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[发明专利]一种高分子材料表面镀耐磨膜层工艺及其制得的耐磨镀膜-CN202111499897.3在审
发明人：不公告发明人 -专利权人： 深圳市恒鼎新材料有限公司
申请日： 2021-12-09 - 公布日： 2022-04-19 - 主分类号： C23C14/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种高分子材料表面镀耐磨膜层工艺，包括如下步骤：镀氮化硅打底层步骤：在待镀膜工件表面通过真空镀膜，镀氮化硅打底层，厚度为2nm‑20nm；镀氮化硅膜层步骤：在氮化硅打底层上镀氮化硅膜层，厚度为20nm‑300nm；镀DLC耐磨层步骤：在氮化硅膜层上镀DLC耐磨层，通过上述设置，用氮化硅作为打底层，膜层与高分子材料的界面结合力好；用氮化硅作为主体膜层，整体膜系设计简单，工艺操作稳定性高；用DLC膜层作为外观膜层，耐磨性能好。本发明还公开了采用该工艺制得的耐磨镀膜。
一种高分子材料表面耐磨工艺及其镀膜

[发明专利]一种高分子材料表面增亮耐磨镀膜工艺及其制得的光学镀膜-CN202111499911.X在审
发明人：不公告发明人 -专利权人： 深圳市恒鼎新材料有限公司
申请日： 2021-12-09 - 公布日： 2022-04-15 - 主分类号： C23C14/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种高分子材料表面增亮耐磨镀膜工艺，其特征在于，包括以下步骤：镀氮化硅打底层步骤：在待镀膜工件表面通过溅射镀膜，镀氮化硅打底层；镀光学膜层步骤：在氮化硅打底层上镀氮化硅和碳化硅合金膜层，然后在氮化硅和碳化硅合金膜层上镀氮化硅过渡层，作为一个光学周期，镀光学膜层步骤包括若干光学周期；镀耐磨层步骤：在光学镀膜层上镀氮化硅和碳化硅合金膜层，通过上述设置，氮化硅和碳化硅合金膜层放在两层氮化硅之间，可以消除氮化硅膜层本身的应力；用氮化硅和碳化硅合金膜层作为外观膜层，能够提供更高的膜层折射率，提升膜层的光泽度和亮度，耐磨性好。本发明还公开了采用上述工艺制得的光学镀膜。
一种高分子材料表面耐磨镀膜工艺及其光学

[发明专利]一种高分子材料镀膜工艺-CN202111194214.3在审
发明人：不公告发明人 -专利权人： 深圳市恒鼎新材料有限公司
申请日： 2021-10-13 - 公布日： 2022-02-01 - 主分类号： C23C14/06 文献下载
摘要：一种高分子材料镀膜工艺，包括镀氮氧化硅膜层步骤，在待加工件表面镀氮氧化硅膜层作为后续镀膜层的打底层，镀氮氧化硅膜层步骤包括如下子步骤：A1、向镀膜腔室中通入氩气和氮气的混合气体，氩气：氮气为1:8‑3:1；A2、调整真空度为0.1‑1.33Pa；A3、打开硅靶电源对待加工件进行镀膜，镀膜的膜层厚度为2nm‑200nm，此膜层作为氮氧化硅膜层与待加工件高分子材料层的界面结合层。本发明用氮氧化硅膜层作为打底层，不会偏黄，膜层小于20nm则几乎无任何色相，不会改变待加工件的颜色，膜层厚度大于20nm，则打底层本身就可以作为光学膜系设计中的高折射率膜层。
一种高分子材料镀膜工艺