“刘玮得”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网_中国专利网

首页在售求购查询申请展会资讯专利榜企服商城升级VIP

立即登录免费注册

在售专利
求购专利
查询专利
新闻资讯
技术展会
招商加盟
专利榜

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

专利名称

专利名称
专利号码
专利分类
申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

专利下载VIP

公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

钻瓜专利网为您找到相关结果6个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]研磨垫、研磨装置及制造研磨垫的方法-CN201410733404.1有效
发明人：冯崇智;姚伊蓬;洪永璋;刘玮得;王俊达 -专利权人：三芳化学工业股份有限公司
申请日： 2014-12-04 - 公布日： 2018-08-28 - 主分类号： B24B37/24 文献下载
摘要：本发明公开一种研磨垫、研磨装置及制造研磨垫的方法，该研磨垫包含具限制层的基底层。本发明也提供一种研磨装置及制造研磨垫的方法。
研磨装置制造方法

[发明专利]研磨垫及研磨装置-CN201710303447.X在审
发明人：冯崇智;姚伊蓬;王良光;刘玮得;吴文杰;洪永璋 -专利权人：三芳化学工业股份有限公司
申请日： 2017-05-03 - 公布日： 2018-07-13 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明公开一种研磨垫及研磨装置。该研磨垫包含一研磨层、一弹性基底层及一黏合剂，用于将该弹性基底层黏合至该研磨层，其中该弹性基底层的压缩率大于该研磨层的压缩率。本发明也提供一种研磨装置。
弹性基底层研磨装置研磨层研磨垫压缩率黏合剂黏合

[发明专利]吸附垫片-CN201010591675.X有效
发明人：冯崇智;姚伊蓬;王良光;吴文杰;刘玮得 -专利权人：三芳化学工业股份有限公司
申请日： 2010-12-16 - 公布日： 2012-07-04 - 主分类号： B24B41/06 文献下载
摘要：本发明涉及一种吸附垫片，其包括一垫片本体。该垫片本体具有一上表面、多个发泡孔洞及多个表面孔洞或至少一沟槽。该上表面用以吸附一基材。多个发泡孔洞位于该垫片本体的内部。多个表面孔洞或该沟槽开口于该上表面，但与多个发泡孔洞互不连通，多个表面孔洞或该沟槽是加工而成，且排列成至少一图案。由此，可减少该基材从该吸附垫片取下的时间。
吸附垫片

[发明专利]具有阻绝层的抛光垫和其制造方法-CN200910130360.2有效
发明人：冯崇智;姚伊蓬;洪永璋;王俊达;刘玮得 -专利权人：贝达先进材料股份有限公司
申请日： 2009-04-02 - 公布日： 2010-10-06 - 主分类号： B24D11/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种具有阻绝层的抛光垫和其制造方法，所述抛光垫包括底材、阻绝层和研磨层。所述底材是以高分子体包覆纤维层而成。所述阻绝层位于所述底材上。所述研磨层位于所述阻绝层上，所述研磨层为高分子弹性体且具有多个长柱状孔隙。因而，所述阻绝层可防止研磨液在抛光过程中渗透到底材，以提高抛光研磨效果和质量。
具有阻绝抛光制造方法

[发明专利]具有防止研磨面脱落的沟槽结构的研磨垫-CN200810126866.1无效
发明人：冯崇智;刘玮得;洪永璋;王俊达;姚伊蓬 -专利权人：贝达先进材料股份有限公司
申请日： 2008-07-10 - 公布日： 2010-01-13 - 主分类号： B24D13/14 文献下载
摘要：本发明涉及一种具有防止研磨面脱落的沟槽结构的研磨垫，其包括：基材和研磨层。所述基材具有表面。所述研磨层设置于所述表面上且显露所述基材周缘的部分所述表面，所述研磨层具有多个第一沟槽和多个第二沟槽，所述第一沟槽与所述第二沟槽相交，以界定多个研磨区域。显露的所述基材周缘的部分所述表面位于所述第一沟槽和所述第二沟槽与所述研磨垫周缘之间。借此，本发明的所述研磨垫可蕴含较多的研磨液且利于研磨残屑的排除，并且，所述研磨层不具有尖角的结构且不易脱落而成为残屑，因此可增加研磨质量和研磨效果。
具有防止研磨脱落沟槽结构

[发明专利]利用高功率激发射束对覆盖材料进行图案化的方法-CN200810127803.8有效
发明人：冯崇智;王俊达;洪永璋;刘玮得;姚伊蓬 -专利权人：三芳化学工业股份有限公司
申请日： 2008-06-25 - 公布日： 2009-12-30 - 主分类号： B44C1/22 文献下载
摘要：本发明涉及一种利用高功率激发射束对覆盖材料进行图案化的方法，其包括以下步骤：(a)提供基底材料，所述基底材料具有多个薄层，上下相邻的薄层具有不同的颜色；和(b)利用高功率激发射束在所述基底材料上形成至少一个图案，所述图案具有至少一个凹部，以显露不同颜色的所述薄层。借此，所述覆盖材料具有明显的层次感和丰富的色彩。再者，本发明对覆盖材料进行图案化的方法的工艺简单，且可快速地在所述基底材料上形成所述图案，所以可减少具有所述图案的覆盖材料的制造时间。
利用功率激发覆盖材料进行图案方法

1
共 6 条

友情链接：交换友情链接需要网站权重大于4，网站收录10W以上，如符合条件，请联系QQ：76009968。

关于我们寻求报道投稿须知广告合作版权声明网站地图友情链接企业标识联系我们

在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

版权所有钻瓜科技（天津）有限公司津ICP备15000985号津公网安备 12019202000206号http://www.vipzhuanli.com/公布日期

咨询在线客服

咨询在线客服

tel code back_top