专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体装置以及半导体装置的制造方法-CN202111632650.4在审
  • 内田悠 - 富士电机株式会社
  • 2021-12-29 - 2022-08-30 - H01L29/739
  • 本发明提供使嵌入氧化膜的鸟嘴变小或消失的半导体装置以及半导体装置的制造方法。所述半导体装置具备:半导体基板,其具有基板上表面;以及嵌入氧化膜,其设置在基板上表面,并且至少一部分嵌入比基板上表面更靠下方的位置,嵌入氧化膜的上表面具有与基板上表面平行的方向上的端部、以及中央部,嵌入氧化膜的上表面的端部配置在与基板上表面相同的高度位置,或者配置在比基板上表面更靠下方的位置,嵌入氧化膜的上表面的中央部配置在比上表面的端部更高的位置。
  • 半导体装置以及制造方法

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