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[发明专利]一种全息图纹膜及其制备工艺-CN202211179231.4在审
发明人：易治明;向雨;付建访 -专利权人：东莞市光纳光电科技有限公司
申请日： 2022-09-27 - 公布日： 2022-12-20 - 主分类号： C09J7/50 文献下载
摘要：本申请涉及激光全息图纹膜领域，更具体地说，涉及一种全息图纹膜及其制备工艺。一种全息图纹膜，包括塑料基层、离型层、信息层、模压层、介质层和印胶层，其特征在于，所述信息层由信息胶水涂覆于所述离型层得到，所述信息胶水包括以下重量份的原料制备得到：聚丙烯酸乳液20‑25份、三聚氰胺甲醛树脂15‑20份、感光乳胶5‑10份、交联剂1‑5份、纳米二氧化硅10‑15份、明胶10‑20份、质量分数为5‑10%的硝酸银溶液1‑5份和其他功能性试剂1‑2份，该信息层结构稳定，受热不易发生形变，能提高信息复制的精准度且不易出现发雾的现象。
一种全息图及其制备工艺

[实用新型]一种用于集成电路的装饰叠层结构-CN201820123541.7有效
发明人： 付建访 -专利权人： 付建访
申请日： 2018-01-25 - 公布日： 2018-09-18 - 主分类号： H01L23/31 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于集成电路的装饰叠层结构，所述装饰叠层结构包括自上而下顺次设置的镀膜层(4)、纹理层(3)和集成电路板(1)。解决了目前集成电路(IC)通常使用油墨喷涂来改变其外观颜色和质感，但是油墨喷涂形成的装饰层存在难以实现高光、难以制定特定Logo图案等问题。
装饰叠层集成电路油墨喷涂本实用新型集成电路板外观颜色镀膜层纹理层装饰层高光质感制定