专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]磷酸二氢钾类晶体的表面抛光方法-CN201610271922.5有效
  • 蔡长龙;刘卫国;包强;姬娇;周顺;刘欢;秦文罡;惠迎雪;陈智利 - 西安工业大学
  • 2016-04-28 - 2018-02-23 - B24B1/00
  • 本发明涉及磷酸二氢钾类晶体的表面抛光方法。现有磷酸二氢钾类晶体的表面抛光技术存在的表面粗糙度高、给磷酸二氢钾类晶体表面带来损伤或杂质嵌入、磷酸二氢钾类晶体表面存在周期性刀痕波纹等问题。本发明在磷酸二氢钾类晶体表面旋涂一层平坦化层,使其表面粗糙度低于1.5nm,然后进行低温热处理一定时间,放入真空室,利用离子束抛光,直至完全去除表面平坦化层,使平坦化层的光滑表面传递到磷酸二氢钾类晶体表面,获得磷酸二氢钾类晶体的超光滑表面。该技术加工过程中无机械加工应力,抛光过程中材料去除量可以控制到原子量级,可达到很高的抛光效果。
  • 磷酸二氢钾类晶体表面抛光方法
  • [发明专利]KDP光学表面平坦化方法-CN201510261654.4在审
  • 蔡长龙;刘卫国;姬娇;刘欢;周顺;陈智利;秦文罡;惠迎雪;包强 - 西安工业大学
  • 2015-05-21 - 2015-09-23 - B05D5/00
  • 本发明涉及KDP光学表面平坦化方法。目前KDP晶体的超精密加工方法会在KDP晶体表面残留抛光液,在KDP晶体表面产生小尺度波纹,影响KDP晶体的光学表面质量。本发明以经过单点金刚石车削抛光后的KH2PO光学晶体材料作为加工对象,采用自旋涂胶的方法在KH2PO光学晶体材料的光学表面涂覆一层聚合物膜,再经真空热处理后在KH2PO光学晶体材料表面形成一层表面粗糙度低的聚合物层,聚合物层的上表面为平坦化表面。本发明在KDP表面形成一层机械性能良好、性质稳定、表面粗糙度低的聚合物膜,工艺过程简单,对设备要求低,成本低廉,在KDP光学表面可获得较好的平坦化效果,且应用前景可观。
  • kdp光学表面平坦方法

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