专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]基板显影装置-CN201720417862.3有效
  • 廖文晟 - 东旭(昆山)显示材料有限公司;东旭集团有限公司;东旭科技集团有限公司
  • 2017-04-20 - 2017-11-10 - G03F7/30
  • 本实用新型涉及平板显示器生产领域,公开了一种基板显影装置,该装置中包括显影单元,所述显影单元中包括显影槽;而且该装置中还包括与所述显影单元配合安装的消泡单元,所述消泡单元包括消泡槽、消泡槽外盖、抽风管以及液体喷淋组件,其中所述消泡槽和所述消泡槽外盖配合安装以形成消泡空间,所述消泡槽上形成有连通所述消泡空间和所述显影槽内腔的泡沫溢流口以及连通所述消泡空间和外部的废液流出口,所述泡沫溢流口位于高于所述显影槽中显影剂的液面的位置;所述抽风管连通所述消泡空间与外部抽风机;所述液体喷淋组件安装在所述消泡空间内高于所述废液流出口的位置。这种基板显影装置的使用能够提高产品稼动率、减少基板显影不良的风险。
  • 显影装置
  • [实用新型]蚀刻装置-CN201720153167.0有效
  • 廖文晟 - 东旭(昆山)显示材料有限公司;东旭集团有限公司;东旭科技集团有限公司
  • 2017-02-21 - 2017-10-03 - G02F1/13
  • 本实用新型涉及电子工业领域,公开了一种蚀刻装置,包括蚀刻区,其允许待蚀刻物品在其中进行蚀刻处理,且该蚀刻区的上部为突起状,该突起的外侧面与蚀刻装置的外壁内侧是间隔开的;水封区,其由蚀刻装置的外壁内侧、突起的外侧面和蚀刻区的顶部形成,用于捕获由蚀刻区外漏的蚀刻气和/或蚀刻液。水封区还优选包括抽气孔,用于外排由所述蚀刻区外漏的蚀刻气和/或蚀刻液,且其高度高于水封区中流体的高度。通过在蚀刻装置中设置水封区,持续补给能够捕获蚀刻液和/或蚀刻气的流体并将蚀刻液和/或蚀刻气送至待处理处,可有效避免蚀刻液和/或蚀刻气外逸。在水封区高于流体的位置,优选设置一抽风口,可进一步降低蚀刻液和/或蚀刻气的外逸。
  • 蚀刻装置
  • [实用新型]一种马达装置及蚀刻装置-CN201720155304.4有效
  • 廖文晟 - 东旭(昆山)显示材料有限公司;东旭集团有限公司;东旭科技集团有限公司
  • 2017-02-21 - 2017-08-22 - H02K5/12
  • 本实用新型涉及电子工业领域,公开了一种马达装置及蚀刻装置。马达装置包括位于壳体内部马达;进气孔,位于所述壳体上并与壳体内部相通,允许气体进入壳体内部,并使得壳体内部相对于外部为正压。蚀刻装置包括如上马达装置。通过在马达电机外添加壳体,并通入气体,使壳体内部压力大于外部压力,可有效避免外逸蚀刻液和/或蚀刻气进入壳体对马达电机造成侵蚀。在包括如上马达装置的蚀刻装置的优选方案中,在蚀刻装置设置水封区,刻蚀机启动后,在水封区内持续补给能捕获蚀刻液和/或蚀刻气的流体并送至待处理处,可有效避免蚀刻液和/或蚀刻气外逸,降低飘散到马达周围的蚀刻液和/或蚀刻气,可对马达电机进行进一步的保护。
  • 一种马达装置蚀刻

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