专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]测量装置、测量方法、光刻装置和物品制造方法-CN202310184516.5在审
  • 山口涉 - 佳能株式会社
  • 2023-02-24 - 2023-08-29 - G03F7/20
  • 本发明提供测量装置、测量方法、光刻装置和物品制造方法。一种测量装置,包括:照明系统,其被构造为利用包括第一波长的光和第二波长的光的光来照明对象;波前改变单元,其被构造为改变来自对象的光中的波前像差;以及控制单元,其被构造为控制波前改变单元,其中,波前改变单元包括第一波长的光射入的第一区域,以及所述第二波长的光射入的第二区域,并且所述控制单元控制所述波前改变单元,使得在所述第一区域中生成用于校正所述第一波长的光的第一波前像差的第一校正波前,并且在所述第二区域中生成用于校正所述第二波长的光的第二波前像差的第二校正波前。
  • 测量装置测量方法光刻物品制造方法
  • [发明专利]测量设备、测量方法、基板处理装置及产品制造方法-CN202210889218.1在审
  • 山口涉 - 佳能株式会社
  • 2022-07-27 - 2023-02-03 - G03F7/20
  • 本发明涉及测量设备、测量方法、基板处理装置及产品制造方法。用于测量图案的位置的测量设备包括:波长可变单元,其被构造为,根据所述第一光入射的入射位置使所述第一光的光谱变化以使所述第一光能够通过;以及移动单元,其被构造为,通过移动所述波长可变单元来改变所述入射位置。所述波长可变单元移动到基于波长特性信息和强度特性信息的位置,所述波长特性信息表示所述波长可变单元的位置与透过所述波长可变单元的所述第一光的波长之间的关系,所述强度特性信息表示所述波长可变单元的位置与来自用透过所述波长可变单元的所述第一光照射的所述图案的所述第二光的强度之间的关系。
  • 测量设备测量方法处理装置产品制造方法
  • [发明专利]测量装置、光刻装置和物品制造方法-CN202210104824.8在审
  • 山口涉 - 佳能株式会社
  • 2022-01-28 - 2022-07-29 - G03F9/00
  • 本发明提供测量装置、光刻装置和物品制造方法。所述测量装置测量在目标被摄体中配设的第一图案的位置和第二图案的位置,所述测量装置包括:摄像单元,其包括检测来自所述第一图案的光和来自所述第二图案的光的多个像素,并被构造为,形成用于通过所述多个像素拍摄所述第一图案和所述第二图案的摄像区域;以及控制单元,其被构造为,调整所述摄像单元,使得基于来自第一摄像区域的输出而生成的所述第一图案的检测信号的强度与基于来自第二摄像区域的输出而生成的所述第二图案的检测信号的强度的相对比落入容许范围内。
  • 测量装置光刻物品制造方法
  • [发明专利]检测装置、曝光装置和物品制造方法-CN202010622439.3在审
  • 山口涉 - 佳能株式会社
  • 2020-07-01 - 2021-01-05 - G03F9/00
  • 本公开涉及检测装置、曝光装置和物品制造方法。提供了一种用于检测被布置在基板上的多个标记的检测装置。该装置包括支撑基板的台、被彼此分开地布置并且被配置为检测被布置在基板上的多个标记中的不同标记的多个检测器以及处理器。对于检测器的每个预定组合,处理器以根据关于每个检测器的检测区域位置和焦点位置的信息的倾斜度倾斜由台支撑的参考构件,并且将被布置在参考构件上的参考标记与每个检测器对准,并且处理器基于各自通过针对多个预定组合中的每一个预定组合执行的对准而获取的测量值来获得多个检测器中的每一个检测器的测量偏移值。
  • 检测装置曝光物品制造方法

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