专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种微透镜阵列投影系统-CN202221329298.7有效
  • 罗妮;冯晓甜;闫祥龙;陈金珠 - 华天慧创科技(西安)有限公司
  • 2022-05-30 - 2022-12-09 - G03B21/20
  • 本实用新型属于微透镜阵列投影技术领域,具体涉及一种微透镜阵列投影系统。包括依次布置的发光源、照明透镜、第一微透镜阵列、光刻掩膜、平板玻璃、遮光光阑和第二微透镜阵列;所述平板玻璃包括与光刻掩膜相连的第一平板玻璃,与遮光光阑相连的第三平板玻璃,所述第一平板玻璃和第三平板玻璃之间设有第二平板玻璃。本实用新型通过采用光刻掩膜代替传统菲林片,减少了场镜的使用,获得更远的投影距离和更高的亮度且通过增加遮光光阑起到了消除旁瓣图案杂光的效果。
  • 一种透镜阵列投影系统
  • [实用新型]一种非球面光纤耦合透镜-CN202221325634.0有效
  • 闫祥龙;罗妮;陈金珠;冯晓甜 - 华天慧创科技(西安)有限公司
  • 2022-05-30 - 2022-09-06 - G02B3/02
  • 本实用新型公开了一种非球面光纤耦合透镜,包括第一胶水层、玻璃层和第二胶水层;第一胶水层和第二胶水层之间分别设置在玻璃层的两侧,整体为双凸正屈光度;第一胶水层通过纳米压印成型形成非球面S1;第二胶水层通过纳米压印成型形成非球面S2;第一胶水层、玻璃层和第二胶水层折射LD发光芯片发出的光源,汇聚光斑全部耦合进光纤。制造结构面型简单、便于批量制作。通过设置第一胶水层、玻璃层和第二胶水层,整体为双凸正屈光度,面型均为非球面,结构简单,耦合效率高,耦合效率可达78%以上;有利于降低成本,提高良率,并且为微透镜的批量生产提供了基础,未来在现代光学加工中有极大的应用空间。
  • 一种球面光纤耦合透镜
  • [发明专利]一种非球面光纤耦合透镜及制造方法-CN202210602741.1在审
  • 闫祥龙;罗妮;陈金珠;冯晓甜 - 华天慧创科技(西安)有限公司
  • 2022-05-30 - 2022-08-05 - G02B3/02
  • 本发明公开了一种非球面光纤耦合透镜及制造方法,包括第一胶水层、玻璃层和第二胶水层;第一胶水层和第二胶水层之间分别设置在玻璃层的两侧,整体为双凸正屈光度;第一胶水层通过纳米压印成型形成非球面S1;第二胶水层通过纳米压印成型形成非球面S2;第一胶水层、玻璃层和第二胶水层折射LD发光芯片发出的光源,汇聚光斑全部耦合进光纤。制造结构面型简单、便于批量制作。通过设置第一胶水层、玻璃层和第二胶水层,整体为双凸正屈光度,面型均为非球面,结构简单,耦合效率高,耦合效率可达78%以上;有利于降低成本,提高良率,并且为微透镜的批量生产提供了基础,未来在现代光学加工中有极大的应用空间。
  • 一种球面光纤耦合透镜制造方法
  • [实用新型]一种可延伸成像景深的拼接镜头-CN202023126382.2有效
  • 罗妮;王林;冯晓甜 - 华天慧创科技(西安)有限公司
  • 2020-12-22 - 2021-07-09 - G02B7/02
  • 本实用新型公开了一种可延伸成像景深的拼接镜头,该镜头通过若干组阵列的镜头,沿阵列方向,每一组镜头厚度相对于其相邻的前一组镜头厚度逐渐减小,每一组镜头的后截距相同,成像的物距范围逐渐变化。该结构通过不同镜头的配合,可以实现较大物距范围,该结构中的系统成像系统无需调焦系统及操作,使得系统成像不因单颗镜片好坏受影响,进而实现大角度、大靶面高成像质量的需求,该结构既可以满足较大物距范围,同时采用免调焦封装以达到集成封装可大批量生产,性能可靠,结构稳定,是一种轻薄化的目标成像系统。
  • 一种延伸成像景深拼接镜头
  • [实用新型]一种印章及压印装置-CN202021696814.0有效
  • 李卫士;雷玫;徐甜;冯晓甜;李伟龙 - 华天慧创科技(西安)有限公司
  • 2020-08-14 - 2021-04-23 - B41K1/02
  • 本实用新型公开了一种印章及压印装置,该印章下表面上涂覆的胶层,不再将整个印章的下表面涂覆上胶层,而是采用间隔填充胶层的手段,相隔列填充,或相隔行填充,使得印章在压印过程中,印章和基底之间没有过多的胶体,从原材料和压印的一开始就减少了残留层的厚度,减少了压印过程需要克服的胶体存在的阻力,进一步的,大大的减少了大面积压印时需要克服的分子间阻力以及胶水本身在基板上扩散的阻力。从而实现超薄压印。
  • 一种印章压印装置
  • [实用新型]一种晶圆级光学系统-CN202021268593.7有效
  • 王林;李菲;冯晓甜 - 华天慧创科技(西安)有限公司
  • 2020-07-02 - 2021-01-01 - G02B3/00
  • 本实用新型涉及光学技术领域,公开了一种晶圆级光学系统,包括微透镜层、基底玻璃、第一截止膜、第二截止膜、第一光阑孔阵列层和第二光阑孔阵列层;微透镜层位于最上层,第一光阑孔阵列层和第二光阑孔阵列层位于基底玻璃一侧,第一光阑孔阵列层与第二光阑孔阵列层相对距离减小,避免了第一光阑孔阵列层大角度出射角光线对第二光阑孔阵列层的干扰,从而避免了杂光对成像的干扰。第一截止膜设置在第二截止膜的上方,第一截止膜为远红外截止膜,用于截止红外光;第二截止膜为近红外截止膜,用于截止可见光的红光,或可见光的红光和部分红外光。能够大量减少或避免上表面上红色光线反射造成系统的颜色差异,易于测量,增加客户满意度。
  • 一种晶圆级光学系统

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