专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]镀膜生产线的真空系统-CN201911116054.3在审
  • 唐洪波;黄乐;孙桂红;黄国兴;祝海生 - 湘潭宏大真空技术股份有限公司
  • 2019-11-15 - 2021-05-18 - C23C14/56
  • 本发明提供了镀膜生产线的真空系统,所述镀膜生产线包括多个依次连接的箱体,各箱体内为腔室,待镀膜的基片在各所述腔室内运行,待镀膜的基片在每个独立的腔室内完成相应工艺,各箱体之间设有门阀,以将各个箱体对应的腔室分隔开来,所述真空系统,包括至少一泵组、主抽气管道、至少一泵组管道和多组抽真空组件,每个箱体设有一组抽真空组件,各组抽真空组件并联连接后通过主抽气管道和泵组管道连接泵组。本发明所述真空系统均匀布置在各个箱体上,保证各个腔室均匀的被抽真空;各个腔室之间设有门阀,使各个腔室被分隔成独立的功能室;包括波纹管和支撑架,有效降低抽取真空时的震动和噪声;各部件充分利用镀膜生产线的高度差,布置紧凑。
  • 镀膜生产线真空系统
  • [发明专利]ARC镀膜生产线的传送系统-CN201911110614.4在审
  • 祝海生;陈立;唐洪波;唐莲;薛闯;金诚明;凌云;孙桂红;梁红;黄国兴;黄乐 - 湘潭宏大真空技术股份有限公司
  • 2019-11-14 - 2021-05-14 - C23C14/56
  • 本发明提供了ARC镀膜生产线的传送系统,ARC镀膜生产线包括多个依次连接的箱体,多个箱体依次连接形成U形通道,所述传送系统包括多组传送组件,每个箱体内布置一组传送组件,多组传送组件依次连接形成U形传送路径,每组传送组件包括传动架、电源、传动电机、传动带和传动组件,待镀膜的基片安装在基片架上,基片架架设在传动组件上,传动组件带动所述基片架沿着所述U形传送通道运行。本发明传送路径沿着U形传送通道布置,多个传送组件和传动电机沿着传送路径均匀布置,使传送带均匀受力、传送平稳,基片架同时架设在至少两个内传动轮上,且内传动轮为内凹圆周面,使基片架稳定的支撑在内传动轮上且传送平稳。
  • arc镀膜生产线传送系统
  • [发明专利]用于ARC镀膜生产线的基片架-CN201911106235.8在审
  • 祝海生;陈立;薛闯;凌云;孙桂红;梁红;黄国兴;黄乐 - 湘潭宏大真空技术股份有限公司
  • 2019-11-13 - 2021-05-14 - C23C14/50
  • 本发明提供了用于ARC镀膜生产线的基片架,用于装载待镀膜的基片,所述基片架在镀膜生产线上运行,包括基片架本体、框架组件和盖板组件,框架组件连接基片架本体的各侧边,基片架本体上设有基片区,基片区包括彼此独立的第一基片区、第二基片区和第三基片区,盖板组件包括第一盖板、第二盖板和第三盖板,第一盖板、第二盖板和第三盖板分别可拆卸的盖合在第一基片区、第二基片区和第三基片区上。本发明所述基片架可装载多种和多个基片,基片架分为多个基片区域,每个基片区域对应配有相应盖板,所述盖板可拆卸的覆盖在对应的基片区域,以分区利用各个基片区域,且防止各基片区域受到污染,框架组件保护基片架本体且稳定承重。
  • 用于arc镀膜生产线基片架
  • [发明专利]镀膜机离子源总装-CN201911085597.3在审
  • 唐洪波;黄乐;孙桂红;黄国兴;祝海生 - 湘潭宏大真空技术股份有限公司
  • 2019-11-08 - 2021-05-11 - H01J37/32
  • 本发明提供了镀膜机离子源总装,包括壳体和安装在壳体上的离子源,壳体为长方体结构,壳体一面开口、具有容纳腔,离子源位于所述壳体的容纳腔内,离子源的上端和下端各设有一个安装柱,安装柱穿过壳体,离子源通过两个安装柱架设在壳体上,壳体侧面上设有安装翼,所述开口一端沿着开口一周设有密封台。本发明壳体和离子源装配成一个总装,可形成一个标准件或定制件,直接将其安装在镀膜生产线的腔室壁面,无需其它零散部件进行支撑和密封,安装和维修方便,壳体上有抽真空孔、辅助孔等功能性设置。
  • 镀膜离子源总装
  • [发明专利]用于镀膜机的离子源-CN201911085658.6在审
  • 唐洪波;黄乐;孙桂红;黄国兴;祝海生 - 湘潭宏大真空技术股份有限公司
  • 2019-11-08 - 2021-05-11 - C23C14/46
  • 本发明提供了用于镀膜机的离子源,包括本体、限位柱和调节板,限位柱固定连接在本体的顶部,调节板一端设有安装孔,另一端开设有多个弧形孔,不位于本体顶部的中心,镀膜机的壳体的顶面设有通孔,限位柱穿过壳体顶面的通孔后再穿过调节板的安装孔。本发明的离子源本体和安装柱通过铰接杆铰接,离子源本体可根据安装需要转动,可根据限位杆的位置和移动判断离子源本体的位置和移动,在调节板的弧形孔中插入限位杆可限制本体的移动范围。
  • 用于镀膜离子源
  • [发明专利]一种镀膜机自动控制膜厚度的方法-CN201911276384.9在审
  • 唐洪波;黄乐;孙桂红;黄国兴;祝海生 - 湘潭宏大真空技术股份有限公司
  • 2019-12-12 - 2021-03-12 - C23C14/54
  • 本发明公开了一种镀膜机自动控制膜厚度的方法,所述的方法包括:步骤a)待镀膜基片通过基片架传输至真空镀膜室,启动真空泵直至真空镀膜室内真空度达2.65×10‑3MPa;步骤b)厚度传感器初测原始基片厚度后向数据处理器发送初始数据,开启基片架旋转开关,开启离子泵电源,开始进行磁控溅射镀膜;步骤c)厚度传感器实时检测基片镀膜时的厚度变化值,并将变化值发送至数据处理器;步骤d)所述数据处理器记录基片的实时厚度数据,控制离子源电源的启停;步骤e)关闭真空泵,启动镀膜下一工序。本发明提供镀膜机自动控制膜厚度的方法,可通过实时检测溅射过程中的膜厚度,再通过控制系统控制镀膜机启停,从而达到自动控制膜厚度的目的。
  • 一种镀膜自动控制厚度方法

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