专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]金属带材的磁控溅射真空抛光的方法和设备-CN200680049285.1有效
  • H·科尔尼;B·德韦;C·马博格 - 安赛乐米塔尔法国公司
  • 2006-10-26 - 2009-01-14 - H01J37/34
  • 本发明涉及金属带材(2)的磁控溅射真空抛光方法,所述金属带材(2)在至少一个用导电材料制成的对电极(3,3′)之上行进在真空腔(1)中,其中,在所述金属带材(2)附近的气体中形成等离子体,以产生作用于该金属带材(2)的基团和/或离子,约束磁路(4)布置在所述金属带材(2)之上,其特征在于,所述对电极(3,3′)具有能相对于所述金属带材(2)进行转动和/或平移的活动表面,所述活动表面在抛光时被促使运动且在重新暴露于所述等离子体之前,由布置在等离子体幔中的清理装置(5,5′)连续地进行清理。本发明也涉及用于实施所述方法的抛光设备。
  • 金属磁控溅射真空抛光方法设备

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