专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种面向单晶硅片的激光外差应力分布测量装置及方法-CN202310724159.7在审
  • 庞亚军;李威 - 努美(天津)科技有限公司
  • 2023-06-19 - 2023-09-15 - G01N21/21
  • 本发明提供了一种面向单晶硅片的激光外差应力分布测量装置及方法,涉及应力测试技术领域,解决了现有技术中存在的每扫描一个点均需要切换1/4波片的主轴方向,导致系统的复杂度高和测量时间长的技术问题。该装置包括激光器、第一光纤偏振分束器、偏振控制器、光环形器、光纤耦合器、应力加倍系统、参考光系统、信号光系统和信号处理系统,激光器与第一光纤偏振分束器通过光纤连接,第一光纤偏振分束器分别与偏振控制器与参考光系统通过光纤连接,偏振控制器与光环形器通过光纤连接,光纤耦合器与光环形器通过光纤连接,信号光系统与光环形器通过光纤连接,光纤耦合器与应力加倍系统相对应,参考光系统和信号光系统均与信号处理系统相连接。
  • 一种面向单晶硅激光外差应力分布测量装置方法

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