，其连接在所述旋转组件上，并用于在其上覆盖抛光垫；温度调整元件，其与所述抛光盘连接，用于调节所述抛光垫的温度；流体介质通道，其设置于所述温度调整元件的下方，以进行散热或供热。本发明利用温度调整元件对抛光垫进行温度调节，同时流体介质通道配合作业。
一种具有温度调节功能抛光转台化学机械抛光设备

[实用新型]一种钼铁合金自动筛分装置-CN202222916368.5有效
发明人：郭钰龙;胡俊岩;王同庆;徐业兴;毛国清;陈新峰;侯志强;王后亮;代桂荣;杨圣洁;张旭;周光永 -专利权人：日照瑞华新材料科技有限公司
申请日： 2022-10-31 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： B07B1/22 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种钼铁合金自动筛分装置，本实用新型涉及金属材料技术领域，包括筛筒，筛筒的下方设有接料机构，接料机构的两侧均设有支撑板，支撑板的顶面固定安装固定块，筛筒与接料机构之间设置限位机构，两块固定块之间设置转动机构，筛筒的一端开设透槽，转动机构穿过透槽，转动机构由转动杆、连接杆、连接套和电动机组成，电动机与相通的支撑板通过L型架固定连接，其中一块固定块的一侧开设通孔，通孔与透槽相对应。本实用新型在使用过程中能够稳定连续性的性带动筛筒做圆周运动，在离心力的作用下，小于筛孔的钼铁合金通过筛孔，并进入到接料斗内进行收集，能够进行回炉重复利用，从而能够节省原料。
一种铁合金自动筛分装置

[发明专利]一种化学机械抛光系统-CN202211570483.X在审
发明人：王春龙;王国栋;许振杰;赵德文;王同庆 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2022-12-08 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种化学机械抛光系统，其包括：前置单元；抛光单元；清洗单元，设置于前置单元与抛光单元之间；所述抛光单元包括多个抛光模块，所述抛光模块包括抛光盘、抛光组件和装卸台，所述装卸台设置于抛光盘的外侧，所述抛光组件设置于抛光盘和装卸台的上侧；所述抛光组件包括支撑架和悬挂于支撑架下方的承载头，旋转的支撑架能够带动承载头装载的晶圆在装卸台与抛光盘之间移动；所述抛光模块还包括设置于承载头上方的保湿机构，所述保湿机构包括输液件和防护件，所述防护件罩设于所述承载头的上侧；所述承载头旋转至装卸台时，所述输液件能够与所述防护件插接固定并输送流体，以在承载头的外周侧形成水帘。
一种化学机械抛光系统

[发明专利]一种化学机械抛光系统和抛光方法-CN202211523667.0在审
发明人：路新春;许振杰;王国栋;赵德文;王同庆 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2022-12-01 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种化学机械抛光系统和抛光方法，所述化学机械抛光系统包括前置单元；抛光单元；清洗单元，设置于前置单元与抛光单元之间；其中，所述清洗单元包括第一清洗单元和第二清洗单元，所述第一清洗单元和第二清洗单元相对于清洗单元的横向中心线对称设置；所述第一清洗单元和第二清洗单元包括后处理模块、前部传输机械手和后部传输机械手，所述后处理模块竖向层叠设置以形成层叠模组；所述第一清洗单元和第二清洗单元分别配置一对层叠模组，其中一个层叠模组与前部传输机械手的连线平行于另一个层叠模组与后部传输机械手的连线。
一种化学机械抛光系统抛光方法

[发明专利]一种单分散纳米氧化铈的制备方法、纳米氧化铈研磨液及其应用-CN202211705104.3在审
发明人：王振扬;路新春;王同庆;张力飞;李敏;王昭 -专利权人：清华大学;华为技术有限公司
申请日： 2022-12-29 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： C01F17/235 文献下载
摘要：本发明提供了一种单分散纳米氧化铈的制备方法、纳米氧化铈研磨液及其应用，该方法以碳酸铈作为制备原料，在进行高温煅烧之前，向碳酸铈分散液中加入可分解的含羧基和氨基的有机物，高温煅烧过程中，含羧基和氨基的有机物在高温作用下先行发生反应，生成具有类似小仓室的缩合产物，进一步地，碳酸铈在高温作用下发生分解，生成的氧化铈晶核在这些小仓室的分隔作用下规矩的生长，最终得到颗粒形状均一、保持单分散状态且无明显硬团聚的氧化铈晶体，而缩合产物最终在高温的作用下完全挥发排除。本发明通过对氧化铈制备方法的优化改进，实现在高温煅烧过程中获得单分散的纳米氧化铈的目的，改进后的制备方法操作简单，便于商业推广。
一种分散纳米氧化制备方法研磨及其应用

[发明专利]一种分布式清洗装置-CN202111634245.6有效
发明人：吴兴;王剑;王同庆 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2021-12-29 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种分布式清洗装置，用于对放置在晶圆交互装置上的晶圆进行保湿并当抛光头位于晶圆交互装置上方时冲洗抛光头，晶圆交互装置包括由上至下依次连接的托架、连接板和升降机构。分布式清洗装置包括：晶圆正面保湿组件，包括第一组喷嘴，用于向上喷洒液体对晶圆正面进行保湿；晶圆背面保湿组件，安装在支撑件上，包括第二喷嘴座和第二喷嘴，用于向晶圆背面喷洒液体进行保湿；其中，支撑件与晶圆交互装置相邻设置；抛光头清洗组件，安装在支撑件上，包括第三喷嘴座和第三组喷嘴，用于冲洗抛光头的保持环和气膜。
一种分布式清洗装置

[实用新型]一种化学机械抛光系统-CN202223196410.7有效
发明人：路新春;许振杰;王国栋;赵德文;王同庆 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2022-12-01 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种化学机械抛光系统，其包括前置单元；抛光单元；清洗单元，设置于前置单元与抛光单元之间；其中，所述清洗单元包括第一清洗单元和第二清洗单元，所述第一清洗单元和第二清洗单元相对于清洗单元的横向中心线对称设置；所述第一清洗单元和第二清洗单元包括后处理模块、前部传输机械手和后部传输机械手，所述后处理模块竖向层叠设置以形成层叠模组；所述第一清洗单元和第二清洗单元分别配置一对层叠模组，其中一个层叠模组与前部传输机械手的连线平行于另一个层叠模组与后部传输机械手的连线。
一种化学机械抛光系统

[发明专利]一种化学机械抛光方法-CN202211570612.5在审
发明人：王春龙;王国栋;王同庆;赵德文 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2022-12-08 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种化学机械抛光方法，其包括：抛光组件配置的第一承载头自装卸台装载晶圆并移动至抛光盘，以对晶圆实施化学机械抛光；在第一承载头朝向抛光盘移动的过程中，晶圆传输机械手将下一片晶圆放置于装卸台；抛光组件配置的第二承载头移动至装卸台并装载晶圆；保湿机构的输液件与第二承载头上侧的防护件连接，并朝向防护件输送流体，以在防护件的下方形成水帘；第一承载头完成抛光后，输液件停止供液并与防护件分离，装载有晶圆的第二承载头移动至抛光盘，以对晶圆实施化学机械抛光。
一种化学机械抛光方法