专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]等离子体射流保护罩-CN201220205110.8有效
  • 罗永春 - 厦门映日光电科技有限公司
  • 2012-05-09 - 2012-12-05 - C23C4/12
  • 本实用新型公开一种等离子体射流保护罩,包括射流芯体、外环和内环,其中的射流芯体一端面设有两组进气孔并与内、外环配合形成内、外两层保护气,形成的两层保护气环向前延伸以使等离子体射流与大气有效隔离。本实用新型是在大气等离子喷涂设备—喷枪上安装一个保护装置,通过气体保护,随焰流一起的全融或半融状态下的粉末受两层保护于保护气中,让其与大气隔离,减少其在高温中氧化和氮化,提供靶材膜层质量。
  • 等离子体射流护罩
  • [发明专利]等离子体射流保护罩-CN201210141257.X有效
  • 罗永春 - 厦门映日光电科技有限公司
  • 2012-05-09 - 2012-08-01 - C23C4/12
  • 本发明公开一种等离子体射流保护罩,包括射流芯体、外环和内环,其中的射流芯体一端面设有两组进气孔并与内、外环配合形成内、外两层保护气,形成的两层保护气环向前延伸以使等离子体射流与大气有效隔离。本发明是在大气等离子喷涂设备—喷枪上安装一个保护装置,通过气体保护,随焰流一起的全融或半融状态下的粉末受两层保护于保护气中,让其与大气隔离,减少其在高温中氧化和氮化,提供靶材膜层质量。
  • 等离子体射流护罩
  • [实用新型]一种喷涂旋转靶材的监控装置-CN201120376022.X有效
  • 罗永春 - 厦门映日光电科技有限公司
  • 2011-09-29 - 2012-05-30 - G05B19/048
  • 本实用新型公开一种喷涂旋转靶材的监控装置,包括控制器、控制设备电源的接触器,控制设备电源的接触器与控制器相连通,旋转靶材的管状金属基材冷却装置的进水管中设有与控制器相连通的温度传感器和流量传感器,旋转靶材的管状金属基材冷却装置的出水管中设有与控制器相连通的温度传感器,驱动旋转靶材的管状金属基材旋转的驱动部件上设有与控制器相连通的转速传感器,冷却喷枪的进水管中设有与控制器相连通的温度传感器和流量传感器,冷却喷枪的出水管中设有与控制器相连通的温度传感器,驱动喷枪移动的运动部件上设有与控制器相连通的位移传感器;本实用新型可防止靶材报废和喷涂设备的损坏,提高产品的良品率,减少喷涂设备的维护费用。
  • 一种喷涂旋转监控装置
  • [实用新型]一种喷涂旋转靶材用的喷咀-CN201120376025.3有效
  • 石煜;钟小平 - 厦门映日光电科技有限公司
  • 2011-09-29 - 2012-05-30 - C23C4/16
  • 本实用新型公开一种喷涂旋转靶材用的喷咀,主要由前部圆柱体、中部圆锥体、后部圆柱体连接构成,中间设有由后部圆锥形孔和前部圆柱形孔连接而成中心通孔,后部圆锥形孔的外径由后向前依次减少,后部圆柱体周向外表面设有凹槽,凹槽上装有密封圈,前部圆柱体的外径大于后部圆柱体外径,中部圆锥体的外径由后向前依次减少,前部圆柱体轴向上设有环形凹槽,中部圆锥体伸入到所述环形凹槽内,所述前部圆柱形孔上和后部圆锥形孔的一部分镶嵌有一层钨材料层;本实用新型使用寿命长,能提高旋转靶材的喷涂质量。
  • 一种喷涂旋转靶材用
  • [实用新型]一种喷涂旋转靶材的冷却装置-CN201120376529.5有效
  • 石煜;钟小平 - 厦门映日光电科技有限公司
  • 2011-09-29 - 2012-05-30 - C23C4/16
  • 本实用新型公开一种喷涂旋转靶材的冷却装置,包括冷却芯轴、进水管、出水管,冷却芯轴中心的两端设有互不连通的两段轴向阶梯孔,两段轴向阶梯孔靠近孔的底部设有连通冷却芯轴外表面的径向孔,冷却芯轴一端外表面靠近径向孔处设有圆柱形肩台与旋转靶材的管状金属基材相配合,圆柱形肩台外径大于冷却芯轴中段的外径,冷却芯轴另一端外表面套接一个活动环,活动环上也设有圆柱形肩台与旋转靶材的管状金属基材相配合,活动环旁设置一个锁在冷却芯轴外表面的螺母,冷却芯轴两端的轴向阶梯孔均以轴向密封周向可转动的方式与进水管和出水管相配合;本实用新型冷却效果好,有利于提高旋转靶材的成品率和质量。
  • 一种喷涂旋转冷却装置
  • [实用新型]一种旋转靶材的打磨装置-CN201120376095.9有效
  • 罗永春 - 厦门映日光电科技有限公司
  • 2011-09-29 - 2012-05-30 - B24B21/02
  • 本实用新型公开一种旋转靶材的打磨装置,包括支架、电机、砂带,支架的一端安装电机,电机的驱动轴上装有主动轮,支架的另一端设有一长条形的通孔,一根固定轴平行于电机驱动轴用螺母固定在所述的长条形的通孔上,固定轴上装有从动轮,砂带装在主动轮和从动轮之间,支架靠近电机一侧的下部枢接在一可沿旋转靶材轴向移动的驱动部件上,支架远离电机的一端枢接一配重机构;所述支架的中部可固定一根平行于电机驱动轴的销轴,销轴上装有张紧轮,张紧轮靠在砂带上;本实用新型打磨均匀、速度快,既降低操作人员的劳动强度又提高产品的抛光质量。
  • 一种旋转打磨装置
  • [实用新型]一种旋转型靶材-CN201120227518.0有效
  • 石煜 - 厦门映日光电科技有限公司
  • 2011-06-30 - 2012-02-22 - C23C14/34
  • 本实用新型公开一种旋转型靶材,包括管状的金属基材、镀膜材料层,管状的金属基材两端设有肩台,管状的金属基材外表面除两端肩台外镀有镍铝材料层,镍铝材料层外部再喷涂厚度均等的镀膜材料层;优选所述的管状的金属基材为管状不锈钢基材;所述的镀膜材料层为硅铝材料层;本实用新型镀膜材料层与管状金属基材外表面结合强度高,提高其在溅射镀膜工艺中使用的可靠性。
  • 一种旋转型靶材
  • [实用新型]一种平面硅靶材-CN201120227524.6有效
  • 罗永春 - 厦门映日光电科技有限公司
  • 2011-06-30 - 2012-01-25 - B32B9/04
  • 本实用新型公开一种平面硅靶材,包括平板型硅材,其特征在于:平板型硅材的背面依次镀有铬材料层、镍铬材料层、银材料层,最后在银材料层上涂铟材料层;所述的平板型硅材为正方形或长方形;所述的平板型硅材为多晶硅;本实用新型铟材料层与平板型硅材的粘合强度高且导电性能较好,提高靶材使用的可靠性。
  • 一种平面硅靶材

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