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[发明专利]基板支撑件、处理基板的方法、以及处理系统-CN202180094198.2在审
发明人：西蒙·刘;托比亚斯·伯格曼;梅兰•贝德亚特;李明宗;蒋弘晖 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-02-19 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：描述了一种用于在真空处理系统中支撑基板的基板支撑件。所述基板支撑件包括：基板支撑主体，所述基板支撑主体具有用于支撑所述基板的前侧和与所述前侧相对的背侧；吸盘组件，所述吸盘组件在所述基板支撑主体中或在所述基板支撑主体的所述背侧处；多个第一开口，所述多个第一开口在所述前侧中，所述多个第一开口与气体导管流体连通；多个第二开口，所述多个第二开口穿过所述基板支撑主体，被配置用于在装载或卸载期间支撑所述基板的多个升降销；多个第一突出部，所述多个第一突出部在所述前侧上，每个第一突出部至少部分地包围所述多个第二开口中的第二开口；以及多个第二突出部，所述多个第二突出部在所述前侧上，被配置用于温度测量。
支撑处理方法以及系统

[实用新型]用以沉积材料于基板上的沉积设备及阴极驱动单元-CN202020887427.9有效
发明人：丹尼尔·谢弗·科皮托;托比亚斯·伯格曼 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-05-22 - 公布日： 2021-04-20 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：一种用以沉积材料的沉积设备(100)包括处理腔室(110)，处理腔室具有凸缘(120)。沉积设备(100)包括阴极驱动单元(130)。阴极驱动单元(130)耦接于凸缘(120)。阴极驱动单元(130)包括支撑构件(150)。阴极驱动单元(130)包括绝缘布置。绝缘布置的至少一部分分离支撑构件(150)与凸缘(120)。绝缘布置包括第一绝缘构件(262)及第二绝缘构件(264)，第二绝缘构件相邻于第一绝缘构件(262)。阴极驱动单元(130)包括第一密封件(210)，位于第一绝缘构件(262)及第二绝缘构件(264)之间。
用以沉积材料基板上设备阴极驱动单元

[实用新型]阴极驱动单元和用于在基板上沉积材料的沉积设备-CN202020398864.4有效
发明人：约阿希姆·索尼森;丹尼尔·谢弗·科皮托;托比亚斯·伯格曼 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-03-25 - 公布日： 2021-01-22 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本公开内容提供一种可连接至阴极组件(190)的阴极驱动单元(100)和一种用于在基板上沉积材料的沉积设备(10)。阴极驱动单元(100)包括冷却剂排放通道(150)。阴极驱动单元(100)包括第一密封件(110)。第一密封件(110)设置在冷却剂排放通道(150)的第一侧上。阴极驱动单元(100)包括第二密封件(120)。第二密封件(120)设置在冷却剂排放通道(150)的第一侧上。第一密封件(110)和第二密封件(120)设置在冷却剂排放通道(150)的同一侧上。阴极驱动单元(100)包括第三密封件(130)，第三密封件(130)位于冷却剂排放通道(150)的第二侧上。第二侧与第一侧相对。
阴极驱动单元用于基板上沉积材料设备