专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]不断开高功率电路的电容测量-CN201980015041.9在审
  • 苏尼尔·卡普尔;托马斯·弗雷德里克 - 朗姆研究公司
  • 2019-02-22 - 2020-10-13 - H01L21/66
  • 提供了一种用于等离子体辅助的半导体处理的方法和装置。该方法包括:a)在所述多个站中的每个站处提供衬底;b)将包括第一目标频率的RF功率分配给多个站,从而在所述站内产生等离子体,其中,根据配置为减小站与站之间的变化的RF功率参数来分配所述RF功率;c)调谐用于被包括在所述多个站中的第一站的阻抗匹配电路,同时通过以下方式将RF功率分配给所述第一站:i)在不将电容器与所述阻抗匹配电路断开的情况下,测量所述阻抗匹配电路中的所述电容器的电容;以及ii)根据(i)中所测得的所述电容和所述RF功率参数,调节所述电容器的电容;以及d)在每个站处在所述衬底上执行半导体处理操作。
  • 断开功率电路电容测量
  • [发明专利]半导体处理工具中的RF电流测量-CN201980015157.2在审
  • 苏尼尔·卡普尔;托马斯·弗雷德里克 - 朗姆研究公司
  • 2019-02-22 - 2020-10-09 - H01J37/32
  • 提供了一种在处理室中的多个站中进行等离子体辅助的半导体处理的方法。该方法包括:a)在所述多个站中的每个站处提供衬底;b)将RF功率分配给多个站,从而在所述站内产生等离子体,其中,根据被调节以减小站与站之间的变化的RF功率参数来分配所述RF功率;c)调谐所述RF功率的频率,其中,调谐所述频率包括:i)测量所述等离子体的电流,ii)根据(i)中所测得的所述电流确定所述RF功率的所述频率的变化,以及iii)调节所述RF功率的所述频率;以及d)在每个站处在所述衬底上执行半导体处理操作。
  • 半导体处理工具中的rf电流测量

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