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[发明专利]磁芯-CN201780060538.3有效
发明人：前田贵大;齐藤忠雄;土生悟;山田胜彦;日下隆夫;井上哲夫 -专利权人：株式会社东芝;东芝高新材料公司
申请日： 2017-09-28 - 公布日： 2021-10-12 - 主分类号： H01F27/24 文献下载
摘要：一种磁芯，其具备：具有平均晶体粒径为100nm以下的晶体结构的多个铁基软磁性合金板和设置于多个铁基软磁性合金板的一个与另一个之间的绝缘层。磁芯中的多个铁基磁性合金板的占空系数为65％以上，100kHz频率时的初始导磁率为25000以上。
磁芯

[发明专利]光催化剂及使用其的光催化剂分散液、光催化剂涂料、光催化剂膜和制品-CN201810153100.6有效
发明人：福士大辅;日下隆夫;佐藤光;中野佳代;新田晃久;乾由贵子;大田博康 -专利权人：株式会社东芝;东芝高新材料公司
申请日： 2014-03-11 - 公布日： 2020-12-11 - 主分类号： B01J23/30 文献下载
摘要：本发明涉及光催化剂及使用其的光催化剂分散液、光催化剂涂料、光催化剂膜和制品。实施方式的光催化剂具备氧化钨基微粒，其中含有5质量％以上至100质量％以下的范围的氧化钨。在光催化剂采用拉曼分光法测定的拉曼光谱中，在920cm‑1以上至950cm‑1以下的范围观察到的峰的强度X与在800cm‑1以上至810cm‑1以下的范围观察到的峰的强度Y之比(X/Y)在大于0至0.04以下的范围。
光催化剂使用分散涂料制品

[发明专利]阳离子吸附剂及使用其的溶液的处理方法-CN201710247032.5有效
发明人：佐藤光;福士大辅;日下隆夫;中野佳代;乾由贵子;佐佐木亮人 -专利权人：株式会社东芝;东芝高新材料公司
申请日： 2012-08-23 - 公布日： 2020-10-27 - 主分类号： B01J20/06 文献下载
摘要：本发明涉及阳离子吸附剂及使用其的溶液的处理方法，所述阳离子吸附剂具备BET比表面积为0.82m2/g以上820m2/g以下的范围的氧化钨微粒。向含有回收对象的阳离子的被处理溶液中添加这样的阳离子吸附剂，然后使吸附了阳离子的阳离子吸附剂沉淀。从被处理溶液中分离回收生成的沉淀物。
阳离子吸附剂使用溶液处理方法

[发明专利]水系分散液、使用水系分散液的涂料、光催化膜及制品-CN201610534760.X有效
发明人：福士大辅;日下隆夫;佐藤光;中野佳代;新田晃久;乾由贵子;大田博康 -专利权人：株式会社东芝;东芝高新材料公司
申请日： 2013-05-31 - 公布日： 2019-11-12 - 主分类号： B01J23/30 文献下载
摘要：本发明提供水系分散液，实施方式的水系分散液具备：含有氧化钨和氧化锆的可见光响应型光催化复合微粒、以及分散有光催化复合微粒的水系分散介质。光催化复合微粒中，氧化锆的质量相对于氧化钨的质量的比例为0.05％以上200％以下的范围，且粒度分布中的D50粒径在20nm以上10μm以下的范围。水系分散液的pH在1以上9以下的范围。
水系分散使用涂料光催化制品

[发明专利]光催化剂性能的模拟方法-CN201510725590.9有效
发明人：新田晃久;日下隆夫;佐藤光;中野佳代;丰岛正规;福士大辅;佐多丰 -专利权人：株式会社东芝;东芝高新材料公司
申请日： 2015-10-30 - 公布日： 2019-05-07 - 主分类号： G01N31/10 文献下载
摘要：实施方式的光催化剂性能的模拟方法具备：选择选自光催化剂的涂布前的房间内的气味成分浓度、房间的容积、房间的每单位时间的换气次数、房间内的水蒸气量、房间内的温度、光催化剂的涂布面的照度、及光催化剂的涂布面附近的风速中的至少1个作为涂布光催化剂的房间的环境条件的工序(101)；基于选择的房间的环境条件，设定选自光催化剂的涂布面密度及光催化剂的涂布面积中的至少1个作为光催化剂向房间内的涂布条件的工序(102)；以及，基于光催化剂的基本性能、房间的环境条件、及光催化剂的涂布条件算出光催化剂的涂布后的房间内的气味成分浓度的工序(103)。
光催化剂涂布条件涂布面换气方法实施基本性能水蒸气量风速照度

[发明专利]阳离子吸附剂及使用其的溶液的处理方法-CN201280040698.9有效
发明人：佐藤光;福士大辅;日下隆夫;中野佳代;乾由贵子;佐佐木亮人 -专利权人：株式会社东芝;东芝高新材料公司
申请日： 2012-08-23 - 公布日： 2018-06-15 - 主分类号： B01J20/06 文献下载
摘要：本发明实施方式的阳离子吸附剂具备BET比表面积为0.82m2/g以上820m2/g以下的范围的氧化钨微粒。向含有回收对象的阳离子的被处理溶液中添加这样的阳离子吸附剂，然后使吸附了阳离子的阳离子吸附剂沉淀。从被处理溶液中分离回收生成的沉淀物。 1
阳离子吸附剂处理溶液阳离子分离回收氧化钨吸附沉淀回收

[发明专利]光催化剂性能的模拟方法-CN201680051956.1在审
发明人：新田晃久;日下隆夫;佐藤光;中野佳代;丰岛正规;福士大辅;佐田丰 -专利权人：株式会社东芝;东芝高新材料公司
申请日： 2016-08-31 - 公布日： 2018-05-11 - 主分类号： G06F17/50 文献下载
摘要：实施方式的光催化剂性能的模拟方法具备：选择选自光催化剂的涂布前的房间内的气味成分浓度、房间的容积、房间的每单位时间的换气次数、房间内的水蒸气量、房间内的温度、光催化剂的涂布面的照度、及光催化剂的涂布面附近的风速中的至少1个作为涂布光催化剂的房间的环境条件的工序(101)；基于选择的房间的环境条件，设定选自光催化剂的涂布面密度及光催化剂的涂布面积中的至少1个作为光催化剂向房间内的涂布条件的工序(102)；以及，基于光催化剂的基本性能、房间的环境条件、及光催化剂的涂布条件算出光催化剂的涂布后的房间内的气味成分浓度的工序(103)。
光催化剂性能模拟方法

[发明专利]光催化剂及使用其的光催化剂分散液、光催化剂涂料、光催化剂膜和制品-CN201480013558.1有效
发明人：福士大辅;日下隆夫;佐藤光;中野佳代;新田晃久;乾由贵子;大田博康 -专利权人：株式会社东芝;东芝高新材料公司
申请日： 2014-03-11 - 公布日： 2018-03-20 - 主分类号： B01J35/02 文献下载
摘要：实施方式的光催化剂具备氧化钨基微粒，其中含有5质量％以上至100质量％以下的范围的氧化钨。在光催化剂采用拉曼分光法测定的拉曼光谱中，在920cm‑1以上至950cm‑1以下的范围观察到的峰的强度X与在800cm‑1以上至810cm‑1以下的范围观察到的峰的强度Y之比(X/Y)在大于0至0.04以下的范围。
光催化剂使用分散涂料制品

[发明专利]亲水性薄膜以及使用该亲水性薄膜的构件和结构物-CN201410145783.2有效
发明人：中野佳代;佐藤光;白川康博;日下隆夫;笠松伸矢 -专利权人：株式会社东芝;东芝高新材料公司
申请日： 2009-09-16 - 公布日： 2014-07-30 - 主分类号： B32B27/06 文献下载
摘要：亲水性薄膜包括基材薄膜以及至少存在于基材薄膜的表面的微粒。微粒由选自氧化钨微粒和氧化钨复合材料微粒的至少1种构成。微粒的平均粒径在1nm以上200nm以下的范围内，且微粒的长宽比在1以上3.5以下的范围内。
亲水性薄膜以及使用构件结构

[发明专利]水系分散液、使用水系分散液的涂料、光催化膜及制品-CN201380002970.9有效
发明人：福士大辅;日下隆夫;佐藤光;中野佳代;新田晃久;乾由贵子;大田博康 -专利权人：株式会社东芝;东芝高新材料公司
申请日： 2013-05-31 - 公布日： 2014-05-14 - 主分类号： B01J35/02 文献下载
摘要：本发明提供水系分散液，实施方式的水系分散液具备：含有氧化钨和氧化锆的可见光响应型光催化复合微粒、以及分散有光催化复合微粒的水系分散介质。光催化复合微粒中，氧化锆的质量相对于氧化钨的质量的比例为0.05%以上200%以下的范围，且粒度分布中的D50粒径在20nm以上10μm以下的范围。水系分散液的pH在1以上9以下的范围。
水系分散使用涂料光催化制品

[发明专利]带衬纸磁性片材和利用该片材的电子元器件的制造方法-CN201080025224.8有效
发明人：山田胜彦;酒井和美;日下隆夫;齐藤忠雄 -专利权人：株式会社东芝;东芝高新材料公司
申请日： 2010-06-03 - 公布日： 2012-05-16 - 主分类号： H05K9/00 文献下载
摘要：根据实施方式，提供通过粘接层(7)将层叠有树脂薄膜(3)和薄板状磁性体(5)的磁性片材(2)粘接于成为衬纸(6)的片材基材(8)的带衬纸磁性片材(1)。当将磁性片材(2)从片材基材(8)剥下来时，衬纸(6)的粘接层(7)附着于片材基材(8)。
衬纸磁性利用该片电子元器件制造方法

[发明专利]亲水性薄膜以及使用该亲水性薄膜的构件和结构物-CN200980136969.9有效
发明人：中野佳代;佐藤光;白川康博;日下隆夫;笠松伸矢 -专利权人：株式会社东芝;东芝高新材料公司
申请日： 2009-09-16 - 公布日： 2011-08-17 - 主分类号： B01J35/02 文献下载
摘要：亲水性薄膜包括基材薄膜以及至少存在于基材薄膜的表面的微粒。微粒由选自氧化钨微粒和氧化钨复合材料微粒的至少1种构成。微粒的平均粒径在1nm以上200nm以下的范围内，且微粒的长宽比在1以上3.5以下的范围内。
亲水性薄膜以及使用构件结构

[发明专利]高硬度、高耐蚀和高耐磨的合金-CN201110027024.2无效
发明人：六反田贵史;新井智久;日下隆夫;神保信义 -专利权人：株式会社东芝;东芝高新材料公司
申请日： 2005-09-22 - 公布日： 2011-06-22 - 主分类号： C22C27/06 文献下载
摘要：本发明提供高硬度、高耐蚀和高耐磨合金和包含该合金的构件和能形成该合金的合金用材料及制造该合金的方法，其中该合金是经过时效热处理的Cr-Al-Ni基合金，在合金横截面的金属组织中γ相晶粒边界处析出的(α相+γ′相+γ相)混合相的比例以面积比表示不小于95％，该合金的由X 射线衍射测量的强度比以Iα(110)/[Iγ(200)+Iγ′(004)]×100表示不小于50％且不大于200％。本发明能提供具有优异耐腐性、硬度、耐磨性、脱模性、疲劳强度和成型表面镜面加工性的Cr-Al-Ni基合金和包含该合金的构件、能形成该合金的合金用材料及生产该合金的方法。
硬度高耐蚀耐磨合金

[发明专利]高硬度、高耐蚀和高耐磨的合金-CN200580033233.0无效
发明人：六反田贵史;新井智久;日下隆夫;神保信义 -专利权人：株式会社东芝;东芝高新材料公司
申请日： 2005-09-22 - 公布日： 2007-10-17 - 主分类号： C22C19/05 文献下载
摘要：本发明提供高硬度、高耐蚀和高耐磨合金和包含该合金的构件和能形成该合金的合金用材料及制造该合金的方法，其中该合金是经过时效热处理的Cr－Al－Ni基合金，在合金横截面的金属组织中γ相晶粒边界处析出的(α相+γ′相+γ相)混合相的比例以面积比表示不小于95％，该合金的由X射线衍射测量的强度比以Iα(110)/[Iγ(200)+Iγ′(004)]×100表示不小于50％且不大于200％。本发明能提供具有优异耐腐性、硬度、耐磨性、脱模性、疲劳强度和成型表面镜面加工性的Cr－Al－Ni基合金和包含该合金的构件、能形成该合金的合金用材料及生产该合金的方法。
硬度高耐蚀耐磨合金

[发明专利]电感元件及其制造方法-CN200480031313.8无效
发明人：井上哲夫;日下隆夫;山田大樹 -专利权人：株式会社东芝;东芝高新材料公司
申请日： 2004-10-25 - 公布日： 2006-11-29 - 主分类号： H01F17/04 文献下载
摘要：电感元件(1)具备具有磁性合金薄带(5)的层合物(6)与以非粘接状态被覆其外周面的绝缘被覆层(7)的磁心(2)，和卷绕在磁心(2)周围的线圈(4)。磁性合金薄带(5)以非粘接状态、或通过具有柔软性的绝缘性粘接剂层层合。采用这样的电感元件，则在小型化和缩短化的情况下也可以稳定地获得良好的特性。
电感元件及其制造方法

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