专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种适用于N型硅片的磷扩散吸杂及清洗方法-CN202210640407.5在审
  • 易辉;周塘华;江庆;何兴泉;谌业斌;周而立 - 湖南红太阳新能源科技有限公司
  • 2022-06-08 - 2022-08-09 - H01L31/20
  • 本发明公开了一种适用于N型硅片的磷扩散吸杂及清洗方法,包括对N型硅片进行前清洗、双面磷扩散吸杂、链式去单面PSG、后清洗(槽式单侧绒面优化)、槽式去单面PSG、双绒面尺寸调控和塔尖圆滑处理。本发明方法,不仅能够较好地改善N型硅片质量,又能有效控制在处理过程中硅片的减薄量,有利于HJT电池硅片薄片化控制和推广,同时还能提升和调控单面表面活性磷浓度,通过形成的高低结作用,改善载流子传输,有利于提高电池效率,而且还能实现硅片两面绒面金字塔尺寸差异,满足特殊需求。本发明适用于N型硅片的磷扩散吸杂及清洗方法具有操作简单、能耗低、硅片减薄量小、吸杂效果好等优点,使用价值高,应用前景好。
  • 一种适用于硅片扩散清洗方法
  • [发明专利]一种绕镀多晶硅的清洗工艺-CN202111407633.0在审
  • 周塘华;刘贤金;易辉;江庆;周祥;刘照;何兴泉;周而立;谌业斌 - 湖南红太阳新能源科技有限公司
  • 2021-11-24 - 2022-03-01 - H01L31/18
  • 本发明公开了一种绕镀多晶硅的清洗工艺,包括以下步骤:获取存在绕镀多晶硅的硅片,采用氢氟酸溶液对硅片正面和边缘进行清洗,控制水膜流量为5mL/片~40mL/片,使得正面BSG层的减薄量为20nm~60nm,BSG层的保留厚度在40nm以上;在硅片正背面BSG层和PSG层的保护下去除硅片正面和边缘绕镀多晶硅,去除硅片正面BSG层和背面PSG层。本发明清洗工艺,既能够有效解决因多晶硅绕镀而导致的电池转换效率和良品率低的问题,又能释放LPCVD机台产能,使用价值高,应用前景好,对于降低TOPCon电池的生产成本,提升TOPCon电池的产能,提高TOPCon电池的转换效率和良品率均具有重要意义。
  • 一种多晶清洗工艺

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