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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]基片处理装置和静电吸盘-CN202210661902.4在审
发明人： 大槻兴平;山口伸;佐竹大辅 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-06-13 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种基片处理装置和静电吸盘。基片处理装置包括腔室、基片支承部和至少1个控制阀，所述基片支承部配置在所述腔室内，具有至少1个第1气体供给路径，所述基片支承部具有基座和配置在所述基座上的具有上表面的静电吸盘，所述上表面具有多个突起和第1环状槽组，所述第1环状槽组包含第1内侧环状槽、第1中间环状槽和第1外侧环状槽，所述第1内侧环状槽、所述第1中间环状槽和所述第1外侧环状槽中的任意者与所述至少1个第1气体供给路径连通，所述至少1个控制阀构成为能够对经由所述至少1个第1气体供给路径供给的气体的流量或压力进行控制。根据本发明，能够适当地控制基片的温度，提高基片面内的等离子体处理的均匀性。
处理装置静电吸盘

[发明专利]隔热配管系统和处理系统-CN201910098388.6有效
发明人： 大槻兴平;三森章祥 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-01-31 - 公布日： 2021-03-23 - 主分类号： F16L59/06 文献下载
摘要：本发明的技术问题为抑制配管结露。解决方案为：处理系统(100)包括隔热配管(12)、温度测量器(19)和控制装置(20)。隔热配管(12)具有内管和外管，内管与外管之间形成有气密空间，温度比配置有隔热配管(12)的室内的温度低的流体能够在内管内流动。温度测量器(19)测量隔热配管(12)的表面的温度。控制装置(20)基于隔热配管(12)的表面的温度和根据配置有隔热配管(12)的室内的温度及湿度求取的露点温度，控制对隔热配管(12)的气密空间内的气体进行排气的排气装置(16)，由此控制隔热配管(12)的气密空间内的压力。
隔热系统处理

[发明专利]等离子体处理装置和等离子体处理方法-CN201911378065.9在审
发明人：藤井徹;今田祥友;大槻兴平 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-12-27 - 公布日： 2020-07-07 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子体处理装置和等离子体处理方法，防止上部电极周边的结露。等离子体处理装置具备处理容器、载置台、上部电极、等离子体处理部、罩构件、冷却部以及气体供给部。载置台配置于处理容器内，作为下部电极发挥功能。上部电极作为载置台的相向电极发挥功能。等离子体处理部通过向载置台和上部电极中的至少任一方供给高频电力来将处理容器内的气体等离子体化，通过等离子体对载置台上的被处理体进行处理。罩构件从上方覆盖上部电极。冷却部设置于罩构件内，使用温度比处理容器的外部气体的露点温度低的制冷剂来冷却上部电极，气体供给部向由罩构件和上部电极覆盖的空间内供给露点温度比外部气体的露点温度低的低露点气体。
等离子体处理装置方法

[发明专利]柔性配管和温度控制系统-CN201910080273.4在审
发明人： 大槻兴平;三森章祥;镰田紘司 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-01-28 - 公布日： 2019-08-06 - 主分类号： F16L11/15 文献下载
摘要：本发明能够降低温度控制系统的耗能。柔性配管(13)包括金属制的波纹管(130)和内管(131)。内管(131)配置于波纹管(130)的内侧，流体在其上流动的内侧的表面是光滑的。流体在其上流动的内管(131)的内侧的面可以比编织体的表面光滑。另外，内管(131)例如可以由导电性的材料形成。另外，供流体流动的内管(131)的内侧可以由导电性的涂膜涂层。
内管温度控制系统导电性波纹管流体配管材料形成流体流动编织体金属制耗能涂膜光滑流动配置

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