专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]处理盒和电子照相设备-CN202310236194.4在审
  • 渡口要;中园智晴;下泽秀春;西田孟;奥田笃;桂大侍 - 佳能株式会社
  • 2023-03-13 - 2023-09-15 - G03G5/06
  • 本发明涉及处理盒和电子照相设备。该处理盒是可拆卸地安装至电子照相设备的主体上的处理盒,该处理盒包括:电子照相感光构件;调色剂;以及显影构件,其中电子照相感光构件包括表面层,所述表面层是包含以下化合物的组合物的聚合膜:选自由单官能(甲基)丙烯酸系单体和单官能(甲基)丙烯酸系低聚物组成的组中的至少一种单官能(甲基)丙烯酸系化合物,以及选自由三官能以上的(甲基)丙烯酸系单体和三官能以上的(甲基)丙烯酸系低聚物组成的组中的至少一种三官能以上的(甲基)丙烯酸系化合物,其中调色剂包含调色剂颗粒和作为外部添加剂的水滑石颗粒,并且其中在STEM‑EDS分析的滤波器拟合分析中水滑石颗粒包含氟。
  • 处理电子照相设备
  • [发明专利]处理盒和电子照相设备-CN202011110821.2有效
  • 牧角康平;渡口要;樋山史幸;山内一浩;菊池裕一 - 佳能株式会社
  • 2020-10-16 - 2023-07-25 - G03G15/02
  • 本发明涉及处理盒和电子照相设备。提供在维持令人满意的电位变动的同时抑制横向行进的处理盒。处理盒包括:包括第一支承体、最下层和感光层的电子照相感光构件;和包括第二支承体和导电层的充电构件。在当通过在使交流电压变化的同时对最下层施加交流电压来测量阻抗时,阻抗的相位达到45°时的最大频率由fOPC(Hz)表示的情况下,并且在当通过在使交流电压变化的同时对充电构件施加交流电压来测量阻抗时,阻抗的相位达到45°时的最大频率由fC(Hz)表示的情况下,fOPC和fC各自具有在一定范围内的值。
  • 处理电子照相设备
  • [发明专利]处理盒和电子照相设备-CN202011115290.6有效
  • 樋山史幸;渡口要;牧角康平;山内一浩;菊池裕一 - 佳能株式会社
  • 2020-10-19 - 2023-07-18 - G03G15/02
  • 本发明涉及处理盒和电子照相设备。提供一种可拆卸地安装至电子照相设备的主体的处理盒,所述处理盒包括:电子照相感光构件和充电构件,其中当电子照相感光构件中的计算长度的平均局部电位差基于特定方法计算时,平均局部电位差的最大值为2V以上,该充电构件包括支承体和导电层,该导电层具有基质和分散于基质中的域,基质的体积电阻率ρM为域的体积电阻率ρD的1.00×105倍以上,并且特定计算长度SCP[μm]和与域间距离Dms[μm]相关的特定值满足SCP≥3×Dms
  • 处理电子照相设备
  • [发明专利]电子照相感光构件、处理盒、和电子照相设备-CN202210935007.7在审
  • 关谷道代;渡口要;加来贤一 - 佳能株式会社
  • 2022-08-05 - 2023-04-04 - G03G5/047
  • 本发明涉及电子照相感光构件、处理盒、和电子照相设备。一种电子照相感光构件,其在支承体上具有膜厚度为0.2μm以上的电荷产生层和电荷输送层,其中在23.5℃并且50%RH的情况下,对感光构件进行以下操作和测量:具体的(1)、(2)、(3)和(4),在电场强度E为10至40V/μm的范围内,由复合常数Pe和电场强度E之间的关系表达式表示的线性近似直线的斜率α的绝对值为4×10‑3以下,所述关系表达式从通过在将Iexp以0.001μJ/cm2的间隔从0.000μJ/cm2改变为1.000μJ/cm2的同时重复进行(1)至(4)的特定操作和测量而获得的特定图表来获得。
  • 电子照相感光构件处理设备
  • [发明专利]电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备-CN202210937397.1在审
  • 牧角康平;渡口要;加来贤一;辻晴之 - 佳能株式会社
  • 2022-08-05 - 2023-04-04 - G03G5/047
  • 本发明涉及电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备。提供一种电子照相感光构件,其特征在于,在通过测量EV曲线的方法获得并且具有表示I的横轴和表示V的纵轴的图中,当I=0.500[μJ/cm2]时的V由Vr[V]表示、I=0.000~0.030[μJ/cm2]的范围内由S=I·(V‑Vr)表示的S[V·μJ/cm2]的最大值由Smax[V·μJ/cm2]表示、并且I=0.000~0.010[μJ/cm2]的范围内的近似直线与I=0.490~0.500[μJ/cm2]的范围内的近似直线之间的交点处横轴上的光量Ii[μJ/cm2]与纵轴上的电位Vi[V]的乘积由Si=Ii·(Vi‑Vr)[V·μJ/cm2]表示时,由AR=Si/Smax表示的Si与Smax之比满足AR≤0.10。
  • 电子照相感光构件处理设备
  • [发明专利]电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备-CN202210935347.X在审
  • 山合达也;渡口要;加来贤一;岩崎修平;丸山晃洋 - 佳能株式会社
  • 2022-08-04 - 2023-04-04 - G03G5/047
  • 本发明涉及电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备。电子照相感光构件包括:支承体;底涂层;电荷产生层;和电荷输送层,其中底涂层包含聚酰胺树脂和二氧化钛细颗粒,并且在底涂层的表面上,根据JIS B0601:2001的算术平均粗糙度Ra和粗糙度曲线要素的平均长度Rsm二者满足Ra≤50nm和0.1≤Ra/Rsm≤0.5;并且电荷产生层包含羟基镓酞菁颜料,其中羟基镓酞菁颜料包括具有在使用CuKα射线的X射线衍射的光谱中、在布拉格角2θ为7.4°±0.3°和28.2°±0.3°处显示峰的晶型的晶体颗粒;并且在使用小角X射线散射测量的晶体颗粒的尺寸分布中,峰存在于20至50nm的范围内,并且峰的半值宽度为50nm以下。
  • 电子照相感光构件处理设备
  • [发明专利]电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备-CN202010583243.8在审
  • 关谷道代;渡口要;川原正隆;石田知仁;牧角康平 - 佳能株式会社
  • 2020-06-23 - 2020-12-25 - G03G5/047
  • 本发明涉及电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备。一种电子照相感光构件,其包括圆筒状支承体、形成于所述圆筒状支承体上的电荷产生层、和形成于所述电荷产生层上的电荷输送层,其中在所述电荷产生层中,当将沿所述圆筒状支承体的轴方向从所述图像形成区域的中央位置至所述图像形成区域的端位置的区域等分为5个区域时,在等分所得的各个区域中所述电荷产生层的膜厚度彼此满足特定的关系,并且在所述电荷输送层中,当将沿所述圆筒状支承体的轴方向从所述图像形成区域的中央位置至所述图像形成区域的端位置的区域等分为5个区域时,在等分所得的各个区域中所述电荷输送层的膜厚度彼此满足特定的关系。
  • 电子照相感光构件处理设备
  • [发明专利]电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备-CN202010590641.2在审
  • 渡口要;石田知仁;川原正隆;关谷道代;牧角康平 - 佳能株式会社
  • 2020-06-24 - 2020-12-25 - G03G5/047
  • 本发明涉及电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备。电子照相感光构件具有:圆筒状支承体;在圆筒状支承体上形成的电荷产生层;和在电荷产生层上形成的电荷输送层,电荷产生层包含具有特定的CuKα特征X射线衍射峰的羟基镓酞菁晶体、具有特定的CuKα特征X射线衍射峰的氧钛酞菁晶体、或具有特定的分光吸收光谱的氯镓酞菁晶体作为电荷产生材料,并且在电荷产生层中,关于电荷产生层的膜厚度,当将从图像形成区域的中央位置至图像形成区域的端位置的区域在圆筒状支承体的轴向上分成五个相等的区域,并且各区域中的电荷产生层的平均膜厚度满足特定的条件。
  • 电子照相感光构件处理设备

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