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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]透射率可变装置-CN201980056514.X有效
发明人：林恩政;谢尔盖·别利亚耶夫;金旼俊;吴东炫 -专利权人：株式会社LG化学
申请日： 2019-09-04 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：本申请涉及透射率可变装置。本申请可以提供在具有优异的透射率可变特性的同时不引起诸如串扰现象、虹现象或镜像现象的问题的透射率可变装置，其可以应用于各种应用。
透射率可变装置

[发明专利]基板-CN201880039546.4有效
发明人：徐汉珉;黄智泳;宋哲沃;裴南锡;李承宪;吴东炫;柳正善 -专利权人：株式会社LG化学
申请日： 2018-06-29 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： G02F1/1339 文献下载
摘要：本申请涉及其上形成有特定类型的间隔物的基板、包括形成在所述间隔物上的配向膜的基板、以及使用这样的基板的光学装置。在本申请中，通过控制形成在基板上的间隔物的形状，即使当在顶部上形成配向膜并进行取向处理时，也可以进行均匀的取向处理而不受间隔物的段差等的任何影响，由此可以提供能够提供具有优异光学性能的装置的基板等。
基板

[发明专利]光学装置-CN202180069842.0在审
发明人：金正云;吴东炫;柳正善;金真弘;林恩政;金旼俊 -专利权人：株式会社LG化学
申请日： 2021-10-28 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： G02F1/1334 文献下载
摘要：本申请涉及光学装置。本申请的光学装置可以通过适当地保持液晶元件的单元间隙，在上基底与下基底之间具有优异的附接力，并使外基底的层合过程中诸如挤压或集聚的缺陷最小化来确保结构稳定性和良好的品质均匀性。
光学装置

[发明专利]光学装置-CN202180069835.0在审
发明人：金正云;柳正善;许斗宁;吴东炫 -专利权人：株式会社LG化学
申请日： 2021-10-28 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： G02F1/137 文献下载
摘要：本申请涉及光学装置。本申请的光学装置通过适当地保持液晶元件的单元间隙、在上基底与下基底之间具有优异的附接力并且使外基底的层合过程中的缺陷例如挤压或推挤最小化可以确保结构稳定性和良好的品质均匀性。
光学装置

[发明专利]涂覆组合物-CN201980010625.7有效
发明人：李玹准;柳正善;吴东炫;林恩政 -专利权人：株式会社LG化学
申请日： 2019-01-24 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： G02F1/135 文献下载
摘要：本申请涉及涂覆组合物、使用其的用于制造基底的方法、和光学装置。本申请可以提供通过使用其中纳米颗粒和间隔物分散在配向膜中的单层以减少工艺和成本的用于制造具有优异性能的基底的方法，以及通过这样的方法制造的光学装置，所述基底为在其表面上固定有间隔物的基底。
组合

[发明专利]光调制装置-CN202180041664.0在审
发明人：金旼俊;瑟极·巴利耶;吴东炫;柳正善;金真弘;金正云;徐汉珉 -专利权人：株式会社LG化学
申请日： 2021-07-22 - 公布日： 2023-04-21 - 主分类号： G02F1/13363 文献下载
摘要：本申请涉及光调制装置。本申请可以提供这样的光调制装置：其具有优异的光学特性例如透射率可变性和机械特性，并且控制黑色模式下在所有方向上的光泄露，并因此可以用于各种应用。所述光调制装置包括在第一基底与第二基底之间的光调制层，并且包括形成在第一基底或第二基底的表面上并且对于波长为550nm的光的面内延迟在100nm至300nm的范围内的相位延迟器膜。
调制装置

[发明专利]光调制装置-CN202180047897.1在审
发明人：金旼俊;吴东炫;柳正善;金真弘;金正云;徐汉珉 -专利权人：株式会社LG化学
申请日： 2021-07-27 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： G02F1/139 文献下载
摘要：本申请可以提供即使在其中施加压力的封装过程例如高压釜过程之后也可以稳定地保持设计的光学特性的光调制装置、光学装置或其制造方法。本申请还可以提供在有效地确保上基底与下基底之间的粘合力的同时还可以稳定地保持光调制层的取向状态的光调制装置、包括其的光学装置或其制造方法。
调制装置

[发明专利]透射率可变膜及其用途-CN201880079758.5有效
发明人：金正斗;李玹准;李渊槿;李周炫;吴东炫 -专利权人：株式会社LG化学
申请日： 2018-12-19 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： G02F1/133 文献下载
摘要：本申请涉及透射率可变膜及其用途。本申请可以提供具有双单元结构或单单元结构的透射率可变膜，其能够抑制在高温高湿度可靠性条件下在液晶层内部或者在基础膜与压敏粘合剂层之间的界面处形成气泡。示例性透射率可变膜可以应用于各种应用，包括需要控制透射率的各种建筑或汽车材料、或者眼部佩戴物，例如增强现实体验或运动护目镜、太阳镜、或头盔。
透射率可变及其用途

[发明专利]光调制装置和汽车-CN202180047904.8在审
发明人：金旼俊;吴东炫;柳正善;金真弘;金正云 -专利权人：株式会社LG化学
申请日： 2021-07-22 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：本申请可以提供包括各向异性塑料基底的光调制装置以及其中该光调制装置应用于天窗和/或玻璃的汽车，并且可以提供能够在利用光调制装置的同时消除或改善由于应用各向异性塑料基底而产生的缺点的汽车。
调制装置汽车

[发明专利]光调制装置的制造方法-CN202180048947.8在审
发明人：许斗宁;李范镇;李星润;金南圭;吴东炫 -专利权人：株式会社LG化学
申请日： 2021-09-15 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： G02F1/1337 文献下载
摘要：本发明提供了用于制造光调制装置的方法，所述方法包括以下步骤：在通过辊来传输具有形成在第一表面上的胶合层或粘合剂层的第一基底和具有形成在第一表面上的间隔物和液晶配向膜的第二基底的同时，将第一基底和第二基底附接，其中第一基底和第二基底被附接成使得各第一表面面向彼此。因此，本发明可以提供所谓的辊对辊过程，由此在实现光调制层的期望配向状态(例如，液晶配向状态)的同时，可以快速制造在两个基底之间具有优异的粘合性的光调制装置。
调制装置制造方法

[发明专利]透射率可变装置-CN201980056566.7有效
发明人：林恩政;金旼俊;谢尔盖·别利亚耶夫;吴东炫 -专利权人：株式会社LG化学
申请日： 2019-09-04 - 公布日： 2023-03-10 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：本申请涉及透射率可变装置。本申请可以提供在具有优异的透射率可变特性的同时不引起诸如串扰现象、虹现象或镜像现象的问题的透射率可变装置，其可以应用于各种应用。
透射率可变装置

[发明专利]粘合剂和液晶单元-CN202180040405.6在审
发明人：柳正善;吴东炫;金真弘;金正云;金旼俊 -专利权人：株式会社LG化学
申请日： 2021-07-02 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： C09J183/04 文献下载
摘要：本申请提供了压敏粘合剂和包含所述压敏粘合剂的液晶单元，所述压敏粘合剂适当地保持单元间隙，由于上基底与下基底之间的优异粘合力而有利于实现为柔性元件，并且能够通过使诸如压敏粘合剂的挤压或推挤的缺陷最小化来提供具有优异的电光特性和外观均匀性的液晶单元。这样的液晶单元可以应用于各种光调制装置例如天窗、眼部佩戴物、智能窗、窗保护膜、柔性显示元件、用于显示3D图像的主动延迟器或视角控制膜。
粘合剂液晶单元

[发明专利]光学装置-CN202180042060.8在审
发明人：金正云;吴东炫;柳正善;金真弘;金旼俊 -专利权人：株式会社LG化学
申请日： 2021-07-02 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： G02F1/1335 文献下载
摘要：本申请涉及光学装置。本申请的光学装置可以通过适当地保持液晶元件膜的单元间隙，通过在上基底与下基底之间具有优异的附接力，并且通过使在外基底的粘合过程中诸如挤压或集聚的缺陷最小化来确保结构稳定性和良好的品质均匀性。
光学装置

[发明专利]光调制装置-CN202180046107.8在审
发明人：金真弘;吴东炫;柳正善;金正云;金旼俊 -专利权人：株式会社LG化学
申请日： 2021-07-01 - 公布日： 2023-03-03 - 主分类号： G02F1/139 文献下载
摘要：在本申请中，可以提供光调制装置及其用途，所述光调制装置在黑色模式下实现低透射率的同时具有宽的透射率可变范围，并且不引起诸如液晶缺陷或可视性劣化的问题。
调制装置

[发明专利]光调制装置-CN202180040904.5在审
发明人：金旼俊;吴东炫;柳正善;金真弘;金正云 -专利权人：株式会社LG化学
申请日： 2021-07-29 - 公布日： 2023-02-28 - 主分类号： G02F1/1337 文献下载
摘要：本申请可以提供即使在其中施加压力的封装过程例如高压釜过程之后也可以稳定地保持设计的光学特性的光调制装置、其的光学装置或制造方法。本申请还可以提供在有效地确保上基底和下基底之间的粘合力的同时还可以稳定地保持光调制层的取向状态的光调制装置、包括其的光学装置或其制造方法。
调制装置

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