专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]填充体积测量-CN202180079249.4在审
  • 彼得·克勒费尔;温弗里德·迈尔 - 恩德莱斯和豪瑟尔欧洲两合公司
  • 2021-10-28 - 2023-08-04 - G01F23/292
  • 本发明涉及一种用于确定容器(3)中填充材料(4)的填充体积的测量系统。为此,测量系统包括3D相机(2)和基于雷达的料位测量设备(1)。3D相机(2)用于首先捕获空容器内部的至少一个部分的至少一个3D图像([pi,j])。基于该3D图像([pi,j]),创建数据集或数字空间模型,该数据集或数字空间模型表示空容器内部的至少该部分的几何形状。为了创建所需的三维表面或料位轮廓(L(α,#)),料位测量设备(1)是基于数字波束成形原理,诸如MIMO原理。因此,基于反映容器内部中的几何形状的数据集并且基于料位轮廓(L(α,#)),能够确定容器(3)中的填充体积。
  • 填充体积测量
  • [发明专利]填充料位测量设备-CN202180075796.5在审
  • 马库斯·弗格尔;哈拉尔德·法贝尔;安东·科切特科夫 - 恩德莱斯和豪瑟尔欧洲两合公司
  • 2021-09-23 - 2023-07-28 - G01S7/40
  • 本发明涉及一种基于FMCW的填充料位测量设备(1),其填充料位值(L)可以关于部件公差而被补偿。出于此目的,填充料位测量设备(1)的诊断单元(14)通过比较——必要的话,重复地比较——信号产生PLL(11)的时钟速率(clk1)与模拟/数字转换器(12)的采样速率(clk2)来确定第一补偿因子(k1)。基于第一补偿因子(k1),所确定的填充料位值(L)可以关于这些采样或时钟速率(clk1、clk2)而被补偿,而不需要出于此目的使用可能在外部的高精度参考源。这提高了填充料位测量的精度。另一方面,当第一补偿因子(k1)被重复确定时,填充料位值(L)被认为是可追溯的,使得因此可以满足填充料位测量设备(1)的具体安全要求。
  • 填充测量设备
  • [发明专利]填充料位测量设备-CN202180075943.9在审
  • 温弗里德·迈尔;帕布洛·奥特斯巴赫 - 恩德莱斯和豪瑟尔欧洲两合公司
  • 2021-09-23 - 2023-07-18 - G01S7/03
  • 本发明涉及一种用于确定填充物质(2)的填充料位分布曲线(L(a,#))的基于雷达的填充料位测量设备(1)的测量设备颈部(12)。在这样的情况下,该测量设备颈部(12)的区别在于,用于接触天线装置(10)的波导(121、121’、122、122’)在内部沿以径向对称方式围绕设备颈部轴线(a)的轮廓(k1、k2)排成行,并邻接所述设备颈部(12)。这首先在所述测量设备颈部(12)的生产方面有利,因为波导(121、121’、122、122’)可以一起被制成单片的基本体(123),以便因而容易地安装在所述测量设备颈部(12)中。根据测量设备颈部(12)中的波导(121、121’、122、122’)的本发明的布置也有利于填充料位测量设备(1)的发射/接收电子设备(11)的热管理,因为其热临界雷达模块(10’)可以最大限度地彼此间隔开。
  • 填充测量设备
  • [发明专利]用于放射测量的测量装置的辐射防护容器-CN202180077836.X在审
  • 拉尔斯·斯托尔茨;罗米·加贝尔;西蒙·魏登布鲁赫 - 恩德莱斯和豪瑟尔欧洲两合公司
  • 2021-10-28 - 2023-07-18 - G01F23/288
  • 本发明涉及测量系统的辐射防护容器(11),其用于放射测量密度或填充水平测量(1)。根据本发明,所述辐射防护容器(11)基于两个主体(110、111),所述两个主体各自经由平面表面(1101、1111)例如通过焊接彼此连接,使得限定出平面(E)。中空辐射导体(113)在所述平面(E)中延伸用于聚焦照射,其中所述中空辐射导体(113)由所述主体表面(1101、1111)中的凹陷形成。根据本发明,所述辐射防护容器(11)包括辐射吸收结构(114、114’、114”),所述辐射吸收结构由位于所述主体表面(1101、1111)中的彼此依靠的凹陷和互补凸起形成。这种两部分式设计的优点特征是可以使用基于钢的耐火主体(110、111),其中可以通过表面加工分别生产出所述中空辐射导体(113)和所述辐射吸收结构(114、114’、114”)的所述凹陷和凸起。根据本发明,借助于所述辐射吸收结构(114、114’、114”)确保没有辐射横向离开所述辐射防护容器(11)。
  • 用于放射测量装置辐射防护容器
  • [发明专利]清洗附件以及用于通过激光对工件的表面进行加工、特别是使之结构化的方法-CN202180075269.4在审
  • 西蒙·凯斯勒;迪特尔·森 - 恩德莱斯和豪瑟尔欧洲两合公司
  • 2021-09-23 - 2023-07-14 - B23K26/352
  • 本发明涉及一种用于工件(1)的清洗附件(5),所述工件具有待要通过激光辐射加工的表面(8),其中,所述工件(1)具有在所述工件(1)的至少一个侧面上敞开的腔室(10),并且其中所述待要加工的表面(8)是被布置在所述腔室(10)内的表面。所述清洗附件包括:穿过所述清洗附件(5)的中央开口(6);至少一个清洗气体馈送通道(11),所述至少一个清洗气体馈送通道(11)延伸穿过所述清洗附件(5)并且在第一端处具有用于清洗气体馈送管线的连接器(13)并且在第二端处具有出口开口(14);至少一个清洗气体抽吸通道(12),所述至少一个清洗气体抽吸通道(12)延伸穿过所述清洗附件(5)并且在第一端处具有用于清洗气体排放管线的连接器(16)并且在第二端处具有入口开口(17),并且其中所述至少一个清洗气体馈送通道(11)的所述出口开口(14)和所述至少一个清洗气体抽吸通道(12)的所述入口开口被布置在所述中央开口(6)的相互相对的两侧上;以及至少一个定中心部分,所述至少一个定中心部分被设计用以与被布置在所述工件(1)的所述侧面上的定中心区域相互作用,使得所述中央开口(6)、所述出口开口(14)以及所述入口开口(17)与所述腔室(10)连通。本发明还涉及一种通过激光对工件的表面进行加工、特别是使之结构化的方法,并且涉及一种制造用于确定容器中的介质的至少一个过程变量的传感器的方法。
  • 清洗附件以及用于通过激光工件表面进行加工特别是结构方法
  • [发明专利]角分辨料位测量装置-CN202180063239.1在审
  • 菲利普·休格勒;温弗里德·迈尔 - 恩德莱斯和豪瑟尔欧洲两合公司
  • 2021-08-16 - 2023-06-23 - G01S13/88
  • 本发明涉及一种基于雷达的料位测量装置(1),用于借助于MIMO原理确定三维料位分布(L(α,#))。根据本发明,所述料位测量装置(1)为此目的包括天线组件(11),其除了主天线阵列之外还包括子天线阵列。由此,使用所述主天线阵列,可以创建高度角分离立体角谱Ai,j(dx,α,#),但由于较大的分离距离(a,a’λ/2),不允许在整个立体角范围(α,#)内立体角(α,#)的明确的分配。为了解决这个问题,根据本发明将这些立体角谱Ai,j(dx,α,#)与所述子天线阵列的立体角谱进行合并。因此,所述子天线阵列被设计成使得其立体角谱Ak,l(dx,α,#)允许在整个立体角范围(α,#)内唯一地分配任何立体角(α,#)。为此目的,对应天线(k,l)布置在中间网格([s;s’])上。这样做的优点是,使用总共非常少的天线或在宽的立体角范围(α,#)内使用相关联的快速评估,可以记录高度角分离料位分布(L(α,#))。
  • 分辨测量装置
  • [发明专利]用于基于雷达的测量设备的频率转换器电路-CN201780057845.6有效
  • 托马斯·布洛特;彼得·克勒费尔 - 恩德莱斯和豪瑟尔欧洲两合公司
  • 2017-08-24 - 2023-06-20 - G01S7/35
  • 本发明涉及一种用于基于雷达的距离测量设备(2)的频率转换器电路,用于确定到测量对象(3)的距离(d)或用于确定测量对象(3)的速度。频率转换器电路的核心是非线性的高频组件(11),具有频率连接点(112)和信号连接点(113),该信号连接点(113)用作用于低频输入信号(Txl)的信号输入(12)。在接收侧,频率转换器电路包括用于接收高频接收信号(Rxh)的至少一个接收天线(16)和用于下变频高频接收信号(Rxh)的非线性半导体组件(18)。因此,频率转换器电路使用了以下的效果:利用低频输入信号(Tx1),在非线性的高频组件(11)处感应出相对应的谐波。这具有的优点是,一方面,能够产生并有效地耦合输出高效雷达发射信号(Txh)。此外,高频接收信号(Rxh)被下变频成低频评估信号(Rx1),从而能够基于能够更容易地处理的低频评估信号(Rx1)来执行距离(d)的进一步确定。
  • 用于基于雷达测量设备频率转换器电路
  • [发明专利]用于基于雷达的填充水平测量设备的天线-CN202180059079.3在审
  • 帕布洛·奥特斯巴赫;温弗里德·迈尔 - 恩德莱斯和豪瑟尔欧洲两合公司
  • 2021-06-21 - 2023-06-06 - G01F23/284
  • 本发明涉及一种用于特别是基于射频雷达的填充水平测量设备(1)的紧凑且高效的天线(11)。为此,天线(11)由以下组成:具有介质紧密空腔(111)的安装件(110);输入耦合结构(112),雷达信号(SHF)能够借助该输入耦合结构(112)沿主波束轴(a)被耦合到空腔(111)中;以及,折射雷达信号(SHF)的透镜(113)。透镜以输入耦合结构(112)被定位于透镜(113)的焦点中并且透镜(113)在输入耦合结构(112)的主波束轴(a)中对齐的这样的方式密封安装件(110)的空腔(111)。如果安装件(110)或透镜(113)和输入耦合结构(112)由两个单独的子组件(A、B)构成,则可以利用很少的费用制造天线(11)。在该情况下,可以在其生产之后沿着限定的接合缝(114)组装两个子组件(A、B),使得空腔(111)以介质紧密的方式被密封并且安装件(110)或天线(11)被形成。
  • 用于基于雷达填充水平测量设备天线
  • [发明专利]液压隔膜密封件和具有液压隔膜密封件的压力换能器-CN201980060034.0有效
  • 帕特里克·多里亚 - 恩德莱斯和豪瑟尔欧洲两合公司
  • 2019-08-15 - 2023-06-02 - G01L19/00
  • 一种用于传递过程介质的压力的隔膜密封件,该隔膜密封件包括:主体(1),该主体具有表面(2);以及隔离膜(3),该隔离膜固定到所述表面(2),并且在该隔离膜与该表面之间形成压力腔室(4),该压力腔室经由该表面中的开口(6)与液压通路(5)连通,该隔离膜能够在第一隔离膜侧(33)上暴露于所述过程介质,该压力腔室和液压通路填充有传输流体(7),以便传递该过程介质的所述压力;该隔离膜是具有外围边沿(32)的平面膜,并且通过单个外围焊缝(10)以压力密闭的方式结合到该主体,并且该隔离膜具有中央中间区域(12),其中,该隔膜密封件包括温度换能器(20),该温度换能器用于确定该过程介质的温度测量变量,该温度换能器在该隔离膜的第二隔离膜侧(34)上固定在所述中间区域中,并且该主体结合到该隔离膜,以使得所述传输流体不与该温度换能器接触。
  • 液压隔膜密封件具有压力换能器
  • [发明专利]本质安全自动化现场设备-CN202180055004.8在审
  • 贝恩德·施特鲁特;克里斯蒂安·施特里马特;弗洛里安·阿萨尔;西蒙·格尔维希 - 恩德莱斯和豪瑟尔欧洲两合公司
  • 2021-08-16 - 2023-05-26 - G05B19/042
  • 一种自动化技术的本质安全现场设备,包括:‑连接端子(30a、30b),电流(Is)能够经由所述连接端子(30a、30b)供应;‑传感器元件和/或致动器元件(16);‑现场设备电子设备(31、32、33、34、36),具有在所述连接端子(30a、30b)和并入到所述电流路径(50)中的电压调节器(36)之间的电流路径(50),所述电压调节器被设计为基于所述电流(Is)提供电力供应(16);‑防爆单元(35、38),包括串联并入到所述电流路径(50)中的至少两个有源可控切换元件(38a、38b)和两个阈值电路(35a、35b),所述阈值电路(35a、35b)被设计为使得第一阈值电路(35a)根据第一阈值来控制第一切换元件(38a),并且第二阈值电路(35b)根据第二阈值来控制第二切换元件(38b),使得当达到所述第一阈值和/或第二阈值时,所述电流(Is)被限制为所述第一阈值和/或第二阈值,并且所述阈值电路(35a、35b)与所述电压调节器(36)并联连接。
  • 本质安全自动化现场设备
  • [发明专利]包括用于使隔离膜片偏移的设备的压力计-CN201980083464.4有效
  • 谢尔盖·洛帕京;伊戈尔·格特曼 - 恩德莱斯和豪瑟尔欧洲两合公司
  • 2019-11-21 - 2023-05-26 - G01L9/00
  • 本发明涉及压力计,包括:压力传感器(1);压力传输器(3),压力传输器(3)被连接在压力传感器(1)的上游并且具有隔离膜片(5),隔离膜片(5)的外侧能够被供应有压力(p)并且压力接收腔(7)被封闭在隔离膜片(5)的下方;并且包括液压压力传输路径(9),液压压力传输路径(9)被连接至压力接收腔(7)并且被填充有压力传输流体,并且液压压力传输路径(9)将作用在隔离膜片(5)外侧的压力(p)传输至压力传感器(1),所述压力计适用于较宽的应用范围。另外,膜片密封件(3)包括偏转设备(13),偏转设备(13)能够借助于被连接至压力传感器(1)和/或温度传感器(TS1、TS2、TS3)的控制器(11)而被致动,并且被设计为在由控制器(11)确定和基于由压力传感器(1)连续测量的压力(pgem)和/或由温度传感器(TS1、TS2、TS3)连续测量的温度(Tgem)的时刻,在隔离膜片(5)上或被连接至隔离膜片的元件上施加力(K),所述力使隔离膜片(5)在其膜片床(15)的方向上偏转。
  • 包括用于隔离膜片偏移设备压力计

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