专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]扩散阻挡层的淀积方法-CN98105911.2有效
  • 阿加伊·加因;伊利沙白·威茨曼 - 摩托罗拉公司
  • 1998-03-30 - 1998-10-07 - H01L21/3205
  • 采用金属有机化学淀积可以形成难熔金属氮化物和难熔金属硅氮化物层(64)。特别地,采用乙基三(二乙基酰胺基)钽(ETDET)和氨(NH3)通过化学汽相淀积可形成氮化钽(TaN)(64)。加入硅烷(SiH4),还可以形成钽硅氮化物(TaSiN)层(64)。上述薄膜均可在硅片温度低于400摄氏度时形成,并且都有较低的含碳(C)量。因此,本发明的实施例可以用来制造氮化钽(TaN)或钽硅氮化物(TaSiN)层(64),该层具有较好的保形性和扩散阻挡性。
  • 扩散阻挡方法

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