专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]透射率可变膜-CN201780052229.1有效
  • 金正云;柳秀英;朴文洙;全炳建;金信英;李知妍 - 株式会社LG化学
  • 2017-10-18 - 2021-10-26 - G02B26/02
  • 本申请涉及透射率可变膜及其用途,本申请的透射率可变膜通过应用包含展曲取向液晶分子的液晶配向膜而可以控制液晶界面的预倾斜,并且可以根据液晶配向膜的平均倾斜角使液晶层或液晶界面垂直和水平取向以确保驱动的均匀性和快速响应速度。此外,通过应用液晶配向膜,本申请的透射率可变膜可以通过控制液晶配向膜中液晶分子的排列来用不包括摩擦处理的简单的涂覆‑干燥‑固化方法而非使用常规摩擦法的预倾斜控制方法以各种模式实现。
  • 透射率可变
  • [发明专利]用于处理基板的装置和方法-CN202010589986.6在审
  • 全炳建;金铉镇;尹基星;成哓星;安宗焕 - 细美事有限公司
  • 2020-06-24 - 2020-12-29 - H01J37/32
  • 本发明涉及用于处理基板的装置和方法,所述装置包括:腔室,在所述腔室中具有处理空间;基板支承单元,其在处理空间中支承基板;气体供应单元,其将气体供应到处理空间中;和等离子体生成单元,等离子体生成单元包括RF电源,所述RF电源施加RF功率,其中等离子体生成单元通过使用RF功率从气体生成等离子体。基板支承单元包括:支承板,其支承基板;和加热单元,其控制基板的温度。加热单元包括:多个加热构件,其设置在支承板的不同区域中;加热器电源,其将功率施加至多个加热构件;滤波器,其防止多个加热构件与RF电源之间的耦合;和检测单元,其设置在多个加热构件与滤波器之间,且检测支承板的各个区域的等离子体特性。
  • 用于处理装置方法
  • [发明专利]偏光板-CN201610866044.1有效
  • 全炳建;朴文洙;尹赫 - LG化学株式会社
  • 2012-12-18 - 2019-09-10 - G02B5/30
  • 本发明涉及一种偏光板和显示器。所述偏光板包括:偏光片;和延迟层,该延迟层层叠在所述偏光片的一侧上,并且该延迟层包括单轴延迟膜或双轴延迟膜,其中,在50度的倾斜角时所述偏光板的反射率为12%以下。所述偏光板在宽的波长范围内可以显示所需的特征,并且在倾斜时具有优异的反射性和清晰度。
  • 偏光
  • [发明专利]偏光板-CN201610871583.4有效
  • 全炳建;朴文洙;尹赫 - LG化学株式会社
  • 2012-12-18 - 2019-05-28 - G02B5/30
  • 本发明涉及一种偏光板和显示器。所述偏光板包括:偏光片;和延迟层,该延迟层层叠在所述偏光片的一侧上,并且该延迟层包括单轴延迟膜或双轴延迟膜,其中,在50度的倾斜角时所述偏光板的反射率为12%以下。所述偏光板在宽的波长范围内可以显示所需的特征,并且在倾斜时具有优异的反射性和清晰度。
  • 偏光

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