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[实用新型]一种涂布机刮刀限位装置-CN202122280062.0有效
发明人：文祥;方卫明 -专利权人：上海顶皓新材料科技有限公司
申请日： 2021-09-18 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： B05C1/08 文献下载
摘要：本实用新型涉及涂布机设备技术领域，具体为一种涂布机刮刀限位装置，包括刀架，所述刀架的一侧开设有安装槽，所述安装槽的内部一侧固定有齿条，所述齿条的一侧开设有滑槽，所述滑槽的内部底端等距设有多组复位弹簧，所述复位弹簧的顶部连接有压板，所述压板的顶部连接有刮刀组件，通过设置的滑槽、复位弹簧、压板、固定块、限位孔以及限位螺栓，从而能够在刮刀组件进行安装时对其进行限位，避免其产生位置的偏移，使得设备使用时更加的高效。
一种涂布机刮刀限位装置

[实用新型]一种耐热锂离子电池复合隔膜-CN202122228328.7有效
发明人：文祥;方卫明 -专利权人：上海顶皓新材料科技有限公司
申请日： 2021-09-14 - 公布日： 2022-01-25 - 主分类号： H01M50/44 文献下载
摘要：本实用新型涉及锂离子电池技术领域，具体为一种耐热锂离子电池复合隔膜，包括隔膜主体，所述隔膜主体包括隔膜基层、上粘接层、下粘接层、上复合隔膜层和下复合隔膜层，所述隔膜基层的上侧面设置有上粘接层，所述上粘接层的上侧面设置有上复合隔膜层，所述隔膜基层的下面侧设置有下粘接层，所述下粘接层的下侧面设置有下复合隔膜层，通过上复合隔膜层和下复合隔膜层采用陶瓷聚烯烃复合膜，陶瓷聚烯烃复合膜表面层主要由纳米级的无机颗粒形成，存在很多微型通道和孔隙，由于陶瓷聚烯烃复合膜的多孔特性对所有电解液都具有优良的湿润性，陶瓷聚烯烃膜吸收适量的液态电解液后，具有较好的离子导电性，并且陶瓷聚烯烃复合膜的柔韧耐热性能良好。
一种耐热锂离子电池复合隔膜

[外观设计]均陶摆件（两面开弓八方来财书画缸）-CN202130047551.4有效
发明人：方薛斐;张丽;方卫明 -专利权人：无锡太湖学院
申请日： 2021-01-22 - 公布日： 2021-07-16 - 主分类号： 11-02 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：均陶摆件（两面开弓八方来财书画缸）。2.本外观设计产品的用途：用于摆放观赏。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状与图案的结合。4.最能表明设计要点的图片或照片：主视图。5.本外观设计产品的底面为使用时不容易看到或看不到的部位，省略仰视图。
摆件两面开弓八方书画

[外观设计]均陶摆件（打陀螺画插）-CN202130047323.7有效
发明人：方薛斐;张丽;方卫明 -专利权人：无锡太湖学院
申请日： 2021-01-22 - 公布日： 2021-07-13 - 主分类号： 11-02 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：均陶摆件（打陀螺画插）。2.本外观设计产品的用途：用于摆放观赏。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状与图案的结合。4.最能表明设计要点的图片或照片：主视图。5.本外观设计产品的底面为使用时不容易看到或看不到的部位，省略仰视图。
摆件陀螺

[外观设计]均陶（踢毽子书画缸）-CN202130047543.X有效
发明人：方薛斐;张丽;方卫明 -专利权人：无锡太湖学院
申请日： 2021-01-22 - 公布日： 2021-06-08 - 主分类号： 11-02 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：均陶（踢毽子书画缸）。2.本外观设计产品的用途：用于摆放观赏，或用作容器使用。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状与图案的结合。4.最能表明设计要点的图片或照片：主视图。5.本外观设计产品的底面为使用时不容易看到或看不到的部位，省略仰视图。
均陶踢毽子书画

[发明专利]一种用于均陶制作的紫蓝釉及其制备方法-CN202011135944.1在审
发明人：方薛斐;张丽;方卫明 -专利权人：无锡太湖学院
申请日： 2020-10-22 - 公布日： 2021-01-05 - 主分类号： C03C8/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于均陶制作的紫蓝釉，包括以下重量份数的组分：40~60份的长石，5~10份的高岭土，1~10份的石英，10~20份的石灰石，1~5份的滑石，0.1~2份的氧化铁和0.1~1份的碳酸镁。同时，本发明还公开了上述用于均陶制作的紫蓝釉的制备方法。本发明与传统技术相比，配方科学，原料成本低，釉水稳定性高，且能显示与传统均釉蓝黄两色有所区别的紫蓝色。
一种用于陶制紫蓝及其制备方法

[发明专利]一种用于均陶制作的铜绿釉及其制备方法-CN202011135964.9在审
发明人：方薛斐;张丽;方卫明 -专利权人：无锡太湖学院
申请日： 2020-10-22 - 公布日： 2021-01-01 - 主分类号： C03C8/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于均陶制作的铜绿釉，包括以下重量份数的组分：40~50份的钾长石，15~25份的石英，15~25份的石灰石，10~20份的玻璃，1~5份的氧化锌，0.01~0.1份的氧化铬和0.01~0.1份的氧化钙。同时，本发明还公开了上述用于均陶制作的铜绿釉的制备方法。本发明与传统技术相比，配方科学，原料成本低，釉水稳定性高，且能显示与传统均釉蓝黄两色有所区别的铜绿色。
一种用于陶制铜绿及其制备方法

[发明专利]一种珐琅彩及其制备方法-CN201610704523.3有效
发明人：方薛斐;方卫明;张丽 -专利权人：无锡太湖学院
申请日： 2016-08-23 - 公布日： 2019-11-08 - 主分类号： C03C8/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种珐琅彩，包括以下重量份数的组分：100~150份的钾长石，100~120份的麦饭石，80~100份的堇青石，60~80份的石英石，10~30份的氧化锌和10~40份的氧化钙。同时，本发明还公开了上述珐琅彩的制备方法。本发明与传统技术相比，本发明与传统技术相比，配方科学，原料成本低，由于在制备时经过二次烧成更增加了珐琅彩本身的稳定性，适合各种陶瓷胎体的彩绘。
一种珐琅及其制备方法

[实用新型]一种隔膜裁样印刷装置-CN201821819349.8有效
发明人： 方卫明;刘显松;程素贞 -专利权人：上海顶皓新材料科技有限公司
申请日： 2018-11-06 - 公布日： 2019-08-09 - 主分类号： B41F19/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及隔膜加工技术领域，尤其为一种隔膜裁样印刷装置，包括工作台，所述工作台的一端底部固定连接有立柜，所述立柜的内部固定设有第一抽屉和第二抽屉，所述工作台远离立柜的一端底部固定连接有支撑板，所述工作台靠近支撑板的一侧顶部固定设有基座，所述基座的顶部固定连接有底块，所述底块的顶部固定连接有支架，所述支架的顶部固定设有微型电机，所述微型电机的侧壁输出端转动连接有转轴，所述转轴的周壁转动连接有转动轮，所述转动轮的表面转动缠绕有隔膜，所述工作台靠近基座的一侧固定设有第一隔膜压紧辊，所述第一隔膜压紧辊远离基座的一侧固定设有裁剪板，装置整体结构实用性较高，使用方便简单，工作效率高，结构科学合理。
隔膜工作台立柜微型电机印刷装置转动连接压紧辊支撑板转动轮支架转轴抽屉加工技术领域本实用新型工作效率高表面转动结构科学内部固定裁剪板输出端侧壁底块周壁缠绕

[发明专利]一种陶瓷釉料及其制备方法-CN201610704480.9有效
发明人：方薛斐;方卫明;张丽 -专利权人：无锡太湖学院
申请日： 2016-08-23 - 公布日： 2019-04-09 - 主分类号： C03C8/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种陶瓷釉料，包括以下重量份数的组分：120~150份的膨润土，100~150份的高岭土，100~120份的石英石，80~100份的硅灰石，20~60份的贝壳粉，10~30份的氧化锶，10~30份的氧化锆，10~20份的氧化铈和10~20份的氧化钇。同时，本发明还公开了上述陶瓷釉料的制备方法。本发明与传统技术相比，本发明与传统技术相比，配方科学，原料成本低，通过多种微量重金属的加入代替铅原料，减少了对环境的污染及人体的危害。
一种陶瓷釉料及其制备方法

[发明专利]一种环保陶瓷釉料及其制备方法-CN201610704836.9有效
发明人：方薛斐;方卫明;张丽 -专利权人：无锡太湖学院
申请日： 2016-08-23 - 公布日： 2019-04-09 - 主分类号： C03C8/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种环保陶瓷釉料，包括以下重量份数的组分：120~150份的海泡石，100~150份的硅灰石，100~120份的石英石，80~100份的硅灰石，20~60份的堇青石，10~30份的氧化铈，10~30份的氧化锆，10~20份的氧化锶和10~20份的氧化铯。同时，本发明还公开了上述环保陶瓷釉料的制备方法。本发明与传统技术相比，本发明与传统技术相比，配方科学，原料成本低，通过多种微量重金属的加入代替铅原料，减少了对环境的污染及人体的危害。
一种环保陶瓷釉料及其制备方法

[发明专利]一种防裂珐琅彩及其制备方法-CN201610704458.4有效
发明人：方薛斐;方卫明;张丽 -专利权人：宜兴市方卫明均陶艺术研究所
申请日： 2016-08-23 - 公布日： 2018-11-30 - 主分类号： C03C8/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种防裂珐琅彩，包括以下重量份数的组分：100~150份的钾长石，100~120份的沸石，80~100份的火山岩，60~80份的滑石，10~30份的氧化铈和10~40份的氧化镁。同时，本发明还公开了上述防裂珐琅彩的制备方法。本发明与传统技术相比，本发明与传统技术相比，配方科学，原料成本低，由于在制备时经过二次烧成更增加了防裂珐琅彩本身的稳定性，适合各种陶瓷胎体的彩绘。
珐琅彩防裂制备火山岩滑石二次烧成配方科学陶瓷胎体原料成本重量份数钾长石氧化镁氧化铈沸石彩绘

[发明专利]一种珐琅釉料及其制备方法-CN201610704522.9有效
发明人：方薛斐;方卫明;张丽 -专利权人：宜兴市方卫明均陶艺术研究所
申请日： 2016-08-23 - 公布日： 2018-11-30 - 主分类号： C03C8/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种珐琅釉料，包括以下重量份数的组分：100~150份的方解石，100~120份的麦饭石，80~100份的堇青石，60~80份的花岗石，20~50份的高岭土，10~30份的氧化锌，10~20份的氧化钇和10~30份的氧化锆。同时，本发明还公开了上述珐琅釉料的制备方法。本发明与传统技术相比，本发明与传统技术相比，配方科学，原料成本低，由于在制备时经过二次烧成更增加了珐琅釉料本身的稳定性，适合各种陶瓷胎体的釉料绘。
珐琅釉料制备方解石高岭土二次烧成配方科学陶瓷胎体原料成本重量份数花岗石麦饭石氧化锌氧化钇氧化锆堇青石釉料

[发明专利]一种均釉及其制备方法和使用方法-CN201610704521.4有效
发明人：方薛斐;方卫明;张丽 -专利权人：宜兴市方卫明均陶艺术研究所
申请日： 2016-08-23 - 公布日： 2018-11-30 - 主分类号： C03C8/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种均釉，包括以下重量百分比的组分：10~30％白土，1~5％青石粉，40~60％白泥，5~20％石灰岩山泥浆，1~3％土骨，3~12％太湖边芦根泥浆，6~13％玻璃，3~10％草木灰。同时，本发明还公开了上述均釉的制备方法和使用方法。本发明与传统技术相比，各组分采用低价的成本材料来完成，节约了生产成本，同时，制备方法和使用方法的限制较低，能够适合大部分厂家甚至个体生产商来完成，降低了条件门槛，适合均釉的大力推广。
一种及其制备方法使用方法

[实用新型]一种用于均陶制作的刻花工具-CN201620920334.5有效
发明人：方薛斐;方卫明;张丽 -专利权人：宜兴市方卫明均陶艺术研究所
申请日： 2016-08-23 - 公布日： 2017-05-10 - 主分类号： B44B1/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于均陶制作的刻花工具，包括工字型形筒体，筒体的一端为莲花形，筒体的另一端为三字形。本实用新型与传统技术相比，在制作均陶表面图形时，可以避免一些传统图形或图案中的断裂、形状不对称等问题。
一种用于陶制刻花工具

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