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专利名称

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申请人
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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[实用新型]一种低损伤磁控平面阴极-CN202321124799.6有效
发明人：王雨鑫;张奇龙;李伟 -专利权人： 江苏利成精密科技有限公司;杭州朗为科技有限公司
申请日： 2023-05-11 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型提供一种低损伤磁控平面阴极，包括基座、平面阴极组件、接地阳极和辅助阳极；所述基座任意角度放置，所述平面阴极组件固定连接在基座顶端相对位置，所述平面阴极组件相对一侧两端分别固定连接有挡板，所述挡板与平面阴极组件固定连接形成工作腔，所述工作腔顶部呈开口设置，本实用新型的两个平面阴极相对布置，基片与靶材垂直，靶材分子自由扩散沉积到基片，能量小，对基片损伤小，两个平面阴极互为闭合磁场，增加离化率,提高膜层附着力，电阻率，接地阳极可以吸收飞向基片的电子，减少电子对于基片的加热作用，辅助阳极接正电，0‑30V可调，基本可以完全吸收飞向基片的电子，消除电子对于基片的加热作用。
一种损伤平面阴极

[实用新型]一种低损伤磁控旋转阴极-CN202321124804.3有效
发明人：王雨鑫;张奇龙;李伟 -专利权人： 江苏利成精密科技有限公司;杭州朗为科技有限公司
申请日： 2023-05-11 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型提供一种低损伤磁控旋转阴极；包括底板和阳极框；底板任意位置放置，阳极框固定连接在底板顶端，阳极框内设置有与底板顶面固定连接的水冷阳极板，水冷阳极板上开设有第一通口，第一通口内设置有与底板固定连接的气路板，底板上靠近水冷阳极板一端固定连接有若干第一支撑件，底板上靠近水冷阳极板另一端固定连接有若干第二支撑件；本实用新型通过设置旋转阴极使靶材与基片垂直，从而可以使靶材分子自由沉积到基片上，避免了对基片的损伤靶材与水冷阳极板在电极的不同的作用下会形成一个电回路，使靶材附近的电子被水冷阳极板吸收，从而来降低溅射区域的温度。
一种损伤旋转阴极

[发明专利]一种采用磁控溅射成膜的方法-CN202210552948.2在审
发明人：庞斐;吕练勤 -专利权人： 江苏利成精密科技有限公司
申请日： 2022-05-19 - 公布日： 2022-08-19 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本申请提供了一种采用磁控溅射成膜的方法，其包括以下步骤：在磁控溅射设备中靠近靶材的第一区域通入反应气体Ar，靶材连接于阴极；在磁控溅射设备中靠近底层的第二区域通入保护气体，保护气体进入第二区域前，经由正电线圈或正电极，反应生成带正电荷的离子气体；开启电场；靶材产生靶材粒子，靶材粒子沉积至底层形成靶材膜层，底层位于基片上靠近靶材的最外层。通过在靠近底层的第二区域通入保护气体，使保护气体反应生成的带正电荷的离子气体与带负电荷的靶材粒子和电子产生中和，消除带负电荷的靶材粒子和电子，使中性靶材粒子沉积至底层上，形成靶材膜层。由此，可以有效降低底层材料的损伤。
一种采用磁控溅射方法

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