专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果6个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]光致抗蚀剂组合物-CN201510547622.0有效
  • 仓久敏;鲛岛香织;国本和彦;P·内斯瓦德巴;大和昌纪 - 巴斯夫欧洲公司
  • 2010-03-17 - 2018-08-28 - C07D211/94
  • 本发明涉及一种用于制造滤色片的含羟胺酯的可自由基聚合组合物。本发明进一步涉及一种新颖羟胺酯。本发明进一步涉及羟胺酯在所有需要后烘烤的液晶显示器组件中的用途。本发明涉及一种可自由基聚合组合物,其包含:(a)至少一种可碱显影树脂;(b)至少一种丙烯酸酯单体;(c)至少一种光引发剂;(d)至少一种式I的羟胺酯化合物;其中Ra表示酰基;Rb和Rc中的一个表示氢且另一个表示取代基;或者Rb和Rc二者各自表示氢或者相同或不同的取代基;或者Rb和Rc一起表示氧;或者Rb和Rc一起形成环;R1‑R4各自表示C1‑C6烷基;且R5和R6各自彼此独立地表示氢、C1‑C6烷基或C6‑C10芳基;或者R5和R6一起表示氧。
  • 光致抗蚀剂组合
  • [发明专利]肟酯光引发剂-CN201210129016.3有效
  • 松本亮;田边纯一;仓久敏;大和昌纪 - 巴斯夫欧洲公司
  • 2008-04-24 - 2012-10-03 - C07D209/88
  • 本发明涉及一种肟酯光引发剂。本发明涉及式(I)、(II)和(III)的化合物,其中R1、R2、R′2和R″′2为例如C1-C20烷基,条件是R1、R2、R′2和R″′2中至少一个带有规定的取代基;R3、R4和R5例如彼此独立地为氢或限定的取代基,条件是R3、R4或R5中至少一个不是氢或C1-C20烷基;R6,R7,R8,R′7,RV,R′8,R″6,R″7,R″′6和R″′7例如彼此独立地具有对于R3、R4和R5给出的含义之一;R9为例如C1-C20烷基,其在光聚合反应中显示出非常好的性能。
  • 肟酯光引发
  • [发明专利]光致抗蚀剂组合物-CN201080013256.6有效
  • 仓久敏;鲛岛香织;国本和彦;P·内斯瓦德巴;大和昌纪 - 巴斯夫欧洲公司
  • 2010-03-17 - 2012-02-22 - C08F265/02
  • 本发明涉及一种用于制造滤色片的含羟胺酯的可自由基聚合组合物。本发明进一步涉及一种新颖羟胺酯。本发明进一步涉及羟胺酯在所有需要后烘烤的液晶显示器组件中的用途。本发明涉及一种可自由基聚合组合物,其包含:(a)至少一种可碱显影树脂;(b)至少一种丙烯酸酯单体;(c)至少一种光引发剂;(d)至少一种式I的羟胺酯化合物;其中Ra表示酰基;Rb和Rc中的一个表示氢且另一个表示取代基;或者Rb和Rc二者各自表示氢或者相同或不同的取代基;或者Rb和Rc一起表示氧;或者Rb和Rc一起形成环;R1-R4各自表示C1-C6烷基;且R5和R6各自彼此独立地表示氢、C1-C6烷基或C6-C10芳基;或者R5和R6一起表示氧。
  • 光致抗蚀剂组合
  • [发明专利]肟酯光引发剂-CN200880015586.1有效
  • 松本亮;田边纯一;仓久敏;大和昌纪 - 巴斯夫欧洲公司
  • 2008-04-28 - 2010-03-31 - C07D401/12
  • 本发明涉及式(I)的化合物,其中A1是式(II),A2是式(III),A3是式(IV),A4是式(V);w、x、y和z彼此独立地是0-4的整数,条件是x+y+z之和是2-4的整数,对应于Q的价态;M1、M2、M3和M4例如是直接键、CO或O;Y例如是直接键或S;Q是(x+y)价连接基;R1是例如氢、C1-C20烷基或苯基或萘基;R2和R″2例如是氢或C1-C20烷基;R3、R4、R′3、R′4、R″3和R″4例如是氢、卤素、苯基或C1-C20烷基;和R24是例如直接键,其在光聚合反应中显示出非常好的性能。
  • 肟酯光引发
  • [发明专利]肟酯光引发剂-CN200880015675.6有效
  • 松本亮;田边纯一;仓久敏;大和昌纪 - 巴斯夫欧洲公司
  • 2008-04-24 - 2010-03-31 - C07D209/80
  • 本发明涉及式(I)、(II)和(III)的化合物,其中R1、R2、R′2和R″′2为例如C1-C20烷基,条件是R1、R2、R′2和R″′2中至少一个带有规定的取代基;R3、R4和R5例如彼此独立地为氢或限定的取代基,条件是R3、R4或R5中至少一个不是氢或C1-C20烷基;R6,R7,R8,R′7,RV,R′8,R″6,R″7,R″′6和R″′7例如彼此独立地具有对于R3、R4和R5给出的含义之一;R9为例如C1-C20烷基,其在光聚合反应中显示出非常好的性能。
  • 肟酯光引发
  • [发明专利]肟酯光引发剂-CN200880015608.4有效
  • 松本亮;田边纯一;仓久敏;大和昌纪 - 巴斯夫欧洲公司
  • 2008-04-28 - 2010-03-24 - C07D409/06
  • 本发明涉及式(I)和(II)的化合物,其中M1、M2和M3彼此独立地为无键、直接键、CO、O、S、SO、SO2或NR14;条件是M1、M2或M3的至少一个为直接键、CO、O、S、SO、SO2或NR14;M4是直接键、CR”3R”4、CS、O、S、SO或SO2;Y是S或NR18;R1例如为氢、C3-C8环烷基、苯基或萘基,该苯基或萘基均任选被取代;R2例如为C1-C20烷基;R”2具有对R2给出的含义之一;R3和R4例如为氢、卤素、C1-C20烷基;R’3、R’4、R”3和R”4彼此独立地具有对R3和R4给出的含义之一;R5是例如氢、卤素、C1-C20烷基;条件是在式(I)的化合物中,存在至少两个肟酯基团和条件是存在至少一个规定的取代基R2或R”2;该化合物在光聚合反应中显示出非常好的性能。
  • 肟酯光引发

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top