专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]蚀刻装置用环形部件及使用其的基板的蚀刻方法-CN201910739342.8有效
  • 黄成植;李在钒;吴浚禄;闵庚烈;金京仁;姜仲根 - SKC索密思株式会社
  • 2019-08-12 - 2023-06-06 - H01L21/67
  • 本发明涉及一种蚀刻装置用环形部件及使用其的基板的蚀刻方法,包括:主体,由主体顶面、主体底面、主体外径面及主体内径面围成,主体顶面和主体底面隔开规定间隔,主体外径面为将主体顶面的外侧轮廓线和主体底面的外侧轮廓线相连接的面,主体内径面与主体顶面的内侧轮廓线相连接且包围主体的一部分或全部;及安置部,由安置部顶面、安置部底面及安置部内径面围成,安置部顶面的外径直接连接到主体内径面且安置部顶面位于低于主体顶面的位置,安置部底面与安置部顶面隔开规定间隔且与主体底面连接,安置部内径面为将安置部顶面的内侧轮廓线和安置部底面的内侧轮廓线相连接的面。
  • 蚀刻装置环形部件使用方法
  • [发明专利]陶瓷部件及包括该陶瓷部件的等离子体蚀刻装置-CN202180010556.7在审
  • 黄成植;吴浚禄;闵庚烈;金京仁;姜仲根;韩荣煜 - SKC索密思株式会社
  • 2021-02-09 - 2022-10-18 - C04B35/563
  • 实施方式涉及一种陶瓷部件及包括其的等离子体蚀刻装置等。一实施方式涉及一种陶瓷部件,其为应用于等离子体蚀刻装置的陶瓷部件,上述陶瓷部件的特征在于,上述陶瓷部件包括复合材料以及与上述复合材料相接填充的基质,上述复合材料包括选自由碳化硼基材料和碳基材料中的一种,上述基质包括碳化硼基材料,上述复合材料的碳化硼基材料在通过拉曼光谱学测定的拉曼位移光谱中,在481cm‑1附近的峰的强度Ia与在534cm‑1附近的峰的强度Ib之总和Iab和在270cm‑1附近的峰的强度Ic与在320cm‑1附近的峰的强度Id之总和Icd的比Iab/Icd为0.7至2.8,上述复合材料的碳基材料在通过拉曼光谱学测定的拉曼位移光谱中,G带峰的强度Ie与D带峰的强度If的比Ie/If为0.2至2。
  • 陶瓷部件包括等离子体蚀刻装置

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