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[发明专利]固态成像器件的制造方法及固态成像器件、以及彩色滤光片的制造方法及彩色滤光片-CN201680065727.5有效
发明人：高桥聪;井本知宏 -专利权人：凸版印刷株式会社
申请日： 2016-11-15 - 公布日： 2023-01-03 - 主分类号： H01L27/14 文献下载
摘要：降低彩色滤光片中的混色而成为高精细。在配置有光电转换器件的半导体基板(10)的表面上形成第一彩色滤光片膜，在第一彩色滤光片膜的表面上形成感光性树脂掩模材料层之后，将在与第二以后的彩色滤光片的形成位置相对的感光性树脂掩模材料层的一部分处形成有开口部的感光性树脂掩模材料层作为蚀刻掩模，通过使用了干式蚀刻气体的干式蚀刻除去第一彩色滤光片膜的一部分，以形成第一彩色滤光片(14)。此时，将第一彩色滤光片用材料与干式蚀刻气体的反应产物形成为设置于各彩色滤光片间的隔壁(17)，从而形成第二以后的彩色滤光片(15、17)。
固态成像器件制造方法以及彩色滤光

[发明专利]热硬化性着色组合物及彩色滤光片的制造方法-CN201780006978.0有效
发明人：日岐宪司;井本知宏;高桥聡 -专利权人：东洋油墨SC控股株式会社;东洋色材株式会社;凸版印刷株式会社
申请日： 2017-01-11 - 公布日： 2021-01-12 - 主分类号： G02B5/20 文献下载
摘要：本发明提供一种对剥离液的耐性优异的固体摄像元件用彩色滤光片热硬化性着色组合物及彩色滤光片的制造方法。本发明的课题利用一种热硬化性着色组合物来解决，其用于固体摄像元件用彩色滤光片的制造，所述固体摄像元件用彩色滤光片包括对着色层通过干式蚀刻进行图案化而成的着色图案，所述热硬化性着色组合物包含：颜料(A)、分散剂(B)、热硬化性化合物(C)及溶剂(D)，所述颜料(A)于所述热硬化性着色组成物的总固体成分中所占的比例为50质量％以上，且所述分散剂(B)包含具有酸性官能基的分散剂(b1)和/或具有碱性官能基的分散剂(b2)，且所述热硬化性化合物(C)包含山梨糖醇的缩水甘油醚化环氧化合物。
化性着色组合彩色滤光制造方法

[发明专利]固体成像元件及其制造方法-CN201880070119.2在审
发明人： 井本知宏;高桥聪 -专利权人：凸版印刷株式会社
申请日： 2018-10-03 - 公布日： 2020-06-12 - 主分类号： H01L27/146 文献下载
摘要：提供一种混色得以抑制的高精细且灵敏度良好的固态成像元件。固态成像元件具备：具有光电转换元件(11)的半导体基板(10)、具有多个颜色的彩色滤光片的彩色滤光片层、分隔壁(17)以及透明树脂层(12)。第1色的彩色滤光片(14)的膜厚A、透明树脂层(12)的膜厚B、第1色以外的颜色的彩色滤光片(15、16)的膜厚C、透明树脂层(12)的可见光的透过率D、以及分隔壁(17)的尺寸E满足(1)至(5)。200[nm]≤A≤700[nm]…(1)；0[nm]B≤200[nm]…(2)；A+B‑200[nm]≤C≤A+B+200[nm]…(3)；D≥90[％]...(4)；E≤200[nm]...(5)。
固体成像元件及其制造方法

[发明专利]固体拍摄元件及其制造方法-CN201780077151.9在审
发明人： 井本知宏;高桥聪 -专利权人：凸版印刷株式会社
申请日： 2017-12-22 - 公布日： 2019-07-30 - 主分类号： H01L27/146 文献下载
摘要：提供一种减弱了混色的高精细且灵敏度良好的固体拍摄元件。固体拍摄元件具有：半导体基板(10)，其二维地配置有多个光电变换元件(11)；滤色层(30)，其与光电变换元件(11)对应地以预先设定的规则图案二维地配置有多种颜色的滤色器；以及下层平坦化层(12)，其仅配置于第1色的滤色器(14)与半导体基板(10)之间。在第1色的滤色器(14)的膜厚设为A[nm]、上述下层平坦化层(12)的膜厚设为B[nm]、除了第1色以外的颜色的滤色器(15、16)的膜厚设为C[nm]的情况下，满足下述算式。200[nm]≤A≤700[nm]，0[nm]≤B≤200[nm]，C≤A+B+200[nm]。
滤色器固体拍摄元件膜厚光电变换元件半导体基板平坦化层下层配置算式规则图案高精细灵敏度滤色层二维混色制造

[发明专利]反射型光掩模及其制造方法-CN201480038079.5有效
发明人：渡边原太;井本知宏;福上典仁 -专利权人：凸版印刷株式会社
申请日： 2014-08-28 - 公布日： 2018-11-09 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：反射型光掩模(10)具有基板(11)；形成在该基板(11)上的多层反射膜(12)，该多层反射膜反射平版印刷用的包含波长5nm以上15nm以下的光的曝光光；形成在该多层反射膜(12)上的吸收膜(14)，该吸收膜吸收曝光光且同时形成有电路图案(15)或者电路图案形成预定区域；在电路图案(15)或者电路图案形成预定区域的外周侧，通过除去基板(11)上的多层反射膜(12)和吸收膜(14)的一部分而形成的遮光区域(B)，该遮光区域遮蔽由多层反射膜(12)反射的曝光光的一部分；以及在该遮光区域(B)的露出的基板表面(11b)的一部分上以3000nm以下的间距形成的多个凸部(1)，该多个凸部抑制曝光光所含的入射到遮光区域(B)的带外光的反射，所述带外光具有140nm以上800nm以下的波长。
反射型光掩模及其制造方法