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专利名称

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申请人
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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]被处理体的冷却方法和被处理体处理装置-CN201080015119.6无效
发明人： 多田宪伦;堀内孝 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2010-03-30 - 公布日： 2012-03-14 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明公开一种冷却被处理体的冷却方法。该冷却方法包括：将加热状态的被处理体载置于载物台上的工序；和向包含载置于载物台上的被处理体中心的中心附近区域喷射冷却气体来冷却被处理体的工序。
处理冷却方法装置

[发明专利]真空处理系统-CN200880022749.9无效
发明人：宫下哲也;多田宪伦 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2008-08-22 - 公布日： 2010-03-31 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明提供一种真空处理系统(1)，其具备：CVD处理室(12～15)，其在真空下对晶片(W)进行CVD处理；搬送室(11)，其具有搬入/搬出晶片(W)的搬入搬出口(31)，经由能够使搬入搬出口(31)开闭的门阀(G)连接CVD处理室(12～15)，具备将晶片(W)经由搬入搬出口(31)相对于CVD处理室(12～15)搬入搬出的搬送机构(16)，该处理室内部保持为真空状态；清扫气体喷出构件(51)，其设于搬入搬出口(31)附近，在打开门阀(G)而将搬送室(11)与任一个CVD处理室连通的状态下，经由搬入搬出口(31)向该CVD处理室喷出清扫气体。
真空处理系统

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共 2 条

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