专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]形状复原方法和图像测量装置-CN202080082861.2在审
  • 增村茂树;高滨康弘;宫仓常太;山县正意 - 机械视觉照明有限公司;株式会社三丰
  • 2020-11-26 - 2022-07-12 - G01B11/24
  • 照明装置110具有:光源部112;透镜部116,其将照明光以特定的照射立体角IS向被测定物W照射;滤光部114,其将特定的照射立体角IS内分离为具有彼此不同的光的波长区域R、G,B的多个立体角区域IS1、IS2、IS3;拍摄装置CM以规定的观察立体角DS接收照明光产生的被测定物W的物体光,拍摄装置CM的各像素能够彼此识别不同的光的波长区域R、G、B,处理装置120具备:计算部124,其从构成物体光的多个立体角区域RS1、RS2、RS3与规定的观察立体角DS之间的包含关系求出与各像素对应的被测定物W各点的法线向量Vn;形状复原部128,其对被测定物W的形状进行复原。由此,能够迅速地复原对被测定物进行了拍摄的图像内的被测定物各点的信息。
  • 形状复原方法图像测量装置
  • [发明专利]X射线测量装置的校准方法-CN202110724806.5在审
  • 今正人;真家洋武;佐佐木诚治;宫仓常太 - 株式会社三丰
  • 2021-06-29 - 2022-01-14 - G01B15/04
  • 本发明提供一种X射线测量装置的校准方法,包括以下工序:载置工序,将校准治具载置于旋转台;特征位置计算工序,向校准治具照射X射线,根据X射线图像检测器的输出来确定重心位置;变换矩阵计算工序,根据重心位置和已知的相对位置间隔,来计算投影变换矩阵;旋转检测工序,使旋转台以规定角度旋转2次以上,重复进行特征位置计算工序和变换矩阵计算工序;以及中心位置计算工序,基于投影变换矩阵来计算旋转台的旋转中心位置。由此,能够通过简单的工序容易地计算将被测定物以能够旋转的方式载置的旋转台的旋转中心位置。
  • 射线测量装置校准方法
  • [发明专利]X射线测量装置的校正方法-CN202010946721.7在审
  • 今正人;真家洋武;佐佐木诚治;宫仓常太 - 株式会社三丰
  • 2020-09-10 - 2021-03-26 - G01B15/04
  • 本发明提供一种X射线测量装置的校正方法,包括:载置工序,将校正治具载置于旋转台;移动位置获取工序,使第j个球的位置相对于第1个球的位置平行移动,向校正治具照射X射线,并从X射线图像检测器的输出中获取第j个球的投影像的重心位置相对于第1个球的投影像的重心位置的差位置的大小为规定值以下的移动位置;相对位置计算工序,对其余的球进行移动位置获取工序,根据各个移动位置来计算特定的相对位置间隔;特征位置计算工序;变换矩阵计算工序;旋转检测工序;位置计算工序;以及中心位置计算工序。由此,即使校正治具由于经年变化等而变形,例如也能够通过简单的工序容易地计算将被测定物以能够旋转的方式载置的旋转台的旋转中心位置。
  • 射线测量装置校正方法
  • [发明专利]X射线测量装置的校正方法-CN202010940511.7在审
  • 今正人;真家洋武;佐佐木诚治;宫仓常太 - 株式会社三丰
  • 2020-09-09 - 2021-03-09 - G01B15/04
  • 本发明提供一种X射线测量装置的校正方法,包括:前段特征位置计算工序,将配置于N个部位的球的平行移动进行多次,确定处于N个部位的球各自的投影像的重心位置;单独矩阵计算工序,针对球分别计算单独投影矩阵;单独位置计算工序,基于单独投影矩阵来计算球各自的移动位置;坐标统一工序,计算球的特定的相对位置间隔;后段特征位置计算工序;变换矩阵计算工序,计算投影变换矩阵;旋转检测工序;位置计算工序;以及中心位置计算工序。由此,即使校正治具由于经年变化等而发生变形,也能够通过简单的工序容易地计算例如将被测定物以能够旋转的方式载置的旋转台的旋转中心位置。
  • 射线测量装置校正方法
  • [发明专利]透镜基板堆叠位置计算设备和程序-CN202010106593.5在审
  • 日高和彦;真家洋武;宫仓常太 - 株式会社三丰
  • 2020-02-21 - 2020-09-01 - G02B3/00
  • 本发明提供一种透镜基板堆叠位置计算设备,即使形成在晶片基板上的每个透镜的位置在要堆叠的晶片透镜阵列之间有偏差,当多个晶片透镜阵列连结在一起时,设备也能计算光轴偏差落入允许范围内的透镜组的数量最大化时的堆叠位置。当二维排列有多个透镜的两个或更多透明基板被堆叠以形成每个包括两个或更多透镜的多个透镜组时,透镜基板堆叠位置计算设备计算要堆叠的两个或更多透明基板的位置关系。每个透镜的位置提前在共同坐标系中指定。透镜基板堆叠位置计算设备包括位置关系计算单元,用于通过预定计算方法计算两个或更多透明基板之间的相对位置关系,该相对位置关系使得构成透镜组的透镜之间的位置偏差的大小落入预定范围内的透镜组数量最大化。
  • 透镜堆叠位置计算设备程序
  • [发明专利]硬度测试仪和硬度测试方法-CN201410124268.6有效
  • 宫仓常太 - 株式会社三丰
  • 2014-03-28 - 2018-10-30 - G01N3/42
  • 本发明涉及一种硬度测试仪和硬度测试方法。该硬度测试仪具有:压痕形成器,用于通过使压头压抵试样的表面来形成压痕;摄像控制器,用于控制CCD照相机以对试样的表面摄像并且获得图像数据;压痕区域提取器,用于基于所获得的图像数据来提取压痕区域;以及硬度计算器,用于基于所提取出的压痕区域来计算试样的硬度。该压痕区域提取器具有:缩小图像生成器,用于按从多个预定缩尺比中所选择的缩尺比来缩小根据试样的表面的图像数据所获得的图像,并且生成缩小图像;以及模式匹配器,用于对所生成的缩小图像进行模式匹配,并且提取压痕区域。
  • 硬度测试仪测试方法
  • [发明专利]光干涉测量装置-CN201110057679.4有效
  • 长滨龙也;久保光司;浅野秀光;宫仓常太 - 株式会社三丰
  • 2011-03-10 - 2011-09-21 - G01B11/24
  • 一种光干涉测量装置,其包括:宽带光的光源;物镜部,其将宽带光的光路分成包括参照镜的参照光路和包括测量对象的测量光路,并且物镜部输出两个分支光的合成波;以及光路长度改变部,其改变参照光路的光路长度或改变测量光路的光路长度;其中,物镜部包括控制参照光和对象光之间的相位差以产生相消干涉条纹的相位差控制构件以及检测相消干涉条纹的最小辉度位置的最小辉度位置检测部。
  • 干涉测量装置
  • [发明专利]图像测量系统、图像测量方法和图像测量程序-CN200710088705.3有效
  • 宫仓常太;有我幸三;栗原正纪 - 三丰株式会社
  • 2007-03-20 - 2007-09-26 - G01C11/00
  • 本发明提供了一种图像测量系统、图像测量方法和图像测量程序。在所述图像测量系统中,初始路径导出器至少基于按测量次序将次序确定测量点中的最后两个测量点连接到下一候选测量点的两条线段之间指定的转角而计算第一估值。其还基于使用次序未确定测量点作为多个下一候选测量点而计算的第一估值而确定下一测量点。其还导出经过从第一测量点开始、顺序经由每个测量点的全部测量点的初始路径。当在初始路径中存在路径交叉位置上的、特定交叉形式的交叉的位置时,交叉分解判定器基于第二估值和第三估值,判定分解还是保留该交叉。转换路径导出器通过根据判定器的判定结果而转换初始路径中的路径,以导出转换路径。
  • 图像测量系统测量方法程序

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