专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种镀膜真空室的抽气防护装置-CN202122738881.5有效
  • 王豪奇 - 洛阳生波尔真空装备有限公司
  • 2021-11-10 - 2022-10-18 - C23C14/56
  • 本实用新型提供一种镀膜真空室的抽气防护装置,包括防护挡板、具有防护网罩的防护罩和设于所述防护挡板与所述防护罩之间且用于调节所述防护罩与所述防护挡板之间的距离的调节组件。本实用新型采用上述结构,在进行真空抽气,镀膜真空室内的空气只能通过防护挡板与防护罩之间所形成的通气空间从侧部进入抽气防护装置,并通过防护网罩后排出,防护挡板可有效对跌落物进行阻隔,而防护罩则可有效对沉积异物进行阻隔,因此本实用新型可同时防止跌落物和沉积异物进入真空泵组,防止这些废物对真空泵组造成损害,而调节组件则可调节防护罩与防护挡板之间的距离,从而调节形成于其二者之间的通气空间的体积,进而实现对抽气的速率进行调节。
  • 一种镀膜真空防护装置
  • [实用新型]一种连续镀膜生产线用的基片架回转驱动装置-CN202123075242.1有效
  • 高文波;李小彭;彭友前;姜翠宁 - 洛阳生波尔真空装备有限公司
  • 2021-12-08 - 2022-08-30 - C23C14/56
  • 本实用新型提供一种连续镀膜生产线用的基片架回转驱动装置,包括回转架、设于回转架侧部且用于驱动基片架本体送入或送出真空回转室的传送组件以及设于回转架的底部且用于驱动回转架转动180°的转动驱动件,转动驱动件包括固设于真空回转室底部的定子和可转动地设于定子内的转子,定子与真空回转室之间设有密封件,转子与定子之间设有用于填充磁流体的磁流体密封腔。将镀膜生产线从中间“翻折”180°,从而将镀膜生产线的长度缩短一半,另外转动驱动件能在真空回转室外的大气环境中正常运行,在填充于磁流体密封腔内的磁流体和密封件的密封作用下可保证真空回转室不会在转动驱动件的位置处发生漏气,保证了驱动平稳性的同时保证了气密性。
  • 一种连续镀膜生产线基片架回转驱动装置
  • [实用新型]一种用于连续镀膜生产线上的基片架回转设备-CN202123106721.5有效
  • 高文波;李小彭;彭友前;姜翠宁 - 洛阳生波尔真空装备有限公司
  • 2021-12-08 - 2022-08-30 - C23C14/56
  • 本实用新型提供一种用于连续镀膜生产线上的基片架回转设备,包括侧部设有分别供基片架本体进入和送出的密封输入口和密封输出口的真空回转室、用于对真空回转室进行抽真空的抽气装置以及可转动地设于真空回转室内的回转驱动装置,密封输入口和密封输出口设于真空回转室的同一侧部,回转驱动装置包括回转架、设于回转架侧部且用于驱动基片架本体通过密封输入口送入真空回转室或通过密封输出口送出真空回转室的传送组件以及设于回转架底部且用于驱动回转架转动180°的转动驱动件。本实用新型可将镀膜生产线从中间“翻折”180°,将镀膜生产线长度缩短一半,另外还可使基片架本体的进料和出料位于同一工位位置,进而节省工位,提高镀膜效率。
  • 一种用于连续镀膜生产线上基片架回转设备
  • [发明专利]一种连续镀膜生产线用的基片架回转驱动装置-CN202111490062.1在审
  • 高文波;李小彭;彭友前;姜翠宁 - 洛阳生波尔真空装备有限公司
  • 2021-12-08 - 2022-05-03 - C23C14/56
  • 本发明提供一种连续镀膜生产线用的基片架回转驱动装置,包括回转架、设于回转架侧部且用于驱动基片架本体送入或送出真空回转室的传送组件以及设于回转架的底部且用于驱动回转架转动180°的转动驱动件,转动驱动件包括固设于真空回转室底部的定子和可转动地设于定子内的转子,定子与真空回转室之间设有密封件,转子与定子之间设有用于填充磁流体的磁流体密封腔。将镀膜生产线从中间“翻折”180°,从而将镀膜生产线的长度缩短一半,另外转动驱动件能在真空回转室外的大气环境中正常运行,在填充于磁流体密封腔内的磁流体和密封件的密封作用下可保证真空回转室不会在转动驱动件的位置处发生漏气,保证了驱动平稳性的同时保证了气密性。
  • 一种连续镀膜生产线基片架回转驱动装置
  • [发明专利]基于高真空环境下卷绕镀膜机工艺过程张力控制方法-CN202010821853.7有效
  • 李星;张灵朝 - 洛阳生波尔真空装备有限公司
  • 2020-08-15 - 2022-05-03 - B65H23/188
  • 本发明涉及真空卷绕镀膜张力控制的技术领域,尤其涉及一种基于高真空环境下卷绕镀膜机工艺过程张力控制方法,设置电极辊初始张力、薄膜走带线速度、电极辊直径以及磁粉离合器的初始输出量;检测过程张力和电极辊转动速度,计算电极辊前后张力在前一个测量周期内的张力平均值和该电极辊在前一个测量周期的速度平均值;算出张力损耗系数、张力偏差系数和速度偏差系数;最后算出磁粉输出量,电极辊在下个周期的初始直接用这个磁粉输出量来工作就能达到调节作用,实现对过程张力的控制调节,使各电极辊上粘滞摩擦接近,减少皱褶,各位置张力平稳,整个系统稳定;把张力控制器简化成张力检测器,无需采用昂贵的张力控制器,大大的节约了成本。
  • 基于真空环境卷绕镀膜机工过程张力控制方法
  • [实用新型]一种用于真空镀膜的雾化装置-CN202122495702.X有效
  • 李小彭;姜翠宁 - 洛阳生波尔真空装备有限公司
  • 2021-10-15 - 2022-05-03 - B05B17/06
  • 本实用新型提供一种用于真空镀膜的雾化装置,包括壳体和设于壳体内的雾化器本体,雾化器本体的两端分别设有通液接口和雾化喷头,通液接口用于通入供雾化器本体进行雾化的液态有机镀膜材料,雾化器本体上设有用于增压的增压接头。本发明先对液态有机镀膜材料的雾化,而后可以再对雾化后液态有机镀膜材料进行汽化,汽化后的有机镀膜材料可均匀地附着并涂覆于基材的表面上,成膜的过程在真空环境下完成,其适用范围广,可以获得较薄的镀膜层,也可以满足厚膜的需要,其均匀性容易控制,效率高,并且可以获得均匀性高和更高膜层性能的薄膜。
  • 一种用于真空镀膜雾化装置
  • [实用新型]一种镀膜生产线用的基片架存储机构-CN202122522697.7有效
  • 程海军;李献伟 - 洛阳生波尔真空装备有限公司
  • 2021-10-20 - 2022-05-03 - B65G1/04
  • 本实用新型提供一种镀膜生产线用的基片架存储机构,包括存储架、设于存储架的前后侧且用于承托基片架的支撑组件、设于存储架的顶部且用于供基片架抵靠并对其进行导向的上挡边导向装置以及设于存储架的下部且可驱动基片架沿Z轴和Y轴运动的传送装置,支撑组件上设有可供基片架的底侧卡入的卡槽,上挡边导向装置上设有可供基片架的顶侧抵靠并在基片架沿Y轴运动时对其进行导向的导向轮。传送装置可驱动基片架送入或送出存储架,上挡边导向装置的导向轮供基片架抵靠并对其进行导向,从而实现基片架的自动存储,本实用新型与镀膜生产线配合,可直接将基片架在生产线中运输,其结构简单,提高了整条镀膜生产线的自动化程度,节省人力,提高生产效率。
  • 一种镀膜生产线基片架存储机构
  • [发明专利]一种用于连续镀膜生产线上的基片架回转设备-CN202111489379.3在审
  • 高文波;李小彭;彭友前;姜翠宁 - 洛阳生波尔真空装备有限公司
  • 2021-12-08 - 2022-03-25 - C23C14/56
  • 本发明提供一种用于连续镀膜生产线上的基片架回转设备,包括侧部设有分别供基片架本体进入和送出的密封输入口和密封输出口的真空回转室、用于对真空回转室进行抽真空的抽气装置以及可转动地设于真空回转室内的回转驱动装置,密封输入口和密封输出口设于真空回转室的同一侧部,回转驱动装置包括回转架、设于回转架侧部且用于驱动基片架本体通过密封输入口送入真空回转室或通过密封输出口送出真空回转室的传送组件以及设于回转架底部且用于驱动回转架转动180°的转动驱动件。本发明可将镀膜生产线从中间“翻折”180°,从而将镀膜生产线长度缩短一半,另外还可使基片架本体的进料和出料均位于同一工位位置,进而节省了工位,并提高了镀膜生产的效率。
  • 一种用于连续镀膜生产线上基片架回转设备
  • [发明专利]一种用于真空镀膜的雾化装置-CN202111203394.7在审
  • 李小彭;姜翠宁 - 洛阳生波尔真空装备有限公司
  • 2021-10-15 - 2021-12-24 - B05B17/06
  • 本发明提供一种用于真空镀膜的雾化装置,包括壳体和设于壳体内的雾化器本体,雾化器本体的两端分别设有通液接口和雾化喷头,通液接口用于通入供雾化器本体进行雾化的液态有机镀膜材料,雾化器本体上设有用于增压的增压接头。本发明先对液态有机镀膜材料的雾化,而后可以再对雾化后液态有机镀膜材料进行汽化,汽化后的有机镀膜材料可均匀地附着并涂覆于基材的表面上,成膜的过程在真空环境下完成,其适用范围广,可以获得较薄的镀膜层,也可以满足厚膜的需要,其均匀性容易控制,效率高,并且可以获得均匀性高和更高膜层性能的薄膜。
  • 一种用于真空镀膜雾化装置
  • [实用新型]旋转镀膜机构及其应用的连续式镀膜生产线-CN202020996802.3有效
  • 高文波;李小彭;张亚宁 - 洛阳生波尔真空装备有限公司
  • 2020-06-03 - 2021-05-11 - C23C14/50
  • 本申请涉及真空镀膜领域,尤其涉及一种旋转镀膜机构及其应用的连续式镀膜生产线,旋转镀膜机构包括可装夹基板工件的基片架,基片架上设置有可随基片架滑动的滚筒组件、以及带动滚筒组件转动的传动机构,滚筒组件包括转动本体,转动本体上设有用于支撑圆筒形工件的支撑部,圆筒形工件支撑于该支撑部上且可随转动本体相对基片架转动以实现真空镀膜。本申请在原有设备中增加可实现圆筒形工件镀膜的旋转镀膜机构,增加镀膜产品种类,既可在基片架上装夹大型平板,完成平板工件的镀膜,也可在滚筒组件上装设圆筒形工件,完成圆筒形工件的镀膜,可镀产品种类增加,提高设备利用率,减少企业投入多种设备,降低投资成本。
  • 旋转镀膜机构及其应用连续生产线
  • [实用新型]单体气化装置及其应用的镀膜设备-CN202020997062.5有效
  • 高文波;李小彭 - 洛阳生波尔真空装备有限公司
  • 2020-06-03 - 2021-05-07 - C23C14/56
  • 本申请涉及真空镀膜领域,尤其涉及一种单体气化装置及其应用的镀膜设备,单体气化装置包括箱体,箱体内设有用于封装液态单体气的单体容器以及用于对单体容器恒温加热的恒温加热系统,单体容器上还设有出气管,通过恒温加热系统对单体容器加热使液态单体气气化并使气化后的单体气形成一定的带压气源从出气管流出,且单体容器上还设有用于检测单体容器内液态单体气的余量的单体液位测量装置。本申请的单体液位测量装置可实时测量液态单体气液位,以便监测单体气余量,通过恒温加热系统恒温加热单体容器,可使单体容器内温度均匀升高,使得液态单体气气化,从而使单体容器内气态单体形成一定单体压强,保证其真空镀膜时的连续性和稳定性。
  • 单体气化装置及其应用镀膜设备

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