“卞鹏程”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果59个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]一种减少划伤的钨插塞化学机械抛光液-CN202210009303.4在审
发明人：崔晓坤;卫旻嵩;卞鹏程;王庆伟;徐贺;李国庆;王瑞芹;王永东 -专利权人：万华化学集团电子材料有限公司
申请日： 2022-01-06 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： C23F3/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种减少划伤的钨插塞化学机械抛光液及其应用，所述抛光液包含如下质量百分含量的组分：2%‑20%研磨剂、0.5％～5％的氧化剂、0.01％～0.5％的钨催化剂，0.01%‑0.05%的含有多羟基和羧基的物质，其余部分为去离子水。本发明的抛光组合物具有抛光速率快、表面质量好、稳定性优异等特点。
一种减少划伤钨插塞化学机械抛光

[发明专利]一种硅抛光组合物、制备方法及其应用-CN202210480119.8有效
发明人：王永东;卫旻嵩;卞鹏程;徐贺;王庆伟;李国庆;王瑞芹;崔晓坤 -专利权人：万华化学集团电子材料有限公司
申请日： 2022-05-05 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： C11D9/06 文献下载
摘要：本发明提供了一种硅抛光组合物、制备方法及其应用，所述硅抛光组合物以纳米二氧化硅胶体为主要抛光组分，并添加有哌嗪类物质和含有呋喃环的水溶性有机弱酸作为助剂。本发明的硅抛光组合物中同时添加哌嗪类物质和含有呋喃环的水溶性有机弱酸作为稳定性助剂，可有效抑制磨料团聚，延长抛光液的储存时间和使用寿命，与现有技术相比，具有明显优势。
一种抛光组合制备方法及其应用

[发明专利]一种实时检测碎渣机料位的方法及装置-CN202211441203.5在审
发明人：高健;卞鹏程;邓鹏颖;李献平;吴必诚 -专利权人：华能应城热电有限责任公司
申请日： 2022-11-17 - 公布日： 2023-05-26 - 主分类号： G01F23/80 文献下载
摘要：本发明公开了一种实时检测碎渣机料位的方法及装置，该方法包括，获取料位最低点到料位最高点之间的历史数据，所述历史数据包括计数率和料位高度，所述计数率和所述料位高度相互对应；对所述计数率和所述料位高度进行拟合，得到计算模型，根据碎渣机运行状态和所述历史数据设定料位范围；获取实时计数率，将所述实时计数率代入到所述计算模型中，得到实时料位高度，根据所述实时料位高度和所述料位范围确定料位状态，根据料位状态发出预警或维持正常运行。本申请通过对历史计数率和历史料位高度进行拟合，得到计算模型，根据实时计数率得到实时料位高度，以此来判断料位位置情况，从而进行相应预警，提高了料位检测的准确性。
一种实时检测碎渣机料位方法装置

[发明专利]一种铜阻挡层化学机械抛光液及其应用-CN202210235074.8有效
发明人： 卞鹏程;卫旻嵩;崔晓坤;王庆伟;李国庆;王瑞芹;徐贺;王永东 -专利权人：万华化学集团电子材料有限公司;万华化学集团股份有限公司
申请日： 2022-03-11 - 公布日： 2023-05-26 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种铜阻挡层化学机械抛光液及其应用，该抛光液包含研磨颗粒、双组分腐蚀抑制剂、络合剂、润湿剂、pH调节剂和氧化剂，余量为水。在铜阻挡层化学机械抛光过程中，本发明的双组分腐蚀抑制剂通过竞争吸附在铜的凹陷处形成保护膜；随着CMP的进行，腐蚀抑制剂分子膜会呈现“刹车”效应，使得铜的抛光速率逐渐降低，以达到全局平坦化的效果，改善抛光后晶圆的表面质量。
一种阻挡化学机械抛光及其应用

[发明专利]一种钨化学机械抛光液及其应用-CN202211556099.4在审
发明人：韩翠婷;崔晓坤;王瑞芹;卞鹏程;卫旻嵩;王庆伟;徐贺;李国庆;王永东 -专利权人：万华化学集团电子材料有限公司
申请日： 2022-12-06 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种含亲电亲核双功能有机硼化合物的钨化学机械抛光液，该抛光液还包含经硅烷偶联剂处理的研磨颗粒、催化剂、稳定剂、氧化剂、腐蚀抑制剂，余量为水。本发明的钨化学机械抛光液使用的亲电亲核双功能有机硼化合物可以增加体系稳定性，同时可以提高抛光后的表面质量。
一种化学机械抛光及其应用

[发明专利]一种高精度硅片抛光组合物及其应用-CN202211322745.0在审
发明人：王庆伟;卞鹏程;徐贺;王永东;李国庆;崔晓坤;王瑞芹;韩翠婷;卫旻嵩 -专利权人：万华化学集团电子材料有限公司
申请日： 2022-10-27 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种高精度硅片抛光组合物及其应用，所述高精度硅片抛光组合物以二氧化硅水溶胶及有机碱为主要抛光组分，额外添加有酚类化合物、芳基含氮化合物。本发明通过在硅片抛光组合物中额外加入酚类化合物、芳基含氮化合物，可以在硅片表面形成双层保护膜，从而降低硅片在CMP过程中的刻蚀速率，进一步提高硅晶圆的表面质量。
一种高精度硅片抛光组合及其应用

[发明专利]一种硅片抛光组合物及其应用-CN202211414477.5在审
发明人：王庆伟;卞鹏程;徐贺;王永东;王瑞芹;李国庆;崔晓坤 -专利权人：万华化学集团电子材料有限公司
申请日： 2022-11-11 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种硅片抛光组合物及其应用，所述硅片抛光组合物以二氧化硅水溶胶及有机碱为主要抛光组分，额外添加有酯类化合物、碱金属盐化合物。本发明通过在硅片抛光组合物中额外加入酯类化合物、碱金属盐化合物，可以有效减少CMP机台在硅片抛光过程中产生的震动频率，从而实现硅片在CMP过程中的均匀平稳去除，进一步提高硅晶圆的表面质量，延长设备使用寿命。
一种硅片抛光组合及其应用

[发明专利]一种硅抛光组合物及其应用-CN202211460086.7在审
发明人：王永东;卞鹏程;徐贺;王庆伟;王瑞芹;李国庆;崔晓坤;卫旻嵩 -专利权人：万华化学集团电子材料有限公司
申请日： 2022-11-17 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种硅抛光组合物及其应用，所述硅抛光组合物以纳米二氧化硅胶体为主要抛光组分，并添加有磷酸酯钾盐型阴离子表面活性剂和烷基糖苷型非离子表面活性剂作为助剂。本发明的硅抛光组合物中同时添加磷酸酯钾盐型阴离子表面活性剂和烷基糖苷型非离子表面活性剂作为循环稳定剂，可有效抑制循环抛光过程中硅溶胶磨料的团聚和结晶析出，减少划伤的产生，延长组合物的使用寿命，与现有技术相比，具有明显优势。
一种抛光组合及其应用

[发明专利]一种多晶硅抛光组合物及其应用-CN202211460388.4在审
发明人：王永东;卞鹏程;徐贺;王庆伟;王瑞芹;李国庆;崔晓坤;卫旻嵩 -专利权人：万华化学集团电子材料有限公司
申请日： 2022-11-17 - 公布日： 2023-03-03 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种多晶硅抛光组合物及其应用，所述多晶硅抛光组合物以纳米二氧化硅胶体为主要抛光组分，并添加有聚醇醚类物质和烷基葡糖酰胺类物质作为助剂。本发明的抛光组合物中同时添加聚醇醚类物质和烷基葡糖酰胺类物质作为表面活性剂，绿色低毒，在保持较高多晶硅去除速率的条件下，有效抑制碟形凹陷的产生，与现有技术相比，具有明显优势。
一种多晶抛光组合及其应用

[实用新型]一种实时监测电力配电柜开启状态的装置-CN202222076025.2有效
发明人：房凡洪;褚福亮;刘雷;孔维娜;周科;林浩然;陈曦;邰志珍;卞鹏程;杨明耀 -专利权人：国网山东省电力公司济宁供电公司;国家电网有限公司
申请日： 2022-08-08 - 公布日： 2023-02-17 - 主分类号： H02B1/30 文献下载
摘要：本实用新型提供一种实时监测电力配电柜开启状态的装置，包括：门栓位置感应器、信号传输航空插头以及柜门信号集采器；门栓感应装置包括装置固定帽、门栓位置感应弹性组件以及信号传输盖；装置固定帽固定设置在电力配电柜柜门的顶部，门栓正上方；信号传输盖设置在装置固定帽的顶部，门栓位置感应弹性组件磁吸吸合在装置固定帽的内部，并且与信号传输盖间隔一定距离设置；信号传输盖上设置接收拨片，信号传输航空插头一端连接门栓位置感应装置，另一端连接柜门信号集采器。操作人员开启柜门时打开门把手盖，转动门把手，门把手带动门栓下降解除闭锁柜门，触发门栓位置感应器动作，信号回路断开，产生位置信号变化。
一种实时监测电力配电柜开启状态装置

[发明专利]一种钨化学机械抛光液及其应用-CN202211087131.9在审
发明人：王瑞芹;崔晓坤;卞鹏程;王庆伟;徐贺;李国庆;王永东;卫旻嵩 -专利权人：万华化学集团电子材料有限公司;万华化学集团股份有限公司
申请日： 2022-09-07 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： C23F3/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种钨化学机械抛光液及其应用，所述钨抛光液包括二氧化硅磨料、铁盐催化剂、氧化剂、稳定剂、速率抑制剂、醛基化合物和水。本发明中的速率抑制剂可与醛基化合物生成希夫碱，利用希夫碱键对温度的敏感性，实现被抛光表面不平整度的调节，提高抛光表面质量。
一种化学机械抛光及其应用

[发明专利]一种化学机械抛光液及其应用-CN201811613972.2有效
发明人：姚颖;周文婷;荆建芬;杨俊雅;李恒;卞鹏程;黄悦锐 -专利权人：安集微电子（上海）有限公司
申请日： 2018-12-27 - 公布日： 2022-11-18 - 主分类号： C11D1/66 文献下载
摘要：本发明提供了一种化学机械抛光液，包含研磨颗粒和乙氧基化丁氧基化烷基醇。本发明的化学机械抛光液，通过加入特定分子结构的非离子表面活性剂，在获得高的二氧化硅(TEOS)去除速率的同时极大地改善了抛光后二氧化硅(TEOS)的表面粗糙度，并有效地减少了表面污染物的残留，保证抛光后获得较好的晶圆表面光洁度和平坦度，能够满足各种工艺条件下对介质材料表面的要求。
一种化学机械抛光及其应用

[发明专利]存储稳定的硅片抛光组合物的制备方法、组合物及其使用方法-CN202110611608.8有效
发明人：王庆伟;卞鹏程;崔晓坤;卫旻嵩 -专利权人：万华化学集团电子材料有限公司
申请日： 2021-06-02 - 公布日： 2022-09-20 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种存储稳定的硅片抛光组合物的制备方法、抛光组合物及其使用方法，在有机胺作为化学助剂加入抛光组合物之前，利用有机羧酸类物质与有机胺在加热的条件下进行脱水缩合反应后再加入抛光组合物中得到存储稳定的硅片抛光组合物；所述抛光组合物在使用前，加入碱液调节pH值并加热，重新分解成有机胺类物质。本发明的制备方法可以避免有机胺在制备及储存过程中挥发或失效，提高了硅片抛光组合物的抛光稳定性，与现有技术相比，具有显著优势。
存储稳定硅片抛光组合制备方法及其使用方法

[发明专利]一种铜阻挡层化学机械抛光组合物及其应用-CN202210276143.X在审
发明人： 卞鹏程;卫旻嵩;崔晓坤;王庆伟;王瑞芹;李国庆;徐贺;王永东 -专利权人：万华化学集团电子材料有限公司;万华化学集团股份有限公司
申请日： 2022-03-21 - 公布日： 2022-09-16 - 主分类号： C23F3/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种铜阻挡层化学机械抛光组合物及其应用，所述抛光组合物包含研磨颗粒、腐蚀抑制剂、络合剂、润湿剂、pH调节剂、氧化剂，余量为水。在铜阻挡层化学机械抛光过程中，本发明的抛光组合物既能够有效的抑制铜的抛光速率，且抛光后铜表面几乎无有机残留，克服了苯并三氮唑（BTA）有机残留的问题，改善了抛光后晶圆的表面质量。
一种阻挡化学机械抛光组合及其应用

[发明专利]一种配电终端离线检测方法、系统及平台-CN202011359019.7有效
发明人：刘印磊;李开灿;周科;刘倩影;邰志珍;丁鲁玺;刘金鑫;卞鹏程;李浩;付靖磊 -专利权人：国网山东省电力公司济宁供电公司;国家电网有限公司
申请日： 2020-11-27 - 公布日： 2022-09-13 - 主分类号： G01R31/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种配电终端离线检测方法、系统及平台，包括：周期检测加密机、前置服务器和采集服务器的启动状态；周期检测加密机的加解密和认证状态；周期检测前置服务器和采集服务器间的心跳状态；周期检测根据前置服务器和采集服务器间的隔离状态；设定检测线程，依次对上述各状态的检测结果进行判断，得到配电终端的离线检测结果和离线原因。不仅能快速检测到配电终端的离线状态，还可以准确定位离线原因和导致离线的异常节点，减少终端掉线消缺时间，有效保障配电自动化线路实时监测线路运行状态的能力，提升供电可靠性。
一种配电终端离线检测方法系统平台