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[实用新型]一种连续节拍式真空热处理工件的装备-CN202020795334.3有效
发明人：田世宇;田广科 -专利权人： 兰州广合新材料科技有限公司
申请日： 2020-05-14 - 公布日： 2020-11-27 - 主分类号： C21D1/773 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种连续节拍式真空热处理工件的装备。技术方案如下：装备包括依次连接设置的上料台、入口过渡仓、高温真空热处理室、气淬室、低温真空热处理室、强制冷却平台、出口过渡仓和下料台，上料台、入口过渡仓、强制冷却平台、出口过渡仓和下料台与高温真空热处理室及低温真空热处理室的底部处于同一水平面；气淬室与高温真空热处理室及低温真空热处理室的顶部处于同一水平面；真空获取系统与入口过渡仓、高温真空热处理室、气淬室、低温真空热处理室和出口过渡仓连通；传送机构用于运转装载工件的工件盘；全自动控制系统用于控制工作节拍间隔周期。本实用新型可实现对批量工件工业化规模连续真空热处理加工，具有生产效率高、质量稳定、能耗低等优点。
一种连续节拍真空热处理工件装备

[实用新型]非超高真空环境离子镀膜制备低氧含量易氧化薄膜的装置-CN202020057782.3有效
发明人：田广科;田世宇;张海军 -专利权人： 兰州广合新材料科技有限公司;兰州交通大学
申请日： 2020-01-13 - 公布日： 2020-08-14 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种镀膜装置，具体涉及一种非超高真空环境离子镀膜制备低氧含量易氧化薄膜的装置。本实用新型的技术方案如下：非超高真空环境离子镀膜制备低氧含量易氧化薄膜的装置，在离子镀膜的镀膜腔室中，镀膜靶源对向基片台，镀膜腔室中设有辅助靶源和遮挡板，所述遮挡板设置在镀膜靶源与辅助靶源之间，所述遮挡板将辅助靶源的工作区域与镀膜靶源及基片台的工作区域予以隔离。本实用新型提供的非超高真空环境离子镀膜制备低氧含量易氧化薄膜的装置，能够实现在非超高真空环境条件下低氧含量易氧化薄膜的制备，镀膜工艺中的本底真空度条件较为宽松，制成薄膜含氧量显著降低，适合在大型工业化镀膜生产线上应用。
超高真空环境离子镀膜制备低氧含量氧化薄膜装置

[发明专利]一种连续节拍式真空热处理工件的装备及方法-CN202010405570.4在审
发明人：田世宇;田广科 -专利权人： 兰州广合新材料科技有限公司
申请日： 2020-05-14 - 公布日： 2020-07-17 - 主分类号： C21D1/773 文献下载
摘要：本发明涉及一种连续节拍式真空热处理工件的装备及方法。技术方案如下：装备包括依次连接设置的上料台、入口过渡仓、高温真空热处理室、气淬室、低温真空热处理室、强制冷却平台、出口过渡仓和下料台，上料台、入口过渡仓、强制冷却平台、出口过渡仓和下料台与高温真空热处理室及低温真空热处理室的底部处于同一水平面；气淬室与高温真空热处理室及低温真空热处理室的顶部处于同一水平面；真空获取系统与入口过渡仓、高温真空热处理室、气淬室、低温真空热处理室和出口过渡仓连通；传送机构用于运转装载工件的工件盘；全自动控制系统用于控制工作节拍间隔周期。本发明可实现对批量工件工业化规模连续真空热处理加工，具有生产效率高、质量稳定、能耗低等优点。
一种连续节拍真空热处理工件装备方法

[发明专利]非超高真空环境离子镀膜制备低氧含量易氧化薄膜的装置及方法-CN202010029774.2在审
发明人：田广科;田世宇;张海军 -专利权人： 兰州广合新材料科技有限公司;兰州交通大学
申请日： 2020-01-13 - 公布日： 2020-04-17 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及一种镀膜装置及方法，具体涉及一种非超高真空环境离子镀膜制备低氧含量易氧化薄膜的装置及方法。本发明的技术方案如下：非超高真空环境离子镀膜制备低氧含量易氧化薄膜的装置，在离子镀膜的镀膜腔室中，镀膜靶源对向基片台，镀膜腔室中设有辅助靶源和遮挡板，所述遮挡板设置在镀膜靶源与辅助靶源之间，所述遮挡板将辅助靶源的工作区域与镀膜靶源及基片台的工作区域予以隔离。本发明能够实现在非超高真空环境条件下低氧含量易氧化薄膜的制备，一方面镀膜工艺中的本底真空度条件较为宽松，另一方面制成薄膜含氧量显著降低，特别适合在大型工业化镀膜生产线上应用。
超高真空环境离子镀膜制备低氧含量氧化薄膜装置方法