专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种质谱成像系统及前处理装置-CN202320292052.5有效
  • 刘成园;许鸣皋;杨蒙;戚可可;吴刘天;杨玖重;潘洋 - 中国科学技术大学
  • 2023-02-23 - 2023-10-20 - G01N27/64
  • 本实用新型提供了一种质谱成像系统及前处理装置,质谱成像系统包括质谱仪和前处理装置,前处理装置包括电离机构和气相掺杂剂引入机构;电离机构包括激光解析电离机构、取样毛细管和二次光电离机构,激光解析电离机构对待测样品进行激光解析,取样毛细管将解析后待测样品引入二次光电离机构;二次光电离机构包括光电离室和真空紫外放电灯;光电离室的出口端与质谱仪的入口端连通,光电离室与取样毛细管的出口端连通;真空紫外放电灯向光电离室提供真空紫外光;相掺杂剂引入机构包括掺杂剂引入管,掺杂剂引入管的出口端与光电离室连通,掺杂剂引入管的出口端比取样毛细管的出口端更靠近真空紫外放电灯。该质谱成像系统具有高分辨率和高灵敏性。
  • 种质成像系统处理装置
  • [发明专利]一种具有常压激光解析电离和二次光电离的质谱成像装置-CN202210269411.5在审
  • 刘成园;许鸣皋;杨蒙;戚可可;吴刘天;杨玖重;潘洋 - 中国科学技术大学
  • 2022-03-18 - 2022-04-15 - G01N27/64
  • 本发明涉及一种具有常压激光解析电离和二次光电离的质谱成像装置,属于质谱成像技术领域。包括激光解析电离机构、二次光电离机构和气相掺杂剂引入机构。改进在于:增设二次光电离质谱分析机构和气相掺杂剂引入机构。二次光电离机构包括管状的光电离室和真空紫外放电灯;真空紫外放电灯包括放电管,放电管中填充稀有气体;气相掺杂剂引入机构包括鼓泡罐、第一导管和第二导管;鼓泡罐内设有掺杂剂。检测分析时,生物组织中的待测物通过常压激光解析后进入取样毛细管,其中未离子化的中性成分可进一步通过光致直接电离和光诱导的离子分子反应电离,实现常压下的高分辨高灵敏质谱成像。本发明的成像技术将用于药物作用机制、肿瘤组织、细胞代谢等分析。
  • 一种具有常压激光解析电离二次成像装置

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