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专利名称
农业 化学；冶金 建筑 机械工程 区域搜索
主分类
A 农业
B 作业；运输
C 化学；冶金
D 纺织；造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]聚酯薄膜-CN201980012433.X有效
  • 中山慧美;栋泰人;川崎泰史 - 三菱化学株式会社
  • 2019-02-27 - 2023-03-28 - B32B27/20
  • 提供一种新型聚酯薄膜，其为涉及具有经粗糙化的薄膜表面、且用于转印其表面状态的用途的聚酯薄膜，转印时的聚酯薄膜的可视性即识别性优异，而且即使形成脱模层，前述粗糙化状态也不会被平滑化，可以给对象物赋予期待的哑光感。提出了一种聚酯薄膜，其特征在于，其具备如下构成：在具备含有平均粒径为2.0μm以上的颗粒的含颗粒层的聚酯薄膜基材的前述含颗粒层表面形成脱模层而成的构成，所述聚酯薄膜的透射浓度OD值为0.10以上。
  • 聚酯薄膜
  • [发明专利]干膜抗蚀层基材用聚酯薄膜-CN201980010704.8有效
  • 中山慧美;栋泰人;川崎泰史 - 三菱化学株式会社
  • 2019-02-15 - 2022-11-18 - C08J7/04
  • 提供：制成柔性印刷电路板等的干膜抗蚀层工序中能作为基材薄膜使用的干膜抗蚀层基材用聚酯薄膜。一种干膜抗蚀层基材用聚酯薄膜，其特征在于，在聚酯薄膜的至少单面具有涂布层，涂布层中的抗静电剂的含量为45质量％以下，在该涂布层中含有颗粒，相对于对该涂布层的表面进行观察时的颗粒在该涂布层表面中所占的面积总计，粒径为30～80nm的颗粒AS的面积比率为60～99.9％的范围内，粒径为100～400nm的颗粒AL的面积比率为0.1～15％的范围内，实质上不含粒径超过1μm的颗粒。
  • 干膜抗蚀层基材聚酯薄膜
  • [发明专利]涂布膜-CN201580001542.3有效
  • 佐藤崇;川崎泰史 - 三菱化学株式会社
  • 2015-08-03 - 2022-05-24 - C08J7/046
  • 本发明提供一种涂布膜，其具有优异的表面硬度、耐磨耗性，并且聚酯膜与硬涂层的密合性良好。该涂布膜在聚酯膜的至少一面具有涂布层，该涂布层由含有(甲基)丙烯酸酯化合物、具有(甲基)丙烯酰基的反应性二氧化硅和异氰酸酯系化合物的涂布液形成。
  • 涂布膜
  • [发明专利]粘接膜及其制造方法-CN201680001711.8有效
  • 川崎泰史 - 三菱化学株式会社
  • 2016-04-12 - 2021-01-26 - C09J7/25
  • 本发明提供一种在各种表面保护膜用途等中使用的、鱼眼少、机械强度和耐热性优异、具有良好的粘接特性的粘接膜。该粘接膜在聚酯膜的至少一面具有含(甲基)丙烯酸树脂的粘接层，该(甲基)丙烯酸树脂含有20重量％以上的酯末端具有碳原子数为4以上的烷基的(甲基)丙烯酸酯单元，该粘接层与聚甲基丙烯酸甲酯板的粘接力在1mN/cm以上。
  • 粘接膜及其制造方法
  • [发明专利]涂布膜-CN201680055493.6有效
  • 中山慧美;川崎泰史 - 三菱化学株式会社
  • 2016-12-26 - 2021-01-15 - B32B27/36
  • 本发明提供一种涂布膜，例如，在暴露于高温时，抑制从膜中析出的酯环状三聚物，在膜保管时、膜使用时、膜加工时等，不会发生伴有酯环状三聚物的不良情况。该涂布膜在聚酯膜的至少一个面具有涂布层，其中，所述涂布层含有具有酸基的加聚物树脂。
  • 涂布膜
  • [发明专利]脱模膜-CN201680041501.1有效
  • 舟津良亮;川崎泰史 - 三菱化学株式会社
  • 2016-02-25 - 2020-12-25 - C08J7/04
  • 本发明提供一种脱模膜，在作为粘接剂用的脱模膜、或用作偏光板用的粘接层的保护膜时，例如，脱模性不会因对粘接层进行加工时所使用的溶剂而变差，适合在各种用途中利用。该脱模膜在聚酯膜的至少单面具有包含硅酮化合物和双子型表面活性剂的涂布层。
  • 脱模
  • [发明专利]涂布膜-CN201680007421.4有效
  • 中山慧美;川崎阳一;川崎泰史 - 三菱化学株式会社
  • 2016-02-29 - 2020-12-11 - C08J7/04
  • 本发明提供例如在暴露于高温后也能够高度抑制从膜的表面析出的寡聚物、并且与硬涂层、油墨等的被覆物的粘接性优异的涂布膜。上述涂布膜在聚酯膜的至少一个面具有由涂布液形成的、厚度为74nm以下的涂布层，上述涂布液含有具有羟基和(甲基)丙烯酸酯结构的树脂和三聚氰胺化合物。
  • 涂布膜
  • [发明专利]涂布膜-CN201580001455.8有效
  • 川崎泰史 - 三菱化学株式会社
  • 2015-08-11 - 2020-04-24 - C08J7/04
  • 本发明提供一种在各种表面保护膜用途等中使用的、鱼眼少、机械强度和耐热性优异、具有良好的粘接特性的涂布膜。该涂布膜在聚酯膜的至少一面具有涂布层，该涂布层主要含有玻璃化转变温度为0℃以下的树脂，该涂布层的膜厚为0.01～3μm的范围。
  • 涂布膜
  • [发明专利]涂布膜-CN201480038883.3有效
  • 川崎阳一;川崎泰史 - 三菱化学株式会社
  • 2014-05-02 - 2019-03-12 - C08J7/04
  • 本发明提供一种涂布膜，例如在暴露于高温时，能够有效地抑制从膜的表面析出的低聚物，且相对于各种功能层具有优异的密合性。该涂布膜，在酯环状三聚体含量为0.7重量％以下的单层聚酯膜或具有酯环状三聚体含量为0.7重量％以下的聚酯表层的多层聚酯膜的至少单面，具有由含有相对于不挥发成分为70重量％以上的交联剂的涂布液形成的涂布层。
  • 涂布膜
  • [发明专利]涂布膜-CN201480010861.6有效
  • 川崎阳一;神田俊宏;川崎泰史 - 三菱化学株式会社
  • 2014-01-24 - 2018-03-16 - B32B27/36
  • 本发明提供一种具有优异特性的涂布膜，例如，暴露于高温时，能够有效地抑制从膜的表面析出低聚物，在保管膜时、使用膜时、加工膜时等，不会发生因低聚物(酯环状三聚体)产生的不良情况。该涂布膜在酯环状三聚体含量为0.7重量％以下的单层聚酯膜或具有酯环状三聚体含量为0.7重量％以下的聚酯表层的多层聚酯膜的至少一个面，具有由含有多元醛系化合物的涂布液形成的涂布层。
  • 涂布膜
  • [发明专利]涂布膜-CN201510315925.X有效
  • 川崎泰史;木村秀孝;加藤雄三;藤田真人 - 三菱化学株式会社
  • 2012-05-24 - 2018-01-02 - C08J7/04
  • 本发明提供一种涂布膜，其能够适用于要求与无溶剂型的树脂层具有良好密合性的各种用途、例如液晶显示器的背光单元等中使用的棱镜片材或微透镜用部件。本发明的涂布膜，在聚酯膜的至少一面具有由含有聚氨酯树脂的涂布液形成的涂布层，该聚氨酯树脂中，碳‑碳双键部的重量相对于树脂整体为0.5重量％以上，该涂布膜用于在该涂布层表面使用无溶剂型的活性能量线固化性涂料形成功能层，上述碳‑碳双键部与形成功能层的化合物中含有的碳‑碳双键具有反应性。
  • 涂布膜
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