专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]带透明电极的基板及带透明电极的基板的制造方法-CN201680004428.0有效
  • 早川弘毅;大本慎也;口山崇 - 株式会社钟化
  • 2016-03-18 - 2019-09-10 - C23C14/58
  • 本发明提供一种带透明电极的基板,该带透明电极的基板(21)在透明基板(12)上具备金属氧化物透明电极层(13)。透明电极层的表面的平均最高曲率Ssc优选为5.4×10‑4nm‑1以下。例如,如果在制膜成透明电极层后,实施采用低放电功率的溅射的表面处理,则能够减小透明电极层的Ssc。对于本发明的带透明电极的基板而言,透明电极层(13)和设置于其上的金属引出配线(14)的密合性上优异。透明电极层(13)例如通过在施加第一放电功率,实施透明电极制膜工序后,施加第二放电功率,实施表面处理工序而得到。
  • 透明电极制造方法
  • [发明专利]具有纹理结构的硅基板的制法-CN201280060391.5无效
  • 梅川秀喜;松井真二;大本慎也 - 株式会社德山
  • 2012-12-06 - 2014-08-13 - H01L31/0236
  • 本发明提供一种具有纹理结构的硅基板的制造方法,与现有的方法相比,所述制造方法可以减少制造工序、且在硅基板表面容易地形成规则的纹理结构。本发明的制造方法的特征在于,包括以下工序:(A)在硅基板上用含有树脂的组合物形成图案的工序;(B)对图案部分以外的硅基板表面照射蚀刻气体的工序;及(C)利用碱蚀刻液对照射了蚀刻气体的硅基板进行处理,在图案部分之下形成凹结构的工序。进而,本发明提供一种所述制造方法中使用的含有树脂的组合物、尤其是含有光固性树脂的组合物。
  • 具有纹理结构硅基板制法

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