专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]低聚物的制备方法-CN202180007053.4在审
  • 陆炅奭;宋宗勋;宣玟浩;李洪旻;黃文燮;李政锡 - 株式会社LG化学
  • 2021-09-06 - 2022-07-22 - C07C7/08
  • 提供一种低聚物的制备方法,该方法包括以下步骤:将单体流和溶剂流供应到反应器以进行齐聚反应,从而制备反应产物;将反应器的排出流供应到分离装置,将包含未反应单体的分离装置的上部排出流供应到反应器,并且将分离装置的下部排出流供应到沉淀池;使聚合物在沉淀池中沉淀以去除聚合物,并且将去除了聚合物的分离装置的下部排出流供应到高沸点分离塔;去除高沸点分离塔的下部排出流中的高沸点物质,并且将包含低聚物的高沸点分离塔的上部排出流供应到溶剂分离塔;以及在溶剂分离塔中分离溶剂和低聚物。
  • 低聚物制备方法
  • [发明专利]用于制备低聚物的设备-CN202180005012.1在审
  • 黄文燮;李政锡;宋宗勋;陆炅奭;宣玟浩;李洪旻 - 株式会社LG化学
  • 2021-07-09 - 2022-05-27 - B01J19/00
  • 本发明涉及一种用于制备低聚物的设备,更具体地,涉及一种用于制备低聚物的设备,包括:反应器,该反应器包括在下部设置有第一气体反应物入口的气体区域,和在所述气体区域上方包括与气体反应物接触的反应介质的反应区域;第二气体反应物入口和第三气体反应物入口,所述第二气体反应物入口设置在所述气体区域中的反应器内壁上,所述第三气体反应物入口设置在面对所述第二气体反应物入口的反应器内壁上;以及第一注射喷嘴和第二注射喷嘴,所述第一注射喷嘴与所述第二气体反应物入口连接,所述第二注射喷嘴与所述第三气体反应物入口连接。
  • 用于制备低聚物设备
  • [发明专利]用于制备低聚物的装置-CN202180005088.4在审
  • 宋宗勋;李政锡;李洪旻;黄文燮;陆炅奭;宣旻浩 - 株式会社LG化学
  • 2021-07-01 - 2022-04-15 - B01J19/00
  • 本公开涉及一种用于制备低聚物的装置,包括:反应器,所述反应器被供应有用于进行低聚反应的单体流和溶剂流;产物排出管线,所述产物排出管线设置在所述反应器的侧面的下部;清洗液供应管线,所述清洗液供应管线与所述产物排出管线的第一点连接;以及清洗液排出管线,所述清洗液排出管线从所述产物排出管线的第二点伸出,其中,所述产物排出管线包括将所述产物排出管线分支为两条以上的管线的分支点和将各条分支的管线接合的接合点,并且所述产物排出管线包括在分支的所述两条以上的管线中的每一条管线中设置的压力控制装置。
  • 用于制备低聚物装置

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